CN210488215U - 投射型显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种在能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置中，能够抑制摄影质量的劣化的投射型显示装置。投射型显示装置具备摄像元件、光源、调整并射出来自光源的光的光阀及成像光学系统。成像光学系统具备在投射及拍摄中共用的第1光学系统、仅在投射中使用的第2光学系统、仅在拍摄中使用的第3光学系统及将从第2光学系统朝向第1光学系统的光路与从第1光学系统朝向第3光学系统的光路分离的分离部件。第3光学系统在第3光学系统的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的第1遮光部件。

Description

投射型显示装置

技术领域

本公开涉及一种投射型显示装置。

背景技术

近年，提出有具备液晶显示元件或DMD(Digital Micromirror Device/数字微镜器件：注册商标)显示元件等光阀的同时具备CCD(Charge Coupled De vice/电荷耦合器件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor/互补金属氧化物半导体)等摄像元件，而且能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置(例如，专利文献1)。

专利文献1：国际公开第2017/183249号

专利文献1的投射型显示装置以如下方式构成，即，具备分离从光阀朝向屏幕的光路与从放大侧(屏幕侧)朝向摄像元件的光路的分离部件，并且在进行投射时及拍摄时，共用投射型显示装置所具备的成像光学系统的一部分。

在专利文献1的投射型显示装置中，以在进行拍摄时来自成像光学系统的共用部分的光直接入射于摄像元件的方式构成，因此若欲具有较高的摄影质量，则不得不增加共用部分的透镜片数。

然而，来自光阀的光入射于成像光学系统的共用部分，因此若共用部分的透镜片数增加，则导致光的反射面数量增加，从而入射于摄像元件的杂散光增加而在摄影图像中产生重影等导致摄影质量的劣化。

实用新型内容

本公开是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种在能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置中，能够抑制摄影质量劣化的投射型显示装置。

用于解决上述课题的具体方法中包含以下方式。

<1>一种投射型显示装置，其具备：摄像元件，对所接收的光进行拍摄；光源；光阀，对来自所述光源的光进行调制并射出；及成像光学系统，将基于通过光阀调制的光的光学像投射于放大侧成像面上，且将从放大侧入射的光成像于摄像元件上，成像光学系统具备：至少具备1片透镜且在投射及拍摄中共用的第1光学系统；至少具备1片透镜且仅在投射中使用的第2光学系统；至少具备1片透镜且仅在拍摄中使用的第3光学系统；及将从第2光学系统朝向第1光学系统的光路与从第1光学系统朝向第3光学系统的光路分离的分离部件，第3光学系统在第3光学系统的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的第1遮光部件。

<2><1>的投射型显示装置中，第1遮光部件遮挡包含光轴的区域。

<3><1>或<2>的投射型显示装置中，摄像元件配置于从光源射出并入射至光阀之间的光不直接入射的位置。

<4><1>至<3>中的任一个投射型显示装置中，将第1遮光部件的遮光区域的面积设为S1，将第3光学系统的光圈的开口面积设为S时，满足由

0.3＜S1/S＜0.9 (1)

表示的条件式(1)。

<5><1>至<4>中的任一个投射型显示装置中，第3光学系统的光圈位置的附近是指，当将包括使用于拍摄的第1光学系统及第3光学系统的光学系统的光圈直径设为AD时，光轴上以第3光学系统的光圈位置为中心的±0.8AD的范围。

<6><1>至<5>中的任一个投射型显示装置中，当将从第1光学系统的最靠放大侧的面至分离部件的光轴上的距离设为L1，将从第1光学系统的最靠放大侧的面至第2光学系统的最靠缩小侧的面的光轴上的距离设为L时，满足由

0＜L1/L＜0.7 (2)

表示的条件式(2)。

<7><1>至<6>中的任一个投射型显示装置中，在第2光学系统的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的第2遮光部件。

