CN210668296U - 一种便于清洁的半导体制造设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种便于清洁的半导体制造设备，属于半导体制造技术领域，包括底座，所述底座的上表面固定安装有刻蚀槽，刻蚀槽内部设置有两个耐腐蚀滤框，耐腐蚀滤框穿过刻蚀槽上表面开设的插孔延伸出刻蚀槽，耐腐蚀滤框的外表面固定安装有限位块；通过设置螺柱、活动板、滑杆、刮环和刮板，利用螺柱的转动带动活动板向上或向下运动，进而通过滑杆带动刮环向上或向下运动，进而对刻蚀槽的内侧壁进行清理，同时刮板跟随转轴a同步转动对刻蚀槽内侧壁的下表面进行清理，进而可以对刻蚀槽内侧壁进行全方位清洁，同时利用耐腐蚀滤框来盛放半导体器件，避免刻蚀产生的较大的杂质调入到刻蚀槽内，结构简单，操作方便。
Description
技术领域
本实用新型属于半导体制造技术领域，具体涉及一种便于清洁的半导体制造设备。
背景技术
半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在消费电子、通信系统、医疗仪器等领域有广泛应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，今日大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，而硅更是各种半导体材料中，在商业应用上最具有影响力的一种。
现有的半导体制造过程中刻蚀后会产生杂质，杂质积聚不方便清理刻蚀槽，给后续的刻蚀作业带来不便，同时在刻蚀时缺乏对刻蚀液的搅拌结构，使得底部的刻蚀液与器件之间不能够很好的接触。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种便于清洁的半导体制造设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种便于清洁的半导体制造设备，包括底座，所述底座的上表面固定安装有刻蚀槽，所述刻蚀槽内部设置有两个耐腐蚀滤框，所述耐腐蚀滤框穿过刻蚀槽上表面开设的插孔延伸出刻蚀槽，所述耐腐蚀滤框的外表面固定安装有限位块，所述限位块的外表面与限位槽的内侧壁贴合，且限位槽开设在刻蚀槽的上表面，所述限位块通过螺栓固定安装在刻蚀槽的上表面，所述刻蚀槽的下表面卡接有密封轴承a，且密封轴承a的内侧壁套接有转轴a，所述转轴a的底端与驱动电机a的输出轴固定连接，所述驱动电机a固定安装在刻蚀槽的下表面，所述转轴a的外表面固定安装有若干个搅拌杆，所述转轴a的外表面还固定连接有两个刮板，所述刮板的下表面与刻蚀槽内侧壁的下表面贴合，所述刻蚀槽的上表面固定安装有框架，所述框架内侧壁的上表面和刻蚀槽的上表面均卡接有密封轴承b，且两个密封轴承b的内侧壁均套接有转轴b，且两个转轴b相对的一端分别与螺柱的两端固定连接，所述框架上的转轴b与驱动电机b的输出轴固定连接，所述驱动电机b固定安装在框架的上表面，所述驱动电机b和驱动电机a均与外接电源电性连接，所述螺柱的外表面螺纹连接有螺纹帽，所述螺纹帽卡接在活动板的上表面，所述活动板的下表面与滑杆的顶端固定连接，所述滑杆的外表面套接有滑套，所述滑套卡接在刻蚀槽的上表面，所述滑杆的底端与刮环的上表面固定连接，所述刮环的外表面与刻蚀槽的内侧壁贴合，所述刻蚀槽的下表面设置有出液管，所述出液管上设置有出液阀。
采用上述方案，通过设置螺柱、活动板、滑杆、刮环和刮板，利用螺柱的转动带动活动板向上或向下运动，进而通过滑杆带动刮环向上或向下运动，进而对刻蚀槽的内侧壁进行清理，同时刮板跟随转轴a同步转动对刻蚀槽内侧壁的下表面进行清理，进而可以对刻蚀槽内侧壁进行全方位清洁，同时利用耐腐蚀滤框来盛放半导体器件，避免刻蚀产生的较大的杂质调入到刻蚀槽内，结构简单，操作方便，通过设置限位块配合螺栓对耐腐蚀滤框进行安装固定，便于对耐腐蚀滤框的拆卸取出，同时利用转轴a带动搅拌杆转动对刻蚀液进行搅拌，使得刻蚀液与半导体器件接触更加全面，刻蚀效果更好，完善功能多样性。
上述方案中，需要说明的是，所述驱动电机a和驱动电机b的型号可以为YE2-112M-4。
作为一种优选的实施方式，所述耐腐蚀滤框上的限位块数量为两个，且两个限位块分别位于耐腐蚀滤框外表面的左右两侧。
采用上述方案，通过设置有两个限位块来对耐腐蚀滤框进行限位，使得耐腐蚀滤框的安装定位效果更好，有效避免在刻蚀过程中发生移位晃动的现象。
作为一种优选的实施方式，所述滑杆的数量为两个，且两个滑杆分别位于刮环上表面的左右两侧。
