CN210408062U - 电磁烹饪锅具和烹调器 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种电磁烹饪锅具和烹调器，该电磁烹饪锅具包括锅底(10)、锅体(20)以及盛装腔(30)，至少部分锅底(10)上设置有导磁层(11)；导磁层(11)上开设有至少一个通孔(12)，通孔(12)沿导磁层(11)的径向延伸，通孔(12)的第一端(12a)与导磁层(11)的中心(111)之间具有第一间距，通孔(12)的第二端(12b)与导磁层(11)的外缘(112)之间具有第二间距，通孔(12)在导磁层(11)的径向上包括至少两个间隔设置的延伸段。本实用新型能够提高锅具中有效加热区域的分布均匀性，提高对食物的加热均匀性，优化电磁烹饪锅具和烹调器的加热效果。

Description

电磁烹饪锅具和烹调器

技术领域

本实用新型涉及家用电器技术领域，尤其涉及一种电磁烹饪锅具和烹调器。

背景技术

电磁烹饪锅具是厨房中常用的家用电器，配合电磁加热器具使用，能够快速加热食物，且使用过程安全方便，成为了人们日常生活不可或缺的部分，并且提高了人们的生活质量。

现有的电磁烹饪锅具一般设置有在圆周方向上整片的导磁感应加热层，电磁加热器具内设置平面或凹面同心圆形绕制的电磁线圈，电磁线圈内通入交变的激励电流，产生垂直于线圈平面的空间交变磁场，磁场穿过平行与线圈摆放的电磁烹饪锅具的导磁感应加热层，在上面产生平行于交变磁场且为同心圆形的交变感应涡流，该感应涡流在交变激励下对该导磁感应加热层有发热效应，从而加热电磁烹饪锅具。目前的交变感应涡流强度在加热锅具的直径方向上分布不均匀，导致有效发热区域较小，高热区域较为集中，高热区域两侧的中心冷区和外侧冷区较大。为了解决这些问题，常用的方式是改变线圈的尺寸、绕线方式或导磁条的排布方式，或者是改变电磁加热锅局的材质，从而提高其导热能力，使得加热更为均匀。

然而目前的改进方式对电磁加热器具的绕线工艺、导磁条排布工艺以及锅具的制备成本要求较高，改进难度较大。

实用新型内容

为了解决背景技术中提到的至少一个问题，本实用新型提供一种电磁烹饪锅具和烹调器，能够提高锅具中有效加热区域的分布均匀性，提高对食物的加热均匀性，优化电磁烹饪锅具和烹调器的加热效果。

为了实现上述目的，第一方面，本实用新型提供一种电磁烹饪锅具，包括锅底和与锅底连接的锅体，锅底和锅体围成盛装腔，至少部分锅底上设置有导磁层。

导磁层上开设有至少一个通孔，通孔沿导磁层的径向延伸，通孔靠近导磁层的中心一侧的第一端与导磁层的中心之间具有第一间距，以及通孔靠近导磁层的外缘一侧的第二端与导磁层的外缘之间具有第二间距，通孔在导磁层的径向上包括至少两个间隔设置的延伸段。

本实施例提供的电磁烹饪锅具，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和外缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和外缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化电磁烹饪锅具的加热效果。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，导磁层设置在锅底远离盛装腔一侧的面上。

这样的设置可以避免导磁层对锅具盛装腔内结构的影响，同时减少对锅具内食物的影响。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，至少部分锅底为金属件。

通过将至少部分锅底设置为金属件，从而提高锅具对导磁层的磁感应效果，提高导磁层上的交变磁场作用在锅底上的磁场强度，增强加热效果。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，通孔设置在靠近导磁层的半径中点处。

通过将通孔设置在靠近导磁层半径的中点处，从而引导导磁层半径中点附近的交变磁场移位至靠近导磁层的中心和外缘位置，提高交变磁场在锅具底部的分布均匀性，保证锅具的均匀加热。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，至少部分锅底填充在通孔中，且填充在通孔中的锅底与导磁层在远离盛装腔一侧的面齐平。

