CN210515327U - 一种显示装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型实施例提供一种显示装置,涉及显示技术领域,可以使显示装置在息屏状态下进行指纹识别。一种显示装置,包括:衬底,设置于所述衬底上的发光器件、辅助发光器件、以及纹路识别层;所述显示装置处于息屏状态时,所述纹路识别层可接收由所述辅助发光器件出射至所述显示装置外、且被反射的光线。

Description

一种显示装置
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示装置。
背景技术
随着纹路(例如指纹)检测技术的发展,其广泛地应用于手机、平板电脑、电视、门禁、以及保险柜等设备中。指纹检测技术主要有光学式指纹识别、电容式指纹识别、以及超声波式指纹识别。
其中,由于电容式指纹识别技术的局限,不能应用于屏下指纹识别;超声波式指纹识别技术需要额外设置超声波发射装置,需要占用一定的屏幕空间。
目前的手机、平板电脑等显示装置越来越朝着全面屏的趋势发展,高屏占比的超薄显示装置是未来的发展趋势,因此,光学式指纹识别具有明显的优势。
目前全面屏的屏下指纹识别主要是针对有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示装置,利用OLED显示装置的发光器件发出的显示光来进行指纹识别。这样一来,只有在OLED显示装置发光的情况下,才可以进行指纹识别;若OLED显示装置为息屏状态,将不能进行指纹识别。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种显示装置,可以使显示装置在息屏状态下进行指纹识别。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种显示装置,包括:衬底,设置于所述衬底上的发光器件、辅助发光器件、以及纹路识别层;所述显示装置处于息屏状态时,所述纹路识别层可接收由所述辅助发光器件出射至所述显示装置外、且被反射的光线。
可选的,所述辅助发光器件包括沿所述显示装置的厚度方向依次层叠设置的第一电极层、辅助发光层、第二电极层;所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极;所述显示装置还包括控制电路;所述控制电路与所述第一电极电连接,用于控制所述辅助发光层发光。
可选的,所述辅助发光器件与所述发光器件同层设置,且所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件间隔设置。
可选的,所述辅助发光器件透光;所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置;或者,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别层在所述衬底上的正投影。
可选的,所述辅助发光器件不透光;所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置或异层设置;在所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧的情况下,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别。
可选的,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件与所述衬底之间;纹路识别层位于所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件之间的透光区域。
可选的,所述显示装置还包括像素电路,所述控制电路与所述像素电路同层设置。
可选的,所述显示装置具有显示区,所述显示区包括多个子像素区域;所述纹路识别层包括多个纹路识别单元;所述辅助发光器件与所述子像素区域一一对应。
可选的,相邻行所述子像素区域之间沿行方向交错排布。
可选的,所述辅助发光器件发出的光为不可见光。
本实用新型实施例提供一种显示装置,包括发光器件、辅助发光器件和纹路识别层。通过在显示装置中增加辅助发光器件,以在显示装置处于息屏状态下,控制辅助发光器件发光。辅助发光器件发出的光线出射至显示装置外,再经过手指反射至纹路识别层上,以使显示装置在息屏状态下也可以实现纹路识别。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图;
图3为本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图;
图4为本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图;
图5为本实用新型实施例提供的一种显示装置的俯视示意图;
图6为本实用新型实施例提供的一种显示装置的俯视示意图。
附图标记:
1-框架;2-显示面板;3-电路板;4-盖板;10-衬底;11-驱动晶体管;12-驱动晶体管;13-发光器件;131-第三电极层;132-发光功能层;133-第四电极层;14-辅助发光器件;141-第一电极层;142-辅助发光层;143-第二电极层;15-纹路识别层;151-P层;152-光敏材料层;153-N层;154-纹路识别单元;16-遮光层;17-像素界定层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供一种显示装置,如图2-4所示,包括:衬底10,设置于衬底10上的发光器件13、辅助发光器件14、以及纹路识别层15;显示装置处于息屏状态时,纹路识别层15可接收由辅助发光器件14出射至显示装置外、且被反射的光线。
此外,显示装置处于显示状态时,纹路识别层15至少可接收由发光器件13出射至显示装置外、且被反射的光线。
在一些实施例中,显示装置可以用作手机、平板电脑、个人数字助理(personaldigital assistant,PDA)、车载电脑等,本实用新型实施例对显示装置的具体用途不做特殊限制。
如图1所示,该显示装置例如可以包括框架1、显示面板2、电路板3、盖板4、以及摄像头等其他电子配件。
显示装置例如可以是有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示装置、或量子点(Quantum Dot Light Emitting Diodes,简称QLED)显示装置等。
