CN210287482U - 一种具有耐磨减摩作用的镀层及活塞环 - Google Patents

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CN210287482U CN201920732022.5U CN201920732022U CN210287482U CN 210287482 U CN210287482 U CN 210287482U CN 201920732022 U CN201920732022 U CN 201920732022U CN 210287482 U CN210287482 U CN 210287482U
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刘千喜
张波
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Abstract

本实用新型提供了一种具有耐磨减摩作用的镀层及活塞环,所述镀层沿基体表面向外依次包括粘结层、过渡层、梯度层和功能层;所述梯度层为CrMoxN层;所述功能层包括至少一个循环层,每一个循环层由下至上依次包括第一CrMoxN层和第二CrMoxN层。本实用新型提供的镀层相比于CrN镀层,摩擦系数降低10%~30%,摩擦系数为0.3~0.45;镀层的整体硬度可达到1400~2600HV,厚度可达80μm,能够满足活塞环全寿命的耐久性能的要求;镀层的制备工艺简单,可操作性强,便于工业化推广。

Description

一种具有耐磨减摩作用的镀层及活塞环
技术领域
本实用新型属于表面处理技术领域,涉及一种镀层及用途,尤其涉及一种具有耐磨减摩作用的镀层及活塞环。
背景技术
要适应日趋收紧的燃油耗标准,提高发动机的燃烧效率,以及减少发动机各零部件的摩擦损失是应对的有效方法。其中活塞组件的摩擦损失在车用发动机的总摩擦损失中占40~60%。因此,降低活塞组件的摩擦损失至关重要,对活塞环提出了整个使用寿命中尽可能具有低摩擦性能的要求。
为了提高活塞系统的效率和寿命,高硬度耐磨涂层逐渐被广泛采用,然而硬质涂层虽可大幅提高缸套与活塞环摩擦副的耐磨寿命,却仍然对其相对运动时的摩擦系数的影响不大。目前有两个发展方向,其一,软硬搭配的多层涂层成为涂层的发展方向之一,耐磨的硬涂层与减摩的软涂层组合能达到耐磨又减摩的双重作用。据报道,在冷冲模具钢Cr12MoV上物理气相沉积CrTiAlN/MoST复合涂层,CrTiAlN涂层的有利支撑使得MoST涂层充分发挥其润滑作用,而MoST涂层显著降低了CrTiAlN涂层的摩擦系数并有效地延长了涂层寿命。但是,其减摩的作用存在明显的限制,软涂层外层使得该复合涂层的硬度要明显低于传统硬涂层,且一旦软涂层外层剥落厚其减摩作用消失,复合涂层的磨损率呈上升趋势。其二,有效的方法还有沉积兼具低摩擦与低磨损特性的类金刚石镀层,但目前限制类金刚石镀层应用推广的瓶颈主要在于,现有方法制备的类金刚石镀层具有较高的内应力,镀层厚度越大,应力表现也越大,当超过10μm时,镀层本身所觉有的高内应力使得镀层很容易发生剥落,制约镀层制备得到更大的厚度和更长的使用寿命。
CN 103789725A公开了一种活塞环表面的多层多元复合硬质PVD镀层,所述镀层从下至上依次为单一金属打底层、单一氮化物过渡层、单一氮化物镀层、多元氮化物过渡层及多元氮化物镀层。所述单一金属为Cr;所述单一氮化物为CrN;所述多元氮化物为Cr(Me)N;其中,所述Me为Al、Mo、W、B、Si或Ti中的一种或至少两种的组合。所述镀层共分五层结构,总厚度可达60μm。所述镀层与活塞环表面结合强度高,硬度高,摩擦系数低,耐磨性好。控制添加元素Al、Mo、W、B、Si、Ti的添加量可比单一TiN或CrN镀层的摩擦系数再降低5~20%。但是其耐磨、耐久性及减摩作用还需要进一步提高。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种具有耐磨减摩作用的镀层及活塞环,所述镀层的层与层之间的结合力强,硬度高,摩擦系数小,同时具有耐磨及减摩作用,且其生命周期长。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
第一方面,本实用新型提供了一种具有耐磨减摩作用的镀层,所述镀层位于基体表面,所述镀层由基体表面向外依次包括粘结层、过渡层、梯度层和功能层。