通过将至少部分锅底填充在通孔中，保证设置有导磁层的锅底的平整度，提高锅具外部的美观性以及机械强度。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，靠近导磁层中心一侧的延伸段的延伸长度比靠近导磁层外缘一侧的延伸段的延伸长度大。

通过将靠近导磁层中心一侧的延伸段的延伸长度比靠近导磁层外缘一侧的延伸段的延伸长度大，从而将靠近导磁层中心区域的交变磁场引导至靠近导磁层的外缘位置，提高交变磁场在锅底上的分布均匀性。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，导磁层上设置有多个通孔，多个通孔以导磁层的轴心呈中心对称分布。

这样的设置可以提高交变磁场在沿导磁层周向上的分布均匀性。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，通孔在导磁层的周向上的宽度的范围为0.5-5mm。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，多个通孔的横截面积之和占导磁层总面积的5％-40％。

通过设置通孔在导磁层周向上的宽度，以及通孔的横截面积与导磁层总面积的关系，避免通孔的开设影响导磁层的机械强度，同时提高通孔对交变磁场的引导作用。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，第一间距等于第二间距，且第一间距和第二间距均小于通孔在导磁层的径向上的延伸长度。

这样的设置可以减小通孔在导磁层上的设置难度，并且保证通孔能够引导更多的交变磁场进行均匀分布。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，通孔包括多个第一通孔和多个第二通孔，第一通孔的延伸长度大于第二通孔的延伸长度；多个第一通孔和多个第二通孔沿导磁层的周向交替间隔设置。

第一通孔的第一间距小于第二通孔的第一间距。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，通孔包括多个第三通孔，第一通孔、第三通孔和第二通孔在导磁层的径向上的延伸长度依次减小；多个第一通孔、多个第二通孔和多个第三通孔沿导磁层的周向交替间隔设置。

第一通孔、第二通孔和第三通孔的第一间距依次增加。

通过在导磁层的周向交替间隔设置第一通孔、第二通孔以及第三通孔，利用第一间距不同的第一通孔、第二通孔和第三通孔分别引导导磁层上不同位置的交变磁场进行均匀性分布，提高导磁层上不同位置的交变磁场的分布均匀性。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，导磁层和锅底之间设置有导热层和/或磁屏蔽层。

通过在导磁层和锅底之间设置导热层，将导磁层上的热量传递至锅底，提高对锅具内食物的加热效果。通过在导磁层和锅底之间设置磁屏蔽层，能够使得加热装置传递锅具附近的交变磁场尽可能多的作用在导磁层上，提高导磁层上的磁感应效果。

在上述的电磁烹饪锅具中，可选的是，锅底为非金属件，导磁层设置在锅底靠近盛装腔一侧的面上。

这样的设置可以提高锅具结构的灵活性，并且可以保证锅底远离盛装腔一侧的面的完整性以及锅底外部的美观性。

第二方面，本实用新型提供一种烹调器，包括上述的电磁烹饪锅具。

本实用新型提供的烹调器，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和外缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和外缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化烹调器的加热效果。