<8><7>的投射型显示装置中，第2遮光部件遮挡第2光学系统的光圈内的周边区域。

<9><1>至<8>中的任一个投射型显示装置中，与所述第1遮光部件不同地，第3光学系统具备遮挡一部分光束的第3遮光部件。

<10><1>至<9>中的任一个投射型显示装置中，第2光学系统具备遮挡一部分光束的第4遮光部件。

<11><1>至<10>中的任一个投射型显示装置中，第1光学系统沿光路从放大侧依次连续地具备多个负透镜，在多个负透镜之间设置遮挡一部分光束的第5遮光部件。

<12><1>至<11>中的任一个投射型显示装置中，成像光学系统所具备的遮光部件的遮光区域的遮光率具有与光瞳强度分布对应的分布。

<13><1>至<12>中的任一个投射型显示装置中，包括使用于投射的第1光学系统及第2光学系统的光学系统为形成中间像的中继光学系统。

<14><13>的投射型显示装置中，在光路上中间像的位置或光路上与中间像相邻的位置设置遮挡一部分光束的第6遮光部件。

<15><13>的投射型显示装置中，在光路上比中间像更靠放大侧设置遮挡一部分光束的第6遮光部件。

<16><13>至<15>中的任一个投射型显示装置中，分离部件配置于光路上比中间像更靠放大侧的位置。

<17><4>的投射型显示装置满足由

0.4＜S1/S＜0.9 (1-1)

表示的条件式(1-1)。

另外，在本公开中，“光圈位置”是指确定光学系统的F值的位置(确定中心光束直径的位置)。

实用新型效果

根据本公开，能够提供一种可抑制摄影质量劣化的投射型显示装置。

附图说明

图1是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。

图2是配置于上述投射型显示装置的第3光学系统的遮光部件的概略结构图。

图3是配置于上述投射型显示装置的第3光学系统的遮光部件的概略结构图。

图4是配置于上述投射型显示装置的第3光学系统的遮光部件的概略结构图。

图5是配置于上述投射型显示装置的第3光学系统的遮光部件的概略结构图。

图6是表示图2所示的遮光部件的遮光区域的遮光率分布的图。

图7是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图8是配置于上述投射型显示装置的第2光学系统的遮光部件的概略结构图。

图9是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图10是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图11是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图12是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图13是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的变形例的概略结构图。

图14是本实用新型的第2实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。

图15是本实用新型的第3实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。

具体实施方式

以下，参考附图对本实用新型的投射型显示装置的第1实施方式进行详细说明。图1是本实用新型的第1实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。在图1中，以光路顺序屏幕12侧成为放大侧的方式进行了记载。

如图1所示，本实施方式的投射型显示装置1具备对所接收的光进行拍摄的摄像元件10、包括光源及光阀的图像投射部11、将基于通过光阀调制的光的光学像投射于屏幕(放大侧成像面)12上且将从放大侧入射的光成像于摄像元件上的成像光学系统。

光阀调制并射出来自光源的光。使用于光阀的图像显示元件可以使用液晶显示元件或DMD(Digital Micromirror Device：注册商标)显示元件等任何图像显示元件。光源与光阀的图像显示元件的方式对应地适当构成即可。

成像光学系统具备至少具备1片透镜且在投射及拍摄中共用的第1光学系统G1、至少具备1片透镜且仅在投射中使用的第2光学系统G2、至少具备1片透镜且仅在拍摄中使用的第3光学系统G3及将从第2光学系统G2朝向第1光学系统G1的光路与从第1光学系统G1朝向第3光学系统G3的光路分离的分离部件S。

第1光学系统G1在光路上从放大侧依次具备透镜组L1a、反射部件R1、透镜组L1b及透镜组L1c。

第2光学系统G2在光路上从放大侧依次具备透镜组L2及假定成颜色合成部或照明光分离部中使用的滤光片或棱镜等的光学部件PP。

第3光学系统G3在光路上从放大侧依次具备反射部件R2、透镜组L3a、配置于第3光学系统G3的光圈位置的附近且遮挡一部分光束的掩模(第1遮光部件)M1及透镜组L3b。在此，“第3光学系统G3的光圈位置的附近”是指在光路上与光圈位置的放大侧相邻的透镜和与缩小侧相邻的透镜之间的空间内。并且，掩模M1兼备作为光圈的功能，因此第3光学系统G3无需具备单体的光圈。但是，并不限定于这种方式，第3光学系统G3也可以单独具备掩模及光圈。