所述梯度层为CrMoxN层。CrMoxN层中的Mo元素含量由2.0~3.0wt%递增至3.0~6.0wt%,可以有效降低镀层内应力,确保镀层沉积得到更大的厚度。
所述功能层包括至少一个循环层,如所述功能层包括2个、3个、5个、7个、9个、10个、12个、15个、17个、19个、21个、25个或30个等循环层。每一个循环层由下至上依次包括第一CrMoxN层和第二CrMoxN层。所述循环层的个数本领域技术人员可根据基体的需要进行选择。当所述功能层包括至少两个循环层时,所述功能层为循环调幅结构。循环调幅结构保证了镀层中Mo含量产生明显的成分周期性变化,可使所述镀层的厚度达到80μm,大大提高了镀层的厚度。
特别地,本实用新型限定的第一CrMoxN层和第二CrMoxN层中Mo元素含量不同,第一CrMoxN层中的Mo元素含量低于第二CrMoxN层中的Mo元素含量。所述第一CrMoxN层中的Mo元素含量为3.0~6.0wt%,如3.2wt%、3.5wt%、3.8wt%、4.1wt%、4.5wt%、4.8wt%、5.1wt%、5.3wt%、5.5wt%或5.8wt%等。
示例性地,所述第二CrMoxN层中的Mo元素含量为10.0~15.0wt%,如10.2wt%、10.3wt%、10.5wt%、10.8wt%、11.2wt%、11.5wt%、11.8wt%、12.2wt%、12.5wt%、12.8wt%、13.1wt%、13.5wt%、13.8wt%、14.3wt%或14.8wt%等。所述第一CrMoxN层中Mo元素的含量低于第二CrMoxN层中Mo元素的含量有利于降低层与层之间的内应力,提高其相互间的结合力,从而有利于镀层厚度的提高。
所述粘结层的作用为保证镀层具有良好的结合能力;所述过渡层的作用为在保证固有基本耐磨性要求前提下,降低镀层内应力;所述梯度层的作用为保证固有的耐磨性、低摩擦性要求前提下,降低镀层内应力;所述功能层的作用为兼具高耐磨性和低摩擦性能。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述功能层包括4~20个循环层,如所述功能层包括5个、6个、7个、8个、9个、10个、12个、15个、18个或19个循环层等。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述粘结层为Cr层。
所述过渡层为CrN层和/或Cr2N层。
所述基体为活塞环,所述活塞环由钢和/或铸铁制得。所述基体也可为其它物体,本领域的技术人员可根据实际需要进行选择。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述镀层的厚度为10~80μm,如12μm、15μm、18μm、20μm、23μm、25μm、28μm、31μm、35μm、38μm、40μm、42μm、45μm、48μm、50μm、52μm、55μm、57μm、60μm、61μm、65μm、68μm、70μm、72μm、75μm或78μm等。所述镀层的厚度本领域技术人员可根据实际的需要如基体的材质、用途等的不同进行确定。所述镀层的厚度可达80μm,可见各层之间的结合力较强。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述功能层的厚度为7.5~55μm,如7.8μm、8.1μm、8.3μm、8.5μm、9.5μm、10.0μm、10.3μm、10.5μm、11.0μm、11.5μm、11.8μm、12.0μm、12.5μm、13.0μm、14.0μm、15.0μm、18.0μm、20.0μm、21.0μm、22.0μm、23.5μm、28.3μm、30.2μm、34.3μm、38.1μm、40.3μm、43.6μm、48.5μm、50.2μm、53.4μm等。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述第二CrMoxN层与第一CrMoxN层的厚度比为(2~3):1,如厚度比为2.1:1、2.3:1、2.5:1、2.8:1或2.9:1等。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述粘结层的厚度为0.5~3μm,如0.8μm、1.0μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm、2.1μm、2.3μm、2.5μm或2.7μm等。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述过渡层的厚度为1~11μm,如1.5μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm等。