上述显示面板2的出光方向可以为顶发光,框架1可以是U形框架,显示面板2和电路板3设置于框架1中。盖板4设置于显示面板2的出光侧,电路板3设置于显示面板2背离盖板4一侧。
在一些实施例中,息屏状态下的显示装置进行纹路识别的原理为:从辅助发光器件14发出的光线出射到显示装置外,被具有纹路的待检测物(例如手指、手掌等,下文均以手指表示)反射,经手指反射的反射光再照射到纹路识别层15上;纹路识别层15接收到反射光,将光信号转换为电信号,并将电信号发送至纹路识别电路;纹路识别电路根据接收的电信号得到纹路图像,通过与显示装置中预存的纹路图像进行比较,以进行纹路识别。
显示状态下的显示装置进行纹路识别的原理为:从发光器件13(和辅助发光器件)发出的光线出射至显示装置外,被手指反射,经手指反射的反射光再照射到纹路识别层上;纹路识别层15接收到反射光,将光信号转换为电信号,并将电信号发送至纹路识别电路;纹路识别电路根据接收的电信号得到纹路图像,通过与显示装置中预存的纹路图像进行比较,以进行纹路识别。
此处,从发光器件13或辅助发光器件14出射至纹路识别装置外的光线,若未经手指反射,实际直接出射到空气中,不会再次被反射回纹路识别装置中,进而也不会照射到纹路识别层41上,影响纹路识别。
在一些实施例中,不对辅助发光器件14的结构进行限定,只要辅助发光器件14可以发光即可。
辅助发光器件14发出的光可以是可见光,也可以是不可见光。
在一些实施例中,不对辅助发光器件14、发光器件13、以及纹路识别层15之间的位置关系进行限定,只要辅助发光器件14和纹路识别层15不遮挡从发光器件13发出的显示用光、发光器件13和纹路识别层15不遮挡辅助发光器件14出射至显示装置外的光线、发光器件13和辅助发光器件14不遮挡经手指反射的光线即可。
示例的,辅助发光器件14可以与发光器件13同层设置,也可以设置在发光器件13与衬底10之间,也可以设置在发光器件13背离衬底10一侧。
在此基础上,显示装置具有显示区,显示区包括子像素区域和非子像素区域。
以辅助发光器件14不透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13同层设置,则辅助发光器件14必然位于非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以设置在辅助发光器件14与衬底10之间(图3),也可以与辅助发光器件14同层设置(图4),也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧(图2)。
以辅助发光器件14不透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13设置在发光器件13与衬底10之间,则辅助发光器件14至少位于非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以设置在辅助发光器件14与衬底10之间,也可以与辅助发光器件14同层设置,也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧。
以辅助发光器件14不透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13设置在发光器件13背离衬底10一侧,则辅助发光器件14位于非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以设置在辅助发光器件14与衬底10之间,也可以与辅助发光器件14同层设置,也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧。
以辅助发光器件14透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13同层设置,则辅助发光器件14必然位于非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以与辅助发光器件14同层设置(图4),也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧(图2)。
以辅助发光器件14透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13设置在发光器件13与衬底10之间,则辅助发光器件14至少位于非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以与辅助发光器件14同层设置,也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧。
以辅助发光器件14透光为例,若辅助发光器件14与发光器件13设置在发光器件13背离衬底10一侧,则辅助发光器件14位于子像素区域和/或非子像素区域。在此情况下,纹路识别层15可以与辅助发光器件14同层设置,也可以设置在辅助发光器件14背离衬底10一侧。
对于上述,如图2所示,当纹路识别层设置于发光器件13和/或辅助发光器件14背离衬底10一侧时,显示装置还可以包括遮光层16,遮光层16在衬底10上的正投影覆盖纹路识别层15在衬底10上的正投影。这样一来,可以避免发光器件13和/或辅助发光器件14发出的光线在显示装置内部直接照射到纹路识别层15上,从而对手指反射至纹路识别层15上的光线造成干扰,影响纹路识别的准确性。
如图3所示,当辅助发光器件14不透光,且纹路识别层15设置在辅助发光器件14与衬底10之间时,纹路识别层位于辅助发光器件14和与其相邻的发光器件13之间的透光区域,以确保手指反射的光线可以通过辅助发光器件14和与其相邻的发光器件13之间的透光区域照射到纹路识别层15上。
在一些实施例中,纹路识别层15包括多个纹路识别单元,如图4所示,纹路识别单元例如可以是光电二极管。
光电二极管包括依次层叠设置的P层151、光敏材料层152、N层153。
在一些实施例中,纹路识别层15所在的区域为纹路识别区,纹路是被区的面积可以等于显示装置的显示区的面积,也可以小于显示区的面积。
本实用新型实施例提供一种显示装置,包括发光器件13、辅助发光器件14和纹路识别层15。通过在显示装置中增加辅助发光器件14,以在显示装置处于息屏状态下,控制辅助发光器件14发光。辅助发光器件14发出的光线出射至显示装置外,再经过手指反射至纹路识别层15上,以使显示装置在息屏状态下也可以实现纹路识别。