本实用新型的构造以及它的其他实用新型目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图；

图2为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的结构示意图；

图3为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的通孔部分的细节图；

图4为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的A部分的细节图；

图5为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的配合使用的加热装置的加热件的结构示意图；

图6为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图；

图7a为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图；

图7b为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图；

图7c为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图；

图8为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图；

图9a为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图；

图9b为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图；

图9c为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图；

图10为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图；

图11a为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图；

图11b为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图；

图11c为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图；

图12为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图；

图13a为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图；

图13b为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图；

图13c为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图。

附图标记说明：

10-锅底；

11-导磁层；

111-中心；

112-外缘；

12-通孔；

12a-第一端；

12b-第二端；

13-第一通孔；

131-第一延伸段；

132-第二延伸段；

14-第二通孔；

15-第三通孔；

151-第三延伸段；

152-第四延伸段；

16-连通区；

20-锅体；

30-盛装腔；

40-线圈盘；

50-导磁条。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的优选实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解，例如，可以使固定连接，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1为现有技术的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图。参照图1所示，现有技术中的电磁烹饪锅具一般是在锅具的圆周方向上设置整片的导磁感应加热层，电磁加热器具内部的电磁线圈在工作时产生的交变磁场会与该导磁感应加热层发生磁感应，从而在导磁感应加热层上面产生平行于交变磁场且为同心圆形的交变感应涡流，该感应涡流在交变激励下对该导磁感应加热层有发热效应，从而加热电磁烹饪锅具。但是目前的交变感应涡流强度在加热锅具的直径方向上分布不均匀，导致如图1中，有效发热区域较小，且集中在导磁感应加热层上靠近半径中点附近的区域内，具体的该有效发热区域一般集中在导磁感应加热层距离中心部分的半径上1/3至1/2的区域内。

由于高热区域较为集中，高热区域两侧的中心冷区和外侧冷区较大，即靠近导磁感应加热层的中心部分以及外缘部分的加热温度较低。从而导致电磁烹饪锅具的加热不均匀，常常出现糊锅或食物夹生的情况，降低了其加热效果。

实施例一

图2为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的结构示意图。图3为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的通孔部分的细节图。图4为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的A部分的细节图。图5为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的配合使用的加热装置的加热件的结构示意图。图6为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图。图7a为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图。图7b为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图。图7c为本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图。

为解决上述提到的至少一个的技术问题，参照图2至图7c所示，本实施例提供一种电磁烹饪锅具，包括锅底10和与锅底10连接的锅体20，锅底10和锅体20围成盛装腔30，至少部分锅底10上设置有导磁层11。

导磁层11上开设有至少一个通孔12，通孔12沿导磁层11的径向延伸，通孔12靠近导磁层11的中心111一侧的第一端12a与导磁层11的中心111之间具有第一间距，以及通孔12靠近导磁层11的外缘112一侧的第二端12b与导磁层11的外缘112之间具有第二间距。具体的，通孔12设置在靠近导磁层11的半径中点处。

需要说明的是，本实施例提供的电磁烹饪锅具在使用时，配合电磁加热装置，该电磁加热装置可以为包括电磁线圈的电磁炉，在使用时电磁线圈内部通入交变的激励电流，从而在电磁线圈周围产生交变磁场，交变磁场与锅底10上的导磁层11发生磁感应而发热，从而加热该电磁烹饪锅具。在实际使用中，该电磁加热装置还可以是包括电磁线圈的其余类型的加热装置，本实施例对此并不加以限制。

其中，该电磁烹饪锅具可以包括锅底10和与锅底10连接的锅体20，图2中示出的锅具为平底锅具，此时锅具底部的平直段或近似平直段的部分形成锅底10，围设在锅底10周围的部分即形成锅体20，锅体20和锅底10共同围成锅具的盛装腔30。本实施例中以平底锅底10为例撰写和画图，而在实际使用中，当锅具为圆底锅具时，此时锅具底部弧形段部分形成锅底10，与之过渡连接的部分即为锅体20。

为保证盛装腔30内食物的加热效果，会在至少部分锅底10上设置导磁层11，利用导磁层11与交变磁场相互作用产生的热量传递至盛装腔30中，用于加热食物，其中可以根据需要在部分或者全部锅底10上设置导磁层11，当导磁层11设置在部分锅底10上时，可以集中设置在靠近锅底10的中心区域，在减少制备成本的同时保证食物的加热效果。本实施例对导磁层11在锅底10上设置面积并不加以限制，用户可以根据需要设定。