作为本实用新型一种优选的技术方案,所述梯度层的厚度为1~11μm,如1.5μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm等。
第二方面,本实用新型提供了一种活塞环,所述活塞环表面上镀有如上所述的镀层。表面具有如上所述镀层的活塞环具有优异的耐磨、减摩作用,其使用寿命大大延长。
本实用新型提供的镀层的制备方法具体包括如下步骤:
(1)清洗基体表面,得到清洗后的基体,所述清洗具体包括:
a将基体表面脱脂除油,并经过超声波清洗干净,烘干后装入多弧离子镀设备,加热到380~450℃,抽真空到5.0×10-3Pa以下;
b向多弧离子镀设备中通入99.99%纯度的Ar,负偏压-800~-1200V的情况下,Ar离子轰击清洗活塞环表面;
(2)以金属Cr靶为阴极,以Ar为工作反应气体,阴极电流80~120A,气压1~2Pa,基体加负偏压-17~-23V,在基体表面沉积粘结层Cr层;
(3)以金属Cr靶为阴极,以N2为工作反应气体,阴极电流80~120A,气压4~6Pa,基体施加负偏压-30~-40V,在Cr层上沉积过渡CrN层或Cr2N层;
(4)金属Cr靶材和CrMo为阴极,N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体施加负偏压-30~-40Pa,CrMo阴极电流由30~45A递增到40~55A,沉积Mo元素含量递增的CrMoxN层;
(5)以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体施加负偏压-30~-40V,CrMo阴极电流40~55A,沉积第一CrMoxN层;之后,以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体施加负偏压-30~-40V,CrMo阴极电流80~95A,沉积第二CrMoxN层;
(6)重复步骤(5)4~20个循环周期至工艺时间结束,炉温低于150℃后取出基体,得到位于基体表面的镀层;
其中,步骤(2)-步骤(5)中所述的沉积过程的总时间为8~39h。
本实用新型所述的数值范围不仅包括上述例举的点值,还包括没有例举出的上述数值范围之间的任意的点值,限于篇幅及出于简明的考虑,本实用新型不再穷尽列举所述范围包括的具体点值。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:
(1)与现有的CrN镀层相比,本实用新型提供的镀层整体表现摩擦性能降低10%~30%,典型的CrN镀层摩擦系数在0.60~0.70,而本实用新型提供的镀层的摩擦系数为0.3~0.45;另外,所述的镀层的整体硬度可达到1400~2600HV,可见其硬度较大,耐磨;特别的,在镀层最表面采用了高Mo含量的CrMoxN层,有利于活塞环在发动机初期跑和阶段的磨合。
(2)本实用新型提供的镀层由于采用层状结构,有效避免了镀层中缺陷(液滴、粗大柱状晶等)的连续生长,以确保镀层厚度得以提高;另外,由于其中Mo含量产生明显的成分周期性变化,消除了各层之间的内应力,确保了镀层生长的连续性而达到超厚镀层(10~80μm)的目的;与常规工磨具CrN镀层相比,其厚度由原来的8μm左右增加至10~80μm,满足了活塞环全寿命的耐久性能的要求。
(3)本实用新型提供的镀层的制备工艺简单,可操作性强,由于采用了CrMo合金靶材,通过阴极电流高低的周期变化很容易实现功能层的形成,便于工业化推广。
附图说明
图1为本实用新型一种实施方式提供的位于基体表面的镀层的结构示意图。其中:1-基体;2-粘结层;3-过渡层;4-梯度层;5-第一CrMoxN层;6-第二CrMoxN层;7-功能层。
图2为本实用新型一种实施方式提供的镀层中各层的Cr和Mo含量图,其中,虚线表示Cr含量;实线表示Mo含量。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
在一个具体实施方式中,本实用新型提供了一种镀层,如图1所示,所述镀层的厚度为10~80μm,所述镀层依次包括粘结层2、过渡层3、梯度层4和功能层7,所述粘结层2直接与基体1表面接触。