采用上述方案，通过设置两个滑杆来连接活动板和刮环，使得活动板通过滑杆带动刮环上下运动时不易晃动且更加稳定。
作为一种优选的实施方式，所述刮环的内环半径比刮板的长度大。
采用上述方案，通过将刮环的内环半径设置的比刮板的长度大，进而使得刮环在运动到刻蚀槽内侧壁的最下方时不会受到刮板的阻碍，保证清洁刻蚀槽的顺利进行。
作为一种优选的实施方式，所述活动板上正对耐腐蚀滤框的位置开设有操作孔。
采用上述方案，通过设置操作孔，进而使得在取出耐腐蚀滤框时不会受到活动板的阻碍，操作方便。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
该便于清洁的半导体制造设备通过设置螺柱、活动板、滑杆、刮环和刮板，利用螺柱的转动带动活动板向上或向下运动，进而通过滑杆带动刮环向上或向下运动，进而对刻蚀槽的内侧壁进行清理，同时刮板跟随转轴a同步转动对刻蚀槽内侧壁的下表面进行清理，进而可以对刻蚀槽内侧壁进行全方位清洁，同时利用耐腐蚀滤框来盛放半导体器件，避免刻蚀产生的较大的杂质调入到刻蚀槽内，结构简单，操作方便；
该便于清洁的半导体制造设备通过设置限位块配合螺栓对耐腐蚀滤框进行安装固定，便于对耐腐蚀滤框的拆卸取出，同时利用转轴a带动搅拌杆转动对刻蚀液进行搅拌，使得刻蚀液与半导体器件接触更加全面，刻蚀效果更好，完善功能多样性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型耐腐蚀滤框的结构示意图；
图3为本实用新型活动板俯视的结构示意图；
图4为本实用新型A处放大的结构示意图。
图中：1、底座；2、刻蚀槽；3、耐腐蚀滤框；4、限位块；5、螺栓；6、转轴a；7、驱动电机a；8、搅拌杆；9、框架；10、转轴b；11、螺柱；12、驱动电机b；13、螺纹帽；14、活动板；15、滑杆；16、滑套；17、刮环；18、刮板；19、出液管。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型做进一步的描述。
以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的保护范围。实施例中的条件可以根据具体条件做进一步的调整，在本实用新型的构思前提下对本实用新型的方法简单改进都属于本实用新型要求保护的范围。
请参阅图1-4，本实用新型提供一种便于清洁的半导体制造设备，包括底座1，底座1的上表面固定安装有刻蚀槽2，刻蚀槽2内部设置有两个耐腐蚀滤框3，耐腐蚀滤框3穿过刻蚀槽2上表面开设的插孔延伸出刻蚀槽2，耐腐蚀滤框3的外表面固定安装有限位块4，耐腐蚀滤框3上的限位块4数量为两个，且两个限位块4分别位于耐腐蚀滤框3外表面的左右两侧(见图1、图2和图4)；通过设置有两个限位块4来对耐腐蚀滤框3进行限位，使得耐腐蚀滤框3的安装定位效果更好，有效避免在刻蚀过程中发生移位晃动的现象。
限位块4的外表面与限位槽的内侧壁贴合，且限位槽开设在刻蚀槽2的上表面，限位块4通过螺栓5固定安装在刻蚀槽2的上表面，刻蚀槽2的下表面卡接有密封轴承a，且密封轴承a的内侧壁套接有转轴a6，转轴a6的底端与驱动电机a7的输出轴固定连接，驱动电机a7固定安装在刻蚀槽2的下表面，转轴a6的外表面固定安装有若干个搅拌杆8，转轴a6的外表面还固定连接有两个刮板18，刮环17的内环半径比刮板18的长度大(见图1)；通过将刮环17的内环半径设置的比刮板18的长度大，进而使得刮环17在运动到刻蚀槽2内侧壁的最下方时不会受到刮板18的阻碍，保证清洁刻蚀槽2的顺利进行。
刮板18的下表面与刻蚀槽2内侧壁的下表面贴合，刻蚀槽2的上表面固定安装有框架9，框架9内侧壁的上表面和刻蚀槽2的上表面均卡接有密封轴承b，且两个密封轴承b的内侧壁均套接有转轴b10，且两个转轴b10相对的一端分别与螺柱11的两端固定连接，框架9上的转轴b10与驱动电机b12的输出轴固定连接，驱动电机b12固定安装在框架9的上表面，驱动电机b12和驱动电机a7均与外接电源电性连接，螺柱11的外表面螺纹连接有螺纹帽13，螺纹帽13卡接在活动板14的上表面，活动板14上正对耐腐蚀滤框3的位置开设有操作孔(见1和图3)；通过设置操作孔，进而使得在取出耐腐蚀滤框3时不会受到活动板14的阻碍，操作方便。
活动板14的下表面与滑杆15的顶端固定连接，滑杆15的数量为两个，且两个滑杆15分别位于刮环17上表面的左右两侧(见图1)；通过设置两个滑杆15来连接活动板14和刮环17，使得活动板14通过滑杆15带动刮环17上下运动时不易晃动且更加稳定。