该导磁层11的材料可以为铁、铁碳合金、铁硅合金以及铁锰合金中的任意一种或多种，本实施例对导磁层11的材料并不加以限制，也不局限于上述示例。

基于目前的导磁层11在与交变磁场作用时，磁场分布不均匀，导致加热效果较差。本实施例为解决该问题，参照图6所示，在导磁层11上设置有至少一个通孔12，该通孔12可以连通导磁层11相对两个表面。通孔12沿导磁层11的径向延伸，并且靠近导磁层11中心111一侧的第一端12a与导磁层11的中心111之间具有第一间距，通孔12靠近导磁层11外缘112一侧的第二端12b与导磁层11的外缘112之间具有第二间距，即通孔12的第一端12a并未抵接在导磁层11的中心111，第二端12b也并未抵接导磁层11的外缘112。此时导磁层11仍然可以通过未设置通孔12的部分连接为一个不间断的整体，以供交变磁场与其相互作用。

在该电磁烹饪锅具使用时，导磁层11与交变磁场发生磁感应，从而导磁层11上产生感应电流，基于导磁层11上设置通孔12，感应电流无法从开设通孔12的位置经过，从而绕过通孔12沿着导磁层11上的连通部分进行传到，并与导磁层11发生相互作用而发热。参照图7a所示，本实施例中设置的通孔12使得原本经过导磁层11上靠近半径中点附近的电流绕过该区域，从通孔12的第一端12a与导磁层11的中心111之间，以及通孔12的第二端12b与导磁层11的外缘112之间传导。参照图7b所示，基于通孔12的设置，使得电流沿着上述路径传导，引导集中在靠近导磁层11半径中点附近的发热区部分转移至通孔12的第一端12a与导磁层11中心111之间，以及通孔12的第二端12b与导磁层11的外缘112之间，这样不仅降低了导磁层11上靠近半径中点附近的加热高温区的温度和面积，并且提高了导磁层11靠近中心111和外缘112区域的加热温度，使得加热高温度均匀分布在导磁层11上，提高导磁层11上加热温度分布的均匀性，从而避免电磁烹饪锅具出现加热糊锅或者食物夹生的情况。

进一步地，该靠近导磁层11的半径中点处的通孔12可以具体位于导磁层11上距离中心111的1/3至1/2的区域内，从而有针对性的减弱该区域内的高密度磁感应电流分布，有效缓解锅具的加热高温区和加热冷区的温度差值。

作为一种可实现的实施方式，导磁层11设置在锅底10远离盛装腔30一侧的面上。其中，至少部分锅底10为金属件。

需要说明的是，导磁层11可以设置在锅底10远离盛装腔30一侧的面上，即锅底10的外表面上，这样的可以有效避免导磁层11影响盛装腔30内的结构完整性，并且防止导磁层11的材料在加热过程中对盛装腔30内的食物产生影响。

此时该锅具的锅底10可以全部为非金属件，例如玻璃或陶瓷等。导磁层11上产生的热量经过锅底10的传导至盛装腔30内。在实际的使用中，至少部分锅底10还可以设置为金属件，锅底10上金属件的部分可以与导磁层11相贴合，从而导磁层11产生热量可以通过金属的锅底10传导至盛装腔30中，提高了热量的传导效率，减少了热量在传导过程中的热损失。

当然，为提高加热效果，该锅具的锅体20和锅底10均可以设置为金属件，从而导磁层11上形成的感应电流以及热量可以同时传导至锅底10和锅体20上，感应电流还可以进一步与锅体20和锅底10作用，从而将产生的热量传递至食物。这种情况下，食物的加热来源不仅局限于底部的锅底10，还可以来自周围的锅体20，从而提高了加热的均匀性和加热效率。

作为一种可实现的实施方式，导磁层11可以通过耐高温胶粘接和/或嵌合的方式设置在锅底10上，当锅底10为金属件时，导磁层11还可以通过焊接的方式与锅底10连接，在实际使用中，用户可以根据需要以及锅具的材料选择导磁层11的设置方式，本实施例对此并不加以限制。