所述粘结层2为Cr层或Cr层,粘结层2的厚度为0.5~3μm。
所述过渡层3为CrN层和/或Cr2N层,过渡层3的厚度为1~11μm。
所述梯度层4为Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层,梯度层4的厚度为1~11μm。
所述功能层7包括至少一个循环层(可包括2个、3个、4个、5个、8个、10个、15个、20个、25个、30个、35个或40个等循环层,图1中给出的是4个循环层的情况),每一个循环层包括第一CrMoxN层5和覆盖于第一CrMoxN层5表面的第二CrMoxN层6。所述功能层7的厚度为7.5~55μm;所述第二CrMoxN层6与第一CrMoxN层5的厚度比为(2~3):1。
第一CrMoxN层5中的Mo元素含量低于第二CrMoxN层6中的Mo元素含量,具体地,所述第一CrMoxN层5中的Mo元素含量为3.0~6.0wt%;所述第二CrMoxN层6中的Mo元素含量为10.0~15.0wt%,粘结层2、过渡层3、梯度层4和功能层7中Cr和Mo的含量变化如图2所示。
本实用新型提供的镀层的制备方法具体包括如下步骤:
(1)清洗基体1表面,得到清洗后的基体1,所述清洗具体包括:
(a)将基体1表面脱脂除油,并经过超声波清洗干净,烘干后装入多弧离子镀设备,加热到380~450℃,抽真空到5.0×10-3Pa以下;所述的基体1可为活塞环;
(b)向多弧离子镀设备中通入99.99%纯度的Ar,负偏压-800~-1200V的情况下,Ar离子轰击清洗活塞环表面。
(2)以金属Cr靶为阴极,以Ar为工作反应气体,阴极电流80~120A,气压1~2Pa,基体1加负偏压-17~-23V,在基体1表面沉积粘结层Cr层;
(3)以金属Cr靶为阴极,以N2为工作反应气体,阴极电流80~120A,气压4~6Pa,基体1施加负偏压-30~-40V,在Cr层上沉积过渡CrN层和/或Cr2N层;
(4)金属Cr靶材和CrMo为阴极,N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体1施加负偏压-30~-40Pa,CrMo阴极电流由30~45A递增到40~55A,沉积Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层;
(5)以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体1施加负偏压-30~-40V,CrMo阴极电流40~55A,沉积第一CrMoxN层5;之后,以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4~6Pa,基体1施加负偏压-30~-40V,CrMo阴极电流80~95A,沉积第二CrMoxN层6;
(6)重复步骤(5)4~20个循环周期至工艺时间结束,炉温低于150℃后取出基体1,得到位于基体1表面的镀层;
其中,步骤(2)-步骤(5)中所述的沉积过程的总时间为8~39h。
实施例1
一种活塞环表面的镀层,所述镀层的厚度为10μm,所述镀层依次包括粘结层2、过渡层3、梯度层4和功能层7,所述粘结层2位于活塞环表面。
所述粘结层2为Cr层,粘结层2的厚度为0.5μm。
所述过渡层3为CrN层,过渡层3的厚度为1μm。
所述梯度层4为Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层,梯度层4的厚度为1μm。
所述功能层7(调制结构)包括一个循环层,每一个循环层包括第一CrMoxN层5和覆盖于第一CrMoxN层5表面的第二CrMoxN层6,第一CrMoxN层5中的Mo元素含量低于第二CrMoxN层6中的Mo元素含量;所述第一CrMoxN层5中的Mo元素含量为3.0wt%;所述第二CrMoxN层6中的Mo元素含量为10.0wt%;所述功能层7的厚度为7.5μm;所述第二CrMoxN层6与第一CrMoxN层5的厚度比为2:1。
所述镀层的制备方法包括如下步骤:
(1)清洗基体1表面,得到清洗后的基体1,所述清洗具体包括:
(a)将基体1表面脱脂除油,并经过超声波清洗干净,烘干后装入多弧离子镀设备,加热到390℃,抽真空到5.0×10-3Pa以下;所述的基体1为活塞环;
(b)向多弧离子镀设备中通入99.99%纯度的Ar,负偏压-900V的情况下,Ar离子轰击清洗活塞环表面。