滑杆15的外表面套接有滑套16，滑套16卡接在刻蚀槽2的上表面，滑杆15的底端与刮环17的上表面固定连接，刮环17的外表面与刻蚀槽2的内侧壁贴合，刻蚀槽2的下表面设置有出液管19，出液管19上设置有出液阀。
在使用时，首先工人将刻蚀液经过耐腐蚀滤框3加入到刻蚀槽2内部，将需要刻蚀的半导体器件放入到耐腐蚀滤框3内部，进而可以进行能刻蚀作业，同时启动驱动电机a7带动转轴a6转动，转轴a6带动搅拌杆8转动对刻蚀液进行搅拌使得刻蚀液与半导体器件充分接触，刻蚀过程中产生的较大的杂质留在耐腐蚀滤框3内部，较小的杂质进入到刻蚀槽2内部，当刻蚀完毕以后拧松螺栓5向上抽出耐腐蚀滤框3，进而取出刻蚀好的半导体器件并清理较大的杂质，同时启动驱动电机b12带动螺柱11转动，使得活动板14通过滑杆15带动刮环17向上或向下运动，进而对刻蚀槽2的内侧壁进行清洁，同时转轴a6带动刮板18转动对刻蚀槽2内侧壁的下表面进行清洁，清洁以后的杂质掺杂在刻蚀液中经过出液管19排出。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种便于清洁的半导体制造设备，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定安装有刻蚀槽(2)，所述刻蚀槽(2)内部设置有两个耐腐蚀滤框(3)，所述耐腐蚀滤框(3)穿过刻蚀槽(2)上表面开设的插孔延伸出刻蚀槽(2)，所述耐腐蚀滤框(3)的外表面固定安装有限位块(4)，所述限位块(4)的外表面与限位槽的内侧壁贴合，且限位槽开设在刻蚀槽(2)的上表面，所述限位块(4)通过螺栓(5)固定安装在刻蚀槽(2)的上表面，所述刻蚀槽(2)的下表面卡接有密封轴承a，且密封轴承a的内侧壁套接有转轴a(6)，所述转轴a(6)的底端与驱动电机a(7)的输出轴固定连接，所述驱动电机a(7)固定安装在刻蚀槽(2)的下表面，所述转轴a(6)的外表面固定安装有若干个搅拌杆(8)，所述转轴a(6)的外表面还固定连接有两个刮板(18)，所述刮板(18)的下表面与刻蚀槽(2)内侧壁的下表面贴合，所述刻蚀槽(2)的上表面固定安装有框架(9)，所述框架(9)内侧壁的上表面和刻蚀槽(2)的上表面均卡接有密封轴承b，且两个密封轴承b的内侧壁均套接有转轴b(10)，且两个转轴b(10)相对的一端分别与螺柱(11)的两端固定连接，所述框架(9)上的转轴b(10)与驱动电机b(12)的输出轴固定连接，所述驱动电机b(12)固定安装在框架(9)的上表面，所述驱动电机b(12)和驱动电机a(7)均与外接电源电性连接，所述螺柱(11)的外表面螺纹连接有螺纹帽(13)，所述螺纹帽(13)卡接在活动板(14)的上表面，所述活动板(14)的下表面与滑杆(15)的顶端固定连接，所述滑杆(15)的外表面套接有滑套(16)，所述滑套(16)卡接在刻蚀槽(2)的上表面，所述滑杆(15)的底端与刮环(17)的上表面固定连接，所述刮环(17)的外表面与刻蚀槽(2)的内侧壁贴合，所述刻蚀槽(2)的下表面设置有出液管(19)，所述出液管(19)上设置有出液阀。
2.根据权利要求1所述的便于清洁的半导体制造设备，其特征在于：所述耐腐蚀滤框(3)上的限位块(4)数量为两个，且两个限位块(4)分别位于耐腐蚀滤框(3)外表面的左右两侧。
3.根据权利要求1所述的便于清洁的半导体制造设备，其特征在于：所述滑杆(15)的数量为两个，且两个滑杆(15)分别位于刮环(17)上表面的左右两侧。
4.根据权利要求1所述的便于清洁的半导体制造设备，其特征在于：所述刮环(17)的内环半径比刮板(18)的长度大。
5.根据权利要求1所述的便于清洁的半导体制造设备，其特征在于：所述活动板(14)上正对耐腐蚀滤框(3)的位置开设有操作孔。
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|---|---|---|---|---|
| CN115632014A (zh) * | 2022-10-27 | 2023-01-20 | 南通通州东大机械有限公司 | 耐腐防变形半导体制造设备的高精度框架 |
| CN118039533A (zh) * | 2024-02-19 | 2024-05-14 | 陕西理工大学 | 一种半导体刻蚀设备 |
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