CN210386880U - 一种硅片盒清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片盒清洗装置，包括清洗室、隔板、超声波换能器以及及控制系统，位于右腔室的隔板底部设置一驱动电机，所述驱动电机的输出轴穿过隔板、右腔室的底部活动连接有能够使液体流动用于清洗硅片盒的清洗槽，所述清洗槽位于右腔室内；所述清洗槽包括清洗槽体、溢流盘及卡固架，所述溢流盘的下盘面固定连接有转轴，所述转轴穿过清洗槽体的底部与驱动电机的输出轴活动连接，所述溢流盘的上盘面与卡固架的底部卡扣连接，所述卡固架用于稳固支撑硅片盒。本实用新型的清洗槽内设置的溢流盘随驱动电机转动，能使硅片盒在液体中流动清洗，清洗效率高，硅片盒可以再利用，降低硅片盒成本，提高经济效益。

Description

一种硅片盒清洗装置

技术领域

本实用新型涉及一种硅片盒清洗装置，属于硅片加工技术领域。

背景技术

目前，装载硅片的硅片盒大部分是用塑料制成，在硅片盒搬运或使用的过程中，因与其他接触面接触而被磨损或污染，硅片盒上附着有微小颗粒或其他物质，因此硅片盒一般使用一次就不再使用了，导致了原材料的浪费，购买新的硅片盒的价格昂贵，提高生产成本，因此，为降低硅片盒的生产成本，提供一种有效清洁硅片盒的清洗装置，使得硅片盒再利用，节约资源。

实用新型内容

针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种硅片盒清洗装置，在清洗室内设置专用的清洗槽，能够使液体流动清洗硅片盒，清洗效率高，能够将硅片盒清洗干净再利用，降低硅片盒成本，提高经济效益。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种硅片盒清洗装置，包括清洗室、设置在清洗室内的隔板、安装在隔板底部的超声波换能器以及及控制系统，清洗室包括左腔室和右腔室，位于右腔室的隔板底部设置一驱动电机，所述驱动电机的输出轴穿过隔板、右腔室的底部活动连接有能够使液体流动用于清洗硅片盒的清洗槽，所述清洗槽位于右腔室内；所述清洗槽包括清洗槽体、溢流盘及卡固架，所述溢流盘的下盘面固定连接有转轴，所述转轴穿过清洗槽体的底部与驱动电机的输出轴活动连接，所述溢流盘的上盘面与卡固架的底部卡扣连接，所述卡固架用于稳固支撑硅片盒；所述转轴与清洗槽体的底部活动密封连接，所述驱动电机的输出轴均与隔板、右腔室的底部活动密封连接，所述超声波换能器、驱动电机均与控制系统连接，启动控制系统，超声波换能器、驱动电机工作，通过超声波将清洗槽内的硅片盒超声清洗，溢流盘通过驱动电机驱动转轴转动而转动，所述卡固架随溢流盘的转动而转动，硅片盒在流动的液体中清洗。

优选地，所述溢流盘的上盘面中心位置处设置有卡座，所述溢流盘上卡座四周均匀开设有溢流孔，可使液流更加均匀的喷射到硅片盒上，有利于提高清洁效率，所述卡座包括台座、环座以及位于台座与环座之间的座槽，所述台座上均匀设置有若干个圆周布置的台柱，所述环座上均匀开设有若干个圆周布置的座孔。

优选地，所述卡固架包括固定杆、第一支翼、第二支翼和第三支翼，所述固定杆上设置有螺纹，所述第一支翼、第二支翼、第三支翼均套置在固定杆上，所述固定杆的底端设置有杆座，所述杆座包括与座槽相匹配的环插、位于环插内与台座相匹配的台座槽以及位于环插外圈与环座相匹配的环板，所述台座槽内开设有与台柱相匹配的台柱孔，所述环板上设置有与座孔相匹配的板柱，所述第一支翼、第二支翼、第三支翼均包括支套以及均匀设置在支套外的若干个周向布置的翼板，所述支套通过螺母套固在固定杆上，所述翼板上均匀布置有若干个卡块，翼板、卡块将硅片盒卡住，防止硅片盒在液体内漂浮。

优选地，所述固定杆的顶端螺纹连接有手柄。

优选地，所述清洗槽体的前、后壁顶部上均设有对称的支耳，所述支耳卡坐在右腔室的前、后壁上，所述清洗槽体的左、右壁顶部上均设有对称的手把。

优选地，所述清洗槽体的右壁下端设置有出水口。

优选地，所述清洗槽体的一角还设置有支架，所述支架上安装有用于淋洗硅片盒的清洗喷头。

本实用新型的有益效果：本实用新型在清洗室内设置专用的清洗槽，清洗槽内设置的溢流盘随驱动电机转动，能使硅片盒在液体中流动清洗，清洗效率高，硅片盒可以再利用，降低硅片盒成本，提高经济效益；溢流盘上的溢流孔可使液流更加均匀的喷射到硅片盒上，有利于提高清洁效率；卡固架、翼板及卡块防止硅片盒在液体内漂浮，将硅片盒规整稳固在卡固架，合理利用清洗空间，同时翼板可以搅拌液体，增加液体的流动性，缩短清洗时间，节约资源；设置清洗喷头，进一步提高清洗效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的清洗槽的结构示意图；