(2)以金属Cr靶为阴极,以Ar为工作反应气体,阴极电流85A,气压1.2Pa,基体1加负偏压-19V,在基体1表面沉积粘结层Cr层;
(3)以金属Cr靶为阴极,以N2为工作反应气体,阴极电流85A,气压4.2Pa,基体1施加负偏压-38V,在Cr层上沉积过渡层CrN层;
(4)金属Cr靶材和CrMo为阴极,N2为工作反应气体,气压4.2Pa,基体1施加负偏压-38V,CrMo阴极电流由32A递增到42A,沉积Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层;
(5)以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4.2Pa,基体1施加负偏压-38V,CrMo阴极电流43A,沉积第一CrMoxN层5;之后,以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压4.2Pa,基体1施加负偏压-38V,CrMo阴极电流82A,沉积第二CrMoxN层6;
(6)炉温低于150℃后取出基体1,得到位于基体1表面的镀层,步骤(2)-步骤(5)中所述的沉积过程的总时间8.6h。
对制备得到的镀层进行硬度及摩擦系数测试,镀层的摩擦系数为0.35,硬度为1800~1900。
实施例2
一种活塞环表面的镀层,所述镀层的厚度为80μm,所述镀层依次包括粘结层2、过渡层3、梯度层4和功能层7,所述粘结层2位于活塞环表面。
所述粘结层2为Cr层,粘结层2的厚度为3μm。
所述过渡层3为Cr2N层,过渡层3的厚度为11μm。
所述梯度层4为Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层,梯度层4的厚度为11μm。
所述功能层7(调制结构)包括20个循环层,每一个循环层包括第一CrMoxN层5和覆盖于第一CrMoxN层5表面的第二CrMoxN层6,第一CrMoxN层5中的Mo元素含量低于第二CrMoxN层6中的Mo元素含量;所述第一CrMoxN层5中的Mo元素含量为6.0wt%;所述第二CrMoxN层6中的Mo元素含量为15.0wt%;所述功能层7的厚度为55μm;所述第二CrMoxN层6与第一CrMoxN层5的厚度比为3:1。
所述镀层的制备方法包括如下步骤:
(1)清洗基体1表面,得到清洗后的基体1,所述清洗具体包括:
(a)将基体1表面脱脂除油,并经过超声波清洗干净,烘干后装入多弧离子镀设备,加热到435℃,抽真空到5.0×10-3Pa以下;所述的基体1可为活塞环;
(b)向多弧离子镀设备中通入99.99%纯度的Ar,负偏压-1100v的情况下,Ar离子轰击清洗活塞环表面。
(2)以金属Cr靶为阴极,以Ar为工作反应气体,阴极电流110A,气压1.5Pa,基体1加负偏压-22V,在基体1表面沉积粘结层Cr层;
(3)以金属Cr靶为阴极,以N2为工作反应气体,阴极电流110A,气压5Pa,基体1施加负偏压-38V,在Cr层上沉积过渡层Cr2N层;
(4)金属Cr靶材和CrMo为阴极,N2为工作反应气体,气压5Pa,基体1施加负偏压-38Pa,CrMo阴极电流梯度由35A递增到53A,沉积Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层;
(5)以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压5Pa,基体1施加负偏压-38V,CrMo阴极电流53A,沉积第一CrMoxN层5;之后,以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压5Pa,基体1施加负偏压-38V,CrMo阴极电流93A,沉积第二CrMoxN层6;
(6)重复步骤(5)20个循环周期至工艺时间结束,炉温低于150℃后取出基体1,得到位于基体1表面的镀层,步骤(2)-步骤(5)中所述的沉积过程的总时间为38h。
对制备得到的镀层进行硬度及摩擦系数测试,镀层的摩擦系数为0.4,硬度为1800~1900。
实施例3
一种活塞环表面的镀层,所述镀层的厚度为60μm,所述镀层依次包括粘结层2、过渡层3、梯度层4和功能层7,所述粘结层2直接与基体1表面接触。
所述粘结层2为Cr层,粘结层2的厚度为2μm。
所述过渡层3为CrN层,过渡层3的厚度为5μm。
所述梯度层4为Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层,梯度层4的厚度为5μm。