作为一种可实现的实施方式，参照图4所示，至少部分锅底10填充在通孔12中，且填充在通孔12中的锅底10与导磁层11在远离盛装腔30一侧的面齐平。

需要说明的是，基于本实施例的导磁层11是设置在锅底10上的，并且导磁层11上开设通孔12，通孔12的位置容易积累污渍，影响锅底10的美观性。需要指出的是，本实施例中至少部分锅底10填充在该通孔12中，填充在该通孔12内的锅底10为非导磁材料或者非金属材料，从而避免填充在通孔12中的锅底10传导感应电流，影响导磁层11上感应电流均匀分布的过程。利用锅底10填充通孔12，可以避免污渍进入通孔12的孔腔中，提高了锅底10的平整度，避免污渍的积累，并且便于用户清洁，同时可以利用锅底10提高通孔12的孔外缘112位置的机械强度，避免导磁层11发生断裂和变形的情况，延长了该电磁烹饪锅具的使用寿命。

作为一种可实现的实施方式，导磁层11上设置有多个通孔12，多个通孔12以导磁层11的轴心呈中心对称分布。需要说明的是，当多个通孔12沿着导磁层11的轴线中心对称分布，这样可以保证导磁层11周向上各个位置的感应电流进行均匀化分布，降低了各个位置加热高温区和加热冷区的温度差值，提高了导磁层11整体的加热温度的均匀性。

作为一种可实现的实施方式，通孔12在导磁层11的周向上的宽度的范围为0.5-5mm。该通孔12可以是图中示出的长圆形孔，长圆孔在导磁层11周向上的宽度可以沿着导磁层11的径向处处相等，也可以根据需要设置为不等，本实施例对此并不加以限制。当通孔12在导磁层11周向上的宽度过小时，对感应电流的阻挡效果较差，导致感应电流的传导路径未发生明显变化，从而无法保证感应电流均匀化分布。而当通孔12在导磁层11周向上的宽度过大时，导致导磁层11上流通感应电流的有效面积降低，降低了导磁层11的导磁和发热效果，也会影响锅具的加热效果，并且通孔12宽度过大还会降低导磁层11的机械强度。因此在实际使用中，用户可以在上述范围内选定通孔12在导磁层11周向上的宽度具体值。

作为一种可实现的实施方式，多个通孔12的横截面积之和占导磁层11总面积的5％-40％。基于通孔12的设置会影响导磁层11的感应电流分布以及机械强度，当多个通孔12的横截面积之和过大时，导磁层11的机械强度降低，并且导磁层11上流通感应电流的有效面积降低，降低了导磁层11的导磁和发热效果，也会影响锅具的加热效果。而当多个通孔12的横截面积之和过小时，对感应电流的引导效果较差，导致感应电流的传导路径未发生明显变化，从而无法保证感应电流均匀化分布。因此在实际使用中，用户可以在上述范围内选定多个通孔12的横截面积之和与导磁层11总面积比例的具体值。

作为一种可实现的实施方式，第一间距等于第二间距，且第一间距和第二间距均小于通孔12在导磁层11的径向上的延伸长度。将第一间距和第二间距设置为相等，可以有效减小导磁层11的设置难度，并且两者均小于通孔12在导磁层11径向上的延伸长度，可以保证设置通孔12的部分引导更多的感应电流进行均匀化分布，提高导磁层11的加热区域分布的均匀性。

参照图6所示，通孔12包括多个第一通孔13和多个第二通孔14，第一通孔13的延伸长度大于第二通孔14的延伸长度；多个第一通孔13和多个第二通孔14沿导磁层11的周向交替间隔设置。第一通孔13的第一间距小于第二通孔14的第一间距。

需要说明的是，利用在导磁层11上交替间隔设置且延伸长度不等的第一通孔13和第二通孔14，可以对导磁层11上不同区域的感应电流形成不同的引导效果，使得感应电流均匀分布在导磁层11上。