另外，第1光学系统G1、第2光学系统G2及第3光学系统G3中的各透镜组并不限于包括多个透镜的结构，也可以设为仅包括1片透镜的结构。

分离部件S反射从第2光学系统G2朝向第1光学系统G1的光，并透射从第1光学系统G1朝向第3光学系统G3的光，例如，由如半反射镜那种一部分透射一部分反射部件构成。

关于成像光学系统，通过如上构成，能够抑制在投射及拍摄中共用的第1光学系统G1的透镜的片数，并且确保投射中使用的透镜(第1光学系统G1及第2光学系统G2的透镜)的片数而具有较高的投射性能。相同地，能够确保拍摄中使用的透镜(第1光学系统G1及第3光学系统G3的透镜)的片数而具有较高的摄影性能。

并且，在拍摄中使用的透镜(第1光学系统G1及第3光学系统G3的透镜)中，也使用于投射的透镜(第1光学系统G1的透镜)的片数变少而投射光的反射面数量减少，因此能够抑制重影。

而且，通过在第3光学系统G3的光圈位置的附近设置掩模M1，不会对投射造成影响，并且能够抑制重影。

对这里的作用进行具体说明。在此，作为一例，对使用了图2所示的掩模M1的情况进行说明。掩模M1在开口区域20的中心部以光轴为中心形成有包含光轴的圆形的遮光区域2la。

光源的光瞳强度分布在光轴附近变高。并且强度较强的重影有容易具有成像性这一特性。具有成像性的重影在反射中也维持接近共轭关系的关系，因此即使在重影入射于摄像元件10的情况下，也会在与投射时相等的光路上反射过来。在该情况下，在第3光学系统G3的光圈位置上也会维持光瞳强度分布的关系，因此通过配置于光圈位置附近的掩模M1来遮挡中心部分，由此提高重影的减少效果，并且周边部分能够使摄影光通过。

另外，掩模M1的遮光区域的形状并不限于上述图2的方式，如图3所示，也可以在开口区域20的中心部形成多边形的遮光区域21b。例如，当在投射中使用的透镜(第1光学系统G1及第2光学系统G2的透镜)中的至少一部分使用了复眼透镜时，复眼透镜为以格栅状配置有透镜的透镜，因此当光瞳强度分布的关系维持至光圈位置时，强度分布以格栅状分布。如此，在光瞳强度分布以非圆形状变化的结构中，通过与光瞳强度分布的形状对应地设为多边形的遮光区域21b，周边部分能够留存摄影光的透射区域，并且有效地对强度较强的重影的区域进行遮光。

并且，如图4所示，也可以形成开口区域20的一半区域的遮光区域21c。通过设为这种结构，能够使中心及周边的光束的遮光率相等，因此能够抑制周边光量比的变化并且减少重影。

并且，如图5所示，也可以形成组合了开口区域20的一半区域与中心部区域的形状的遮光区域21d。通过设为这种结构，能够抑制周边光量比的变化，并且有效地对强度较强的重影的区域进行遮光。另外，关于中心部的区域，在图5中，作为一例，设为多边形，但也可以与光瞳强度分布的形状对应地设为圆形。

并且，成像光学系统所具备的遮光部件的遮光区域的遮光率并不限于100％，也可以设为小于100％。

并且，成像光学系统所具备的遮光部件的遮光区域的遮光率也可以设为具有与光瞳强度分布对应的分布。在此，作为一例，对使用了形成有圆形的遮光区域21a的掩模M1的情况进行说明。如图6所示，遮光区域21a中心的遮光率为100％，且以随着移向遮光区域21a的周边而遮光率下降的方式构成。通过设为这种结构，能够遮挡中心附近的强度较强的重影的区域并且抑制摄影光的光量的下降。

在本实施方式的投射型显示装置1中，摄像元件10优选配置于从光源射出并入射至光阀之间的光不直接入射的位置。通过设为这种结构，即使在入射于光阀之前的光量较强的光以与设计意图不同的形式透射了分离部件S或透镜等的情况下，也能够防止入射于摄像元件10，因此能够抑制摄影质量的劣化。

并且，当将掩模(第1遮光部件)M1的遮光区域的面积设为S1，将第3光学系统G3的光圈的开口面积设为S时，优选满足条件式(1)。通过设成不成为条件式(1)的下限以下，能够确保遮挡重影光所需的遮光区域。通过设成不成为条件式(1)的上限以上，能够抑制透射掩模M1的摄影光的光量的下降。即，通过满足条件式(1)，在掩模M1中，能够提高重影的减少效果并且使充分的光量的摄影光通过。另外，若设为满足条件式(1-1)，则能够成为更良好的特性。