图3为本实用新型的溢流盘的结构示意图及其前视图；

图4为图3中A处放大图；

图5为本实用新型的卡固架的结构示意图；

图6为图5中B处放大图；

图7为图5中C处放大图。

图中：1、清洗室，11、左腔室，12、右腔室，13、隔板，14、驱动电机， 2、清洗槽，3、洗槽体，31、支耳，32、手把，33、出水口，4、溢流盘，41、卡座，42、溢流孔，43、台座，44、环座，45、座槽，46、台柱，47、座孔， 5、卡固架，51、固定杆，52、第一支翼，53、第二支翼，54、第三支翼，55、手柄，56、杆座，57、支套，58、翼板，59、卡块，561、环插，562、台座槽， 563、环板，564、台柱孔，565、板柱，6、转轴，7、支架，8、清洗喷头。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施中的技术方案进行清楚，完整的描述，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1至图7所示，本实用新型实施例提供的一种硅片盒清洗装置，包括清洗室1、设置在清洗室1内的隔板13、安装在隔板13底部的超声波换能器以及及控制系统，清洗室1包括左腔室11和右腔室12，位于右腔室12的隔板 13底部设置一驱动电机14，所述驱动电机14的输出轴穿过隔板13、右腔室 12的底部活动连接有能够使液体流动用于清洗硅片盒的清洗槽2，所述清洗槽2位于右腔室12内；所述清洗槽2包括清洗槽体3、溢流盘4及卡固架5，所述溢流盘4的下盘面固定连接有转轴6，所述转轴6穿过清洗槽体3的底部与驱动电机14的输出轴活动连接，所述溢流盘4的上盘面与卡固架5的底部卡扣连接，所述卡固架5用于稳固支撑硅片盒；所述转轴6与清洗槽体3的底部活动密封连接，所述驱动电机14的输出轴均与隔板13、右腔室12的底部活动密封连接，所述超声波换能器、驱动电机14均与控制系统连接，启动硅片盒清洗装置，超声波换能器、驱动电机14工作，通过超声波将清洗槽2内的硅片盒超声清洗，溢流盘4通过驱动电机14驱动转轴6转动而转动，所述卡固架5随溢流盘4的转动而转动，硅片盒在流动的液体中清洗，清洁效果好。所述控制系统为现有技术，其具体的结构不是要保护的重点内容，故本实用新型不作阐述。

在本实用新型中，如图3和图4所示，所述溢流盘4的上盘面中心位置处设置有卡座41，所述溢流盘4上卡座41四周均匀开设有溢流孔42，可使液流更加均匀的喷射到硅片盒上，有利于提高清洁效率，所述卡座41包括台座43、环座44以及位于台座43与环座44之间的座槽45，所述台座43上均匀设置有若干个圆周布置的台柱46，所述环座44上均匀开设有若干个圆周布置的座孔 47。

在本实用新型中，如图5、图6和图7所示，所述卡固架5包括固定杆51、第一支翼52、第二支翼53和第三支翼54，所述固定杆51上设置有螺纹，所述第一支翼52、第二支翼53、第三支翼54均套置在固定杆51上，所述固定杆51的底端设置有杆座56，所述杆座56包括与座槽45相匹配的环插561、位于环插561内与台座43相匹配的台座槽562以及位于环插561外圈与环座 44相匹配的环板563，所述台座槽562内开设有与台柱46相匹配的台柱孔564，所述环板563上设置有与座孔47相匹配的板柱565，使得卡固架5与溢流盘4 卡接稳固，所述第一支翼52、第二支翼53、第三支翼54均包括支套57以及均匀设置在支套57外的若干个周向布置的翼板58，所述支套57通过螺母套固在固定杆51上，所述翼板58上均匀布置有若干个卡块59，具体而言，所述第一支翼52的上板面均匀布置卡块59，所述第二支翼53的上、下板面对称均匀布置卡块59，所述第三支翼54的下板面均匀布置卡块59，翼板58、卡块59 将硅片盒卡住，防止硅片盒在液体内漂浮，将硅片盒规整稳固在卡固架5，合理利用清洗空间，同时翼板58可以搅拌液体，增加液体的流动性，缩短清洗时间，节约资源。

在本实用新型中，所述固定杆51的顶端螺纹连接有手柄55，方便卡固架 5的取放。

在本实用新型中，所述清洗槽体3的前、后壁顶部上均设有对称的支耳31，所述支耳31卡坐在右腔室12的前、后壁上，便于清洗槽2的安装，同时将清洗槽2进一步稳固，所述清洗槽体3的左、右壁顶部上均设有对称的手把32，便于将清洗槽2取放。