进一步地，导磁层11和锅底10之间设置有导热层和/或磁屏蔽层。需要说明的是，在导磁层11和锅底10之间设置导热层，将导磁层11上的热量传递至锅底10，提高对锅具内食物的加热效果。该导热层可以是导热硅脂、导热硅胶、石墨片以及导热金属等，本实施例对导热层的材料并不加以限制，也不局限于上述示例。在导磁层11和锅底10之间设置磁屏蔽层，能够使得加热装置传递锅具附近的交变磁场尽可能多的作用在导磁层11上，即电磁加热装置朝向锅具方向传导的磁场与导磁层11相互作用后，利用磁屏蔽层进行阻挡，避免其进一步朝远离导磁层11的方向传导，从而加强磁场与导磁层11的磁感应效果。该磁屏蔽层可以是铝层或不锈钢层，本实施例对磁屏蔽层的材料并不加以限制，也不局限于上述示例。

作为一种可实现的实施方式，当锅底10为非金属件，导磁层11还可以设置在锅底10靠近盛装腔30一侧的面上。即导磁层11位于盛装腔30内，基于锅底10为非金属件，导磁层11产生的热量需要通过锅底10传递进入盛装腔30内，传递过程中存在热量损耗，将导磁层11设置在盛装腔30内，可以使得导磁层11上产生的热量直接作用于食物，从而提高对食物的加热效果。并且可以保证锅底10远离盛装腔30一侧的面的完整性，以及锅底10外部的美观性。

本实用新型实施例一提供的电磁烹饪锅具，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和边缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和边缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化电磁烹饪锅具的加热效果。

实施例二

图8为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图。图9a为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图。图9b为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图。图9c为本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图。

参照图8至图9c所示，在上述实施例一的基础上，本实用新型实施例二提供另一种结构的电磁烹饪锅具，实施例一与实施例二相比，两者的区别之处在于：导磁层11上的通孔12设置结构和数量有所不同。

具体的，本实施例的多个第一通孔13和多个第二通孔14设置数量多于实施例一。在导磁层11使用过程中，参照图9a所示，相较于实施例一，本实施例导磁层11上更多的感应电流被引导至靠近导磁层11的中心111和外缘112，并且参照图9b所示，导磁层11上的稳态加热区域分布更大，从而导磁层11对锅具加热的均匀性更佳。

其他技术特征与实施例一相同，并能取得相同或相应的技术效果，此处不再一一赘述。

本实用新型实施例二提供的电磁烹饪锅具，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和边缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和边缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化电磁烹饪锅具的加热效果。

实施例三

图10为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图。图11a为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图。图11b为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图。图11c为本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图。

参照图10至图11c所示，在上述实施例一和实施例二的基础上，本实用新型实施例三提供另一种结构的电磁烹饪锅具，实施例三与实施例一和实施例二相比，区别之处在于：导磁层11上的通孔12设置结构和数量有所不同。

具体的，通孔12在导磁层11的径向上包括至少两个间隔设置的延伸段。本实施例的通孔12还可以进一步包括多个第三通孔15，第三通孔15包括了靠近导磁层11外缘112位置的第一延伸段131和靠近导磁层11中心111位置的第二延伸段132，第一通孔13包括了靠近导磁层11中心111位置的第三延伸段151和靠近导磁层11外缘112位置的第四延伸段152。

其中，第一通孔13、第三通孔15和第二通孔14在导磁层11的径向上的延伸长度依次减小；多个第一通孔13、多个第二通孔14和多个第三通孔15沿导磁层11的周向交替间隔设置。第一通孔13、第二通孔14和第三通孔15的第一间距依次增加。

需要说明的是，在导磁层11的周向交替间隔设置第一通孔13、第二通孔14以及第三通孔15，可以分别引导导磁层11上不同位置的交变磁场进行均匀性分布，提高导磁层11上不同位置的交变磁场的分布均匀性。