0.3＜S1/S＜0.9 (1)

0.4＜S1/S＜0.9 (1-1)

并且，当将包括使用于拍摄的第1光学系统G1及第3光学系统G3的光学系统的光圈直径设为AD时，第3光学系统G3的光圈位置的附近优选为在光轴上以第3光学系统G3的光圈位置为中心的±0.8AD的范围。通过设为这种结构，不会对投射造成影响，并且能够减少重影。

并且，当将从第1光学系统G1的最靠放大侧的面至分离部件S的光轴上的距离设为L1，将从第1光学系统G1的最靠放大侧的面至第2光学系统G2的最靠缩小侧的面的光轴上的距离设为L时，优选满足条件式(2)。通过设成不成为条件式(2)的上限以上，能够抑制在拍摄中使用的透镜(第1光学系统G1及第3光学系统G3的透镜)中，也使用于投射的透镜(第1光学系统G1的透镜)的片数的增加，从而投射光的反射面数量减少，因此能够抑制重影。

0＜L1/L＜0.7 (2)

并且，如图7所示，也可以在第2光学系统G2的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的掩模(第2遮光部件)M2。在此，“第2光学系统G2的光圈位置的附近”是指在光路上与光圈位置的放大侧相邻的透镜和与缩小侧相邻的透镜之间的空间内。通过设为这种结构，不会对拍摄造成影响，并且能够减少重影。

在该情况下，掩模M2优选设为对第2光学系统G2的光圈内的周边区域进行遮光的掩模。作为一例，对使用了图8所示的掩模M2的情况进行说明。掩模M2在除了开口区域30的圆形的中心区域以外的周边区域形成有遮光区域31。光源的光瞳强度分布在光轴附近容易变高，因此通过设为这种结构，通过遮挡周边来能够确保投射光的光量并且减少重影。

并且，如图9所示，第3光学系统G3也可以与掩模M1分别具备遮挡一部分光束的掩模(第3遮光部件)M2。通过设为这种结构，不会对投射造成影响，从而能够进一步减少重影。

并且，如图10所示，第2光学系统G2可以具备遮挡一部分光束的掩模(第4遮光部件)M2。通过设为这种结构，不会对拍摄造成影响，并且能够进一步减少重影。另外，掩模M2的配置位置并不限于透镜组L2的缩小侧，如图11所示，也可以设在透镜组L2的放大侧。

并且，如图12所示，第1光学系统G1沿光路从放大侧依次连续地具备多个负透镜，在多个负透镜之间可以具备遮挡一部分光束的掩模(第5遮光部件)M2。在图12中，作为一例，示出了在光路上从放大侧依次具备负透镜L11 a、负透镜L11b、掩模M2、负透镜L11c、透镜组L11d、反射部件R1、透镜组L11e及透镜组L11f的第1光学系统G1。

通常，投射型显示装置的成像光学系统的最靠放大侧附近的透镜由于透镜面的曲率较强且容易产生重影的透镜面较多，因此通过在如此连续的多个负透镜之间设置掩模M2，能够获得较高的重影减少效果。

并且，在投射型显示装置中，投射光只能透射成像光学系统的最靠放大侧附近的透镜的有效直径内的一半左右的区域，因此当为这种投射型显示装置时，通过在投射光不透射的区域设定掩模M2的遮光区域，能够不降低投射光的光量而减少重影。

并且，包括使用于投射的第1光学系统G1及第2光学系统G2的光学系统优选为形成中间像I的中继光学系统。通过设为这种结构，在单镜头中能够设为广角。并且，通过将使用于投射的光学系统设为中继光学系统，容易将折弯光路的反射部件插入于光学系统内，并且能够使从投射型显示装置射出的投射光中投射型显示装置侧的光线与投射型显示装置的框体水平地接近，因此能够提高投射型显示装置的设置性。

当使用于投射的光学系统为中继光学系统时，如图13所示，在光路上中间像I的位置或在光路上与中间像I相邻的位置上可以设置遮挡一部分光束的掩模(第6遮光部件)M2。通过设为这种结构，如视场光圈，能够以分离投射光及重影的方式进行遮光。

相同地，当使用于投射的光学系统为中继光学系统时，如图13所示，也可以在光路上比中间像I更靠放大侧的位置设置遮挡一部分光束的掩模(第6遮光部件)M2。通过设为这种结构，能够减少来自投射及拍摄中共用的第1光学系统G1的重影。