所述功能层7包括4个循环层,每一个循环层包括第一CrMoxN层5和覆盖于第一CrMoxN层5表面的第二CrMoxN层6,第一CrMoxN层5中的Mo元素含量低于第二CrMoxN层6中的Mo元素含量;所述第一CrMoxN层5中的Mo元素含量为5.0wt%;所述第二CrMoxN层6中的Mo元素含量为12.0wt%;所述功能层7的厚度为48μm;所述第二CrMoxN层6与第一CrMoxN层5的厚度比为2.5:1。
所述镀层的制备方法包括如下步骤:
(1)清洗基体1表面,得到清洗后的基体1,所述清洗具体包括:
(a)将基体1表面脱脂除油,并经过超声波清洗干净,烘干后装入多弧离子镀设备,加热到420℃,抽真空到5.0×10-3Pa以下;所述的基体1可为活塞环;
(b)向多弧离子镀设备中通入99.99%纯度的Ar,负偏压-1000V的情况下,Ar离子轰击清洗活塞环表面。
(2)以金属Cr靶为阴极,以Ar为工作反应气体,阴极电流100A,气压1.7Pa,基体1加负偏压-20V,在基体1表面沉积粘结层Cr层;
(3)以金属Cr靶为阴极,以N2为工作反应气体,阴极电流100A,气压5.2Pa,基体1施加负偏压-35V,在Cr层上沉积过渡层CrN层;
(4)金属Cr靶材和CrMo为阴极,N2为工作反应气体,气压5.2Pa,基体1施加负偏压-35Pa,CrMo阴极电流由33A递增到49A,沉积Mo元素含量梯度增加的CrMoxN层;
(5)以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压5.2Pa,基体1施加负偏压-35V,CrMo阴极电流50A,沉积第一CrMoxN层5;之后,以金属Cr靶和CrMo靶为阴极,以N2为工作反应气体,气压5.2Pa,基体1施加负偏压-35V,CrMo阴极电流89A,沉积第二CrMoxN层6;
(6)重复步骤(5)4个循环周期至工艺时间结束,炉温低于150℃后取出基体1,得到位于基体1表面的镀层,其中,步骤(2)-步骤(5)中所述的沉积过程的总时间为30h。
对制备得到的镀层进行硬度及摩擦系数测试,镀层的摩擦系数为0.32,硬度为1800~1900。
申请人声明,以上所述仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,所属技术领域的技术人员应该明了,任何属于本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。

Claims (10)

1.一种具有耐磨减摩作用的镀层,所述镀层位于基体表面,其特征在于,所述镀层沿基体表面向外依次包括粘结层、过渡层、梯度层和功能层;
所述梯度层为CrMoxN层;
所述功能层包括至少一个循环层,每一个循环层由下至上依次包括第一CrMoxN层和第二CrMoxN层。
2.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述功能层包括4~20个循环层。
3.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述粘结层为Cr层;
所述过渡层为CrN层和/或Cr2N层;
所述基体为活塞环,所述活塞环由钢和/或铸铁制得。
4.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述镀层的厚度为10~80μm。
5.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述功能层的厚度为7.5~55μm。
6.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述第二CrMoxN层与第一CrMoxN层的厚度比为(2~3):1。
7.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述粘结层的厚度为0.5~3μm。
8.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述过渡层的厚度为1~11μm。
9.根据权利要求1所述的镀层,其特征在于,所述梯度层的厚度为1~11μm。
10.一种活塞环,其特征在于,所述活塞环上设置有权利要求1-9之一所述的镀层。
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