在该导磁层11使用过程中，参照图11a所示，感应电流在通孔12的作用下被引导至靠近导磁层11的外缘112和中心111位置，并且在分段的第一通孔13和第三通孔15中，感应电流还可以从第一延伸段131和第二延伸段132之间的连通区16，以及第三延伸段151和第四延伸段152之间的连通区16传导，从而可以增加连通区16附近的感应电流分布密度，避免通孔12的设置将所有感应电流全部引导至靠近导磁层11的外缘112和中心111位置，使得连通区16附近仍保留部分感应电流，从而使得分段通孔12的连通区16位置，以及导磁层11的中心111和外缘112位置均存在感应电流，保证感应电流的均匀化分布。

进一步地，分段设置在第一通孔13和第三通孔15中，靠近导磁层11中心111一侧的延伸段的延伸长度比靠近导磁层11外缘112一侧的延伸段的延伸长度大。即第一通孔13的第一延伸段131长度小于第二延伸段132的长度，第三通孔15的第三延伸段151长度大于第四延伸段152的长度。基于目前导磁层11的加热高温区集中分布在导磁层11上距离中心111的1/3至1/2的区域内，因此将延伸长度较长的第二延伸段132以及第三延伸段151设置在靠近导磁层11中心111一侧，可以集中引导该加热高温区内的感应电流至靠近导磁层11的中心111和外缘112，降低该区域中的感应电流密度，从而降低加热高温区的温度，保证导磁层11上加热温度分布的均匀性。

其他技术特征与实施例一和实施例二相同，并能取得相同或相应的技术效果，此处不再一一赘述。

本实用新型实施例三提供的电磁烹饪锅具，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和边缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和边缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化电磁烹饪锅具的加热效果。

实施例四

图12为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的锅底的结构示意图。图13a为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的感应电流示意图。图13b为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底的稳态发热区示意图。图13c为本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具的部分锅底与部分加热件的结构示意图。

参照图12至图13c所示，在上述实施例一至实施例三的基础上，本实用新型实施例四提供另一种结构的电磁烹饪锅具，实施例四与实施例一至实施例三相比，区别之处在于：导磁层11上的通孔12设置结构和数量有所不同。

具体的，本实施例的多个第一通孔13、多个第二通孔14以及多个第三通孔15设置数量多于实施例三。在导磁层11使用过程中，参照图13a所示，相较于实施例三，本实施例导磁层11上更多的感应电流被引导至靠近导磁层11的中心111和外缘112以及连通区16，并且参照图13b所示，导磁层11上的稳态加热区域分布更大，从而导磁层11对锅具加热的均匀性更佳。

其他技术特征与实施例一至实施例三相同，并能取得相同或相应的技术效果，此处不再一一赘述。

本实用新型实施例四提供的电磁烹饪锅具，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和边缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和边缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化电磁烹饪锅具的加热效果。

实施例五

在上述实施例一至实施例四的基础上，本实用新型实施例五提供一种烹调器，包括上述的电磁烹饪锅具。结合实施例一至实施例四中的图2至图13c所示。该烹调器还可以包括电磁加热装置，在使用时，电磁烹饪锅具放置在电磁加热装置的加热面上。

以电磁加热装置是电磁炉为例，电磁炉可以包括：底壳和位于底壳顶部的面板，底壳内设有线圈盘40、导磁条50、电路板、控制器等。盛装有食材的电磁烹饪锅具放置在面板上，给电磁炉通电，此时会有高频的电流通过线圈盘40上的线圈，从而产生无数封闭的交变磁场力，磁力线切割面板上的电磁烹饪锅具的导磁层11，在导磁层11上产生感应电流，从而对电磁烹饪锅具进行加热。