接着，参考附图对本实用新型的投射型显示装置的第2实施方式进行详细说明。图14是本实用新型的第2实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。在图14中以光路顺序屏幕12侧成为放大侧的方式进行了记载。在本实施方式中，对与图1中的要件相同的要件标注有相同的符号，若无需要，则省略对这些的说明，而主要仅对差异点进行说明。

本实施方式的投射型显示装置2与第1实施方式的投射型显示装置1相比，成像光学系统的结构不同。如图14所示，本实施方式的投射型显示装置2的成像光学系统具备至少具备1片透镜且在投射及拍摄中共用的第1光学系统G1、至少具备1片透镜且仅在投射中使用的第2光学系统G2、至少具备1片透镜且仅在拍摄中使用的第3光学系统G3及将从第2光学系统G2朝向第1光学系统G1的光路与从第1光学系统G1朝向第3光学系统G3的光路分离的分离部件S。

第1光学系统G1具备透镜组L1。

第2光学系统G2在光路上从放大侧依次具备透镜组L2a、透镜组L2b、反射部件R、透镜组L2c、配置于第2光学系统G2的光圈位置的附近且遮挡一部分光束的掩模(第2遮光部件)M2、透镜组L2d及假定成颜色合成部或照明光分离部中使用的滤光片或棱镜等的光学部件PP。

第3光学系统G3在光路上从放大侧依次具备透镜组L3a、配置于第3光学系统G3的光圈位置的附近且遮挡一部分光束的掩模(第1遮光部件)M1及透镜组L3b。

分离部件S反射从第2光学系统G2朝向第1光学系统G1的光，并透射从第1光学系统G1朝向第3光学系统G3的光，例如，由如半反射镜那种一部分透射一部分反射部件构成。

在本实施方式的投射型显示装置2中，也能够获得与上述第1实施方式的投射型显示装置1相同的效果。

并且，在本实施方式的投射型显示装置2的成像光学系统中，包括使用于投射的第1光学系统G1及第2光学系统G2的光学系统为中继光学系统。在该情况下，分离部件S优选配置于在光路上比中间像I更靠放大侧的位置。通过设为这种结构，在拍摄中使用的透镜(第1光学系统G1及第3光学系统G3的透镜)中，也使用于投射的透镜(第1光学系统G1的透镜)的片数变少而投射光的反射面数量减少，因此能够抑制反射重影。

接着，参考附图对本实用新型的投射型显示装置的第3实施方式进行详细说明。图15是本实用新型的第3实施方式所涉及的投射型显示装置的概略结构图。在图15中，以光路顺序屏幕12侧成为放大侧的方式进行了记载。在本实施方式中，对与图1中的要件相同的要件标注有相同的符号，若无需要，则省略对这些的说明，而主要仅对差异点进行说明。

如图15所示，本实施方式的投射型显示装置3与第2实施方式的投射型显示装置2相比，虽然第2光学系统G2的结构稍微不同，但主要变更了相对于分离部件S的第2光学系统G2及第3光学系统G3的位置。

另外，本实施方式的第2光学系统G2在光路上从放大侧依次具备透镜组L2a、配置于第2光学系统G2的光圈位置的附近且遮挡一部分光束的掩模(第2遮光部件)M2、透镜组L2b及假定成颜色合成部或照明光分离部中使用的滤光片或棱镜等的光学部件PP。

分离部件S以透射从第2光学系统G2朝向第1光学系统G1的光并反射从第1光学系统G1朝向第3光学系统G3的光的方式构成。

在本实施方式的投射型显示装置3中，也能够获得与上述第1实施方式的投射型显示装置1相同的效果。

以上，对本实用新型的投射型显示装置的实施方式进行了若干说明，但本实用新型并不限定于上述实施方式。

例如，在成像光学系统中，当包括使用于投射的第1光学系统及第2光学系统的光学系统为中继光学系统时，分离部件也可以配置于在光路上中间像的位置或在光路上与中间像相邻的位置。在中间像附近容易确保空间，因此通过设为这种结构，分离部件的配置变得轻松。

