CN210602819U - 一种新型匣钵 - Google Patents

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吕超
徐宁
吴孟涛
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Tianjin B&M Science and Technology Co Ltd
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Tianjin B&M Science and Technology Co Ltd
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Abstract

一种改善锂离子电池正极粉体材料在高温反应过程中沾钵现象的新型匣钵,匣钵包括钵底、钵壁两部分,钵底设有多个凹槽,凹槽平均分布于钵底各处,凹槽中心线平行于钵壁呈矩阵式分布,凹槽为圆锥形,凹槽深度小于钵底厚度的二分之一。本实用新型在钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,可以有效避免烧结后的物料沾钵现象,且该实用新型受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵这三方面成本。

Description

一种新型匣钵
技术领域
本实用新型涉及匣钵领域,具体涉及一种新型匣钵。
背景技术
在锂离子电池正极材料制备过程中,需要对前驱体和锂盐进行干法烧结,粉末状的混合物料盛装于匣钵中通过窑炉进行二次高温焙烧,烧结成型的正极材料为块状或粉状。
在高温烧结过程中,物料容易与匣钵底部发生粘连造成物料倒不干净,需要人工再去清理,清理后的物料由于含杂质较多,只能作为副产品使用,既造成了人工的浪费又造成了物料的浪费,与此同时,沾钵现象还影响匣钵使用寿命,增加了匣钵的使用成本。
实用新型内容
本实用新型需要解决的技术问题是:提供一种设计简单、生产简便,可以有效预防沾钵现象的新型匣钵。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是:
一种改善锂离子电池正极粉体材料在高温反应过程中发生沾钵现象的新型匣钵,匣钵包括钵壁、钵底,所述钵底设有多个凹槽,所述凹槽平均分布于钵底各处,所述凹槽中心线平行于钵壁呈矩阵式分布,所述凹槽为圆锥形,深度小于钵底厚度的二分之一。
本实用新型的有益效果:新型匣钵的钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,这样可以有效避免烧结后的物料沾钵现象。该匣钵结构受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵三方面成本,节约资源。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的正视图;
图3为本实用新型的局部放大图。
图中:1-钵壁;2-凹槽;3-钵底。
具体实施方式
如图1-3所示,一种新型匣钵,包括钵壁1、钵底3,钵底3上设有多个凹槽2,凹槽2平均分布于钵底3各处,凹槽2中心线平行于钵壁1并呈矩阵式分布,凹槽2为圆锥形,深度小于钵底3厚度的二分之一。
粉体材料在锥角较大的情况下,容易产生架桥现象,即由于粉末颗粒之间的内摩擦力大于重力,粉末颗粒会在锥斗上方空间形成稳定的拱形物料桥。本实用新型利用了这一原理,在钵底设有多个矩阵式分布的圆锥形凹槽,粉末物料会在圆锥形凹槽上方形成架桥,造成凹槽内存有空气,减小了物料与钵底的实际接触面积,这样可以有效避免烧结后的物料沾钵现象,该技术改进受匣钵材质,物料性质影响小,可以有效节约人工、物料、匣钵三方面成本,节约资源。
以上对本实用新型的实施例进行了详细说明,但内容仅为本实用新型的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。

Claims (1)

1.一种新型匣钵,其特征在于:包括钵壁(1)、钵底(3),所述钵底(3)上设置有多个凹槽(2),所述凹槽(2)平均分布于钵底(3)各处,凹槽(2)中心线平行于钵壁(1)并呈矩阵式分布,所述凹槽(2)为圆锥形,深度小于钵底(3)厚度的二分之一。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112898013A (zh) * 2021-03-05 2021-06-04 株洲火炬安泰新材料有限公司 一种高密度ito靶材的常压烧结方法

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