可选的,辅助发光器件14包括沿显示装置的厚度方向层叠设置的第一电极层141、辅助发光层142、第二电极层143;第一电极层141包括间隔设置的多个第一电极;显示装置还包括控制电路;控制电路与第一电极电连接,用于控制辅助发光层14发光。
此处,当进行指纹识别时,显示装置中的触控结构感应到手指的触摸,并将该触摸信号发送给控制电路,控制电路接收到触摸信号后,控制辅助发光器件14发光。
其中,触控结构可以是显示装置中既有的结构,也可以是额外设置的。
在一些实施例中,发光器件13包括沿显示装置的厚度方向层叠设置的第三电极层131、发光功能层132、以及第四电极层133。
第三电极层131为阳极,第四电极层133为阴极;或者,第三电极层131为阴极,第四电极层133为阳极。
在一些实施例中,不对控制电路的结构进行限定。控制电路例如可以包括开关管;或者,控制电路也可以与用于控制发光器件13发光的像素电路的结构相同。
示例的,控制电路的结构与像素电路的结构相同,像素电路至少包括开关晶体管、驱动晶体管11、以及存储电容,控制电路也至少包括开关晶体管、驱动晶体管12、以及存储电容。
在一些实施例中,控制电路可以设置在像素电路与衬底10之间,也可以与像素电路同层设置,也可以设置在像素电路与辅助发光结构14之间。
在此基础上,辅助发光器件14与发光器件13同层设置,以简化显示装置的制备工艺。其中,辅助发光器件14和与其相邻的发光器件13间隔设置,以避免二者短路。辅助发光器件14和与其相邻的发光器件13可以利用既有的像素界定层17间隔设置。
其中,第一电极层141与第三电极层131同层设置,辅助发光层142与发光功能层132同层设置,第二电极层143与第四电极层133同层设置。
其中,如图2和图3所示,当辅助发光层142与发光功能层132在发光时,若第二电极层143的电压与第四电极层133的电压相同,则第四电极层133可以复用作第二电极层143。
如图4所示,当辅助发光层142与发光功能层132在发光时,若第二电极层143的电压与第四电极层133的电压不相同,则第四电极层133与第二电极层143单独形成。
可选的,如图5和图6所示,辅助发光器件14与子像素区域一一对应。
在此基础上,如图6所示,纹路识别单元154也可以与子像素区域一一对应。
在一些实施例中,纹路识别单元154在衬底10上的正投影的面积可以等于子像素区域的面积;辅助发光器件14在衬底10上的正投影可以等于子像素区域的面积。
在一些实施例中,为了使纹路识别区中各个位置处的出光强度一致,可选的,相邻的辅助发光器件14之间的距离可以相同,相邻纹路识别单元之间的距离可以相同;辅助发光器件14在衬底10上的正投影可以是圆形或正方形。
本实用新型实施例中,通过使辅助发光器件14与子像素区域一一对应,一方面,可以提高辅助发光器件14发出的光的亮度,以便纹路识别;另一方面,可以使纹路识别区中各个位置处的出光强度一致。
可选的,辅助发光器件14发出的光为不可见光,这样一来,即使显示装置处于显示状态下,辅助发光器件14发出的光也不会影响显示装置的显示效果。
在此基础上,由于红外光对人眼的伤害较小,辅助发光器件14发出的光可以为红外光。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种显示装置,其特征在于,包括:衬底,设置于所述衬底上的发光器件、辅助发光器件、以及纹路识别层;
所述显示装置处于息屏状态时,所述纹路识别层可接收由所述辅助发光器件出射至所述显示装置外、且被反射的光线。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件包括沿所述显示装置的厚度方向依次层叠设置的第一电极层、辅助发光层、第二电极层;所述第一电极层包括间隔设置的多个第一电极;
所述显示装置还包括控制电路;所述控制电路与所述第一电极电连接,用于控制所述辅助发光层发光。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件与所述发光器件同层设置,且所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件透光;
所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置;
或者,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别层在所述衬底上的正投影。
5.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件不透光;
所述纹路识别层与所述辅助发光器件同层设置或异层设置;
在所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件背离所述衬底一侧的情况下,所述显示装置还包括设置于所述纹路识别层与所述辅助发光器件之间的遮光层,所述遮光层在所述衬底上的正投影覆盖所述纹路识别。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述纹路识别层设置于所述辅助发光器件与所述衬底之间;
纹路识别层位于所述辅助发光器件和与其相邻的所述发光器件之间的透光区域。
7.根据权利要求2-6任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置还包括像素电路,所述控制电路与所述像素电路同层设置。
8.根据权利要求1-6任一项所述的显示装置,其特征在于,所述显示装置具有显示区,所述显示区包括多个子像素区域;
所述纹路识别层包括多个纹路识别单元;所述辅助发光器件与所述子像素区域一一对应。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于,相邻行所述子像素区域之间沿行方向交错排布。
10.根据权利要求1-4任一项所述的显示装置,其特征在于,所述辅助发光器件发出的光为不可见光。
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WO2022175775A1 (ja) * 2021-02-19 2022-08-25 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置、表示装置の作製方法、表示モジュール、及び電子機器

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