并且，如上所述，当在中间像附近配置有分离部件时，比中间像更靠放大侧成为第1光学系统。当通过中继光学系统具有高性能时，在比中间像更靠放大侧需要较多的透镜片数，因此变得投射及拍摄中共用的第1光学系统G1的透镜片数增加。其结果，能够抑制仅在投射中使用的第2光学系统及仅在拍摄中使用的第3光学系统的透镜片数，因此能够实现整个成像光学系统的小型化。

并且，投射光的波长区域与摄像元件的检测波长区域无需相同，也可以是一部分频带重叠。例如，也可以将投射光设为可见光，将摄像元件的检测波长区域设为可见光及红外光。

除了上述以外，在不脱离本实用新型的宗旨的范围内，可以进行各种的改良或变形是不言而喻的。

符号说明

1～3-投射型显示装置，10-摄像元件，11-图像投射部，12-屏幕，20、30-开口区域，21a～21d、31-遮光区域，G1-第1光学系统，G2-第2光学系统，G3-第3光学系统，I-中间像，M1、M2-掩模，L1～L11f-透镜组，PP-光学部件，R、R1、R2-反射部件，S-分离部件。

Claims (17)

1.一种投射型显示装置，其特征在于，具备：

摄像元件，对所接收的光进行拍摄；

光源；

光阀，对来自所述光源的光进行调制并射出；及

成像光学系统，将基于通过所述光阀调制的光的光学像投射于放大侧成像面上，且将从放大侧入射的光成像于所述摄像元件上，

所述成像光学系统具备：

至少具备1片透镜且在投射及拍摄中共用的第1光学系统；

至少具备1片透镜且仅在投射中使用的第2光学系统；

至少具备1片透镜且仅在拍摄中使用的第3光学系统；及

将从所述第2光学系统朝向所述第1光学系统的光路与从所述第1光学系统朝向所述第3光学系统的光路分离的分离部件，

所述第3光学系统在所述第3光学系统的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的第1遮光部件。

2.根据权利要求1所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述第1遮光部件遮挡包含光轴的区域。

3.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述摄像元件配置于从所述光源射出并入射至所述光阀之间的光不直接入射的位置。

4.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

当将所述第1遮光部件的遮光区域的面积设为S1，

将所述第3光学系统的光圈的开口面积设为S时，

满足由

0.3＜S1/S＜0.9 (1)

表示的条件式(1)。

5.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述第3光学系统的所述光圈位置的附近是指，当将包括使用于拍摄的所述第1光学系统及所述第3光学系统的光学系统的光圈直径设为AD时，光轴上以所述第3光学系统的所述光圈位置为中心的±0.8AD的范围。

6.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

当将从所述第1光学系统的最靠放大侧的面至所述分离部件的光轴上的距离设为L1，

将从所述第1光学系统的最靠放大侧的面至所述第2光学系统的最靠缩小侧的面的光轴上的距离设为L时，

满足由

0＜L1/L＜0.7 (2)

表示的条件式(2)。

7.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

在所述第2光学系统的光圈位置的附近设置遮挡一部分光束的第2遮光部件。

8.根据权利要求7所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述第2遮光部件遮挡所述第2光学系统的光圈内的周边区域。

9.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

与所述第1遮光部件不同地，所述第3光学系统具备遮挡一部分光束的第3遮光部件。

10.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述第2光学系统具备遮挡一部分光束的第4遮光部件。

11.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述第1光学系统沿光路从放大侧依次连续地具备多个负透镜，在所述多个负透镜之间设置遮挡一部分光束的第5遮光部件。

12.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述成像光学系统所具备的遮光部件的遮光区域的遮光率具有与光瞳强度分布对应的分布。

13.根据权利要求1或2所述的投射型显示装置，其特征在于，

包括使用于投射的所述第1光学系统及所述第2光学系统的光学系统为形成中间像的中继光学系统。

14.根据权利要求13所述的投射型显示装置，其特征在于，

在光路上所述中间像的位置或光路上与所述中间像相邻的位置设置遮挡一部分光束的第6遮光部件。

15.根据权利要求13所述的投射型显示装置，其特征在于，

在光路上比所述中间像更靠放大侧设置遮挡一部分光束的第6遮光部件。

16.根据权利要求13所述的投射型显示装置，其特征在于，

所述分离部件配置于光路上比所述中间像更靠放大侧的位置。

17.根据权利要求4所述的投射型显示装置，其特征在于，

满足由

0.4＜S1/S＜0.9 (1-1)

表示的条件式(1-1)。

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