其他技术特征与实施例一至实施例四中任一项相同，并能取得相同或相应的技术效果，此处不再一一赘述。

本实用新型实施例五提供的烹调器，通过在锅具的至少部分锅底上设置导磁层，利用导磁层与加热装置中产生交变磁场相互作用，交变磁场在导磁层上产生交变感应涡流，从而对锅底以及盛装腔内的食物进行加热。通过在导磁层上设置沿导磁层径向延伸的通孔，并且该通孔与导磁层的中心和边缘分别具有间距，利用通孔将分布在导磁层靠近半径中点周围的交变磁场引导至靠近导磁层的中心和边缘位置，并且将通孔设置为沿径向间隔设置的延伸段，从而增强对交变磁场的引导作用，保证交变磁场在导磁层上分布均匀性，提高对锅具内食物加热的均匀性，减少锅具的加热冷区和加热高温区，优化烹调器的加热效果。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非是另有精确具体地规定。

本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (15)

1.一种电磁烹饪锅具，其特征在于，包括锅底(10)和与所述锅底(10)连接的锅体(20)，所述锅底(10)和所述锅体(20)围成盛装腔(30)，至少部分所述锅底(10)上设置有导磁层(11)；

所述导磁层(11)上开设有至少一个通孔(12)，所述通孔(12)沿所述导磁层(11)的径向延伸，所述通孔(12)靠近所述导磁层(11)的中心(111)一侧的第一端(12a)与所述导磁层(11)的中心(111)之间具有第一间距，以及所述通孔(12)靠近所述导磁层(11)的外缘(112)一侧的第二端(12b)与所述导磁层(11)的外缘(112)之间具有第二间距，所述通孔(12)在所述导磁层(11)的径向上包括至少两个间隔设置的延伸段。

2.根据权利要求1所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述导磁层(11)设置在所述锅底(10)远离所述盛装腔(30)一侧的面上。

3.根据权利要求2所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，至少部分所述锅底(10)为金属件。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述通孔(12)设置在靠近所述导磁层(11)的半径中点处。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，至少部分所述锅底(10)填充在所述通孔(12)中，且填充在所述通孔(12)中的所述锅底(10)与所述导磁层(11)在远离所述盛装腔(30)一侧的面齐平。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，靠近所述导磁层(11)中心(111)一侧的延伸段的延伸长度比靠近所述导磁层(11)外缘(112)一侧的延伸段的延伸长度大。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述导磁层(11)上设置有多个通孔(12)，多个所述通孔(12)以所述导磁层(11)的轴心呈中心对称分布。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述通孔(12)在所述导磁层(11)的周向上的宽度的范围为0.5-5mm。

9.根据权利要求7所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，多个所述通孔(12)的横截面积之和占所述导磁层(11)总面积的5％-40％。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述第一间距等于所述第二间距，且所述第一间距和所述第二间距均小于所述通孔(12)在所述导磁层(11)的径向上的延伸长度。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述通孔(12)包括多个第一通孔(13)和多个第二通孔(14)，所述第一通孔(13)的延伸长度大于所述第二通孔(14)的延伸长度；多个所述第一通孔(13)和多个所述第二通孔(14)沿所述导磁层(11)的周向交替间隔设置；

所述第一通孔(13)的第一间距小于所述第二通孔(14)的第一间距。

12.根据权利要求11所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述通孔(12)包括多个第三通孔(15)，所述第一通孔(13)、所述第三通孔(15)和所述第二通孔(14)在所述导磁层(11)的径向上的延伸长度依次减小；多个所述第一通孔(13)、多个所述第二通孔(14)和多个所述第三通孔(15)沿所述导磁层(11)的周向交替间隔设置；

所述第一通孔(13)、所述第二通孔(14)和所述第三通孔(15)的第一间距依次增加。

13.根据权利要求1-3中任一项所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述导磁层(11)和所述锅底(10)之间设置有导热层和/或磁屏蔽层。

14.根据权利要求1所述的电磁烹饪锅具，其特征在于，所述锅底(10)为非金属件，所述导磁层(11)设置在所述锅底(10)靠近所述盛装腔(30)一侧的面上。

15.一种烹调器，其特征在于，包括权利要求1-14中任一项所述的电磁烹饪锅具。

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