在本实用新型中，所述清洗槽体3的右壁下端设置有出水口33，液体可从流出，方便淋洗，同时便于清洗槽2的拆卸。

在本实用新型中，所述清洗槽体3的一角还设置有支架7，所述支架7上安装有用于淋洗硅片盒的清洗喷头8，所述清洗喷头8通过软管与水龙头连接，当硅片盒经超声清洗完成时，打开水龙头，清洗喷头8喷射的水进一步将硅片盒清洗，提高清洗效果。

使用时：先将需要清洗的硅片盒装固在固定杆51的第一支翼52与第二支翼53之间、第二支翼53与第三支翼54之间，再将清洗槽体3放入清洗室1 的右腔室12内，使转轴6与驱动电机14的输出轴连接，然后将装好硅片盒的固定杆51的杆座56卡接在清洗槽体3的溢流盘4的卡座41上，然后向清洗槽体3内添加清洗液体，启动硅片盒清洗装置，超声波换能器、驱动电机14 工作，通过超声波将清洗槽2内的硅片盒超声清洗，溢流盘4通过驱动电机14 驱动转轴6转动而转动，溢流盘4、固定杆51的翼板使清洗液体流动，使得清洗液体对硅片盒产生冲力，使附着在硅片盒的微小颗粒或其它物质脱离，溢流盘4的溢流孔42使液流更加均匀的喷射到硅片盒上，超声清洗完成后，打开出水口33将清洗液体放出，最后将清洗喷头8通过软管与水龙头连接，打开水龙头，清洗喷头8喷射的水进一步将硅片盒的残杂清洗掉，综上所述，本实用新型使硅片盒在液体中流动清洗，清洗效率高，硅片盒可以再利用，降低硅片盒成本，提高经济效益。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神和基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (7)

1.一种硅片盒清洗装置，包括清洗室(1)、设置在清洗室(1)内的隔板(13)、安装在隔板(13)底部的超声波换能器以及及控制系统，清洗室(1)包括左腔室(11)和右腔室(12)，其特征在于，位于右腔室(12)的隔板(13)底部设置一驱动电机(14)，所述驱动电机(14)的输出轴穿过隔板(13)、右腔室(12)的底部活动连接有能够使液体流动用于清洗硅片盒的清洗槽(2)，所述清洗槽(2)位于右腔室(12)内；

所述清洗槽(2)包括清洗槽体(3)、溢流盘(4)及卡固架(5)，所述溢流盘(4)的下盘面固定连接有转轴(6)，所述转轴(6)穿过清洗槽体(3)的底部与驱动电机(14)的输出轴活动连接，所述溢流盘(4)的上盘面与卡固架(5)的底部卡扣连接，所述卡固架(5)用于稳固支撑硅片盒；

所述转轴(6)与清洗槽体(3)的底部活动密封连接，所述驱动电机(14)的输出轴均与隔板(13)、右腔室(12)的底部活动密封连接，所述超声波换能器、驱动电机(14)均与控制系统连接。

2.根据权利要求1所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，优选地，所述溢流盘(4)的上盘面中心位置处设置有卡座(41)，所述溢流盘(4)上卡座(41)四周均匀开设有溢流孔(42)，所述卡座(41)包括台座(43)、环座(44)以及位于台座(43)与环座(44)之间的座槽(45)，所述台座(43)上均匀设置有若干个圆周布置的台柱(46)，所述环座(44)上均匀开设有若干个圆周布置的座孔(47)。

3.根据权利要求2所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，所述卡固架(5)包括固定杆(51)、第一支翼(52)、第二支翼(53)和第三支翼(54)，所述固定杆(51)上设置有螺纹，所述第一支翼(52)、第二支翼(53)、第三支翼(54)均套置在固定杆(51)上，所述固定杆(51)的底端设置有杆座(56)，所述杆座(56)包括与座槽(45)相匹配的环插(561)、位于环插(561)内与台座(43)相匹配的台座槽(562)以及位于环插(561)外圈与环座(44)相匹配的环板(563)，所述台座槽(562)内开设有与台柱(46)相匹配的台柱孔(564)，所述环板(563)上设置有与座孔(47)相匹配的板柱(565)，所述第一支翼(52)、第二支翼(53)、第三支翼(54)均包括支套(57)以及均匀设置在支套(57)外的若干个周向布置的翼板(58)，所述支套(57)通过螺母套固在固定杆(51)上，所述翼板(58)上均匀布置有若干个卡块(59)。

4.根据权利要求3所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，所述固定杆(51)的顶端螺纹连接有手柄(55)。

5.根据权利要求1所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，所述清洗槽体(3)的前、后壁顶部上均设有对称的支耳(31)，所述支耳(31)卡坐在右腔室(12)的前、后壁上，所述清洗槽体(3)的左、右壁顶部上均设有对称的手把(32)。

6.根据权利要求1所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，所述清洗槽体(3)的右壁下端设置有出水口(33)。

7.根据权利要求1所述的一种硅片盒清洗装置，其特征在于，所述清洗槽体(3)的一角还设置有支架(7)，所述支架(7)上安装有用于淋洗硅片盒的清洗喷头(8)。

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