CN210280016U - 一种电镀铜球清洗设备 - Google Patents

Abstract

一种电镀铜球清洗设备，涉及到一种电镀设备，包括过滤箱(1)、清洗槽(2)和基板(3)，所述过滤箱(1)位于清洗槽(2)内，所述清洗槽(2)通过四条支腿与基板(3)固定连接，所述清洗槽(2)上设置有使所述过滤箱(1)晃动的摇动装置(4)，所述摇动装置(4)与所述过滤箱(1)活动连接，通过在清洗槽(2)上设置与过滤箱(1)相配合的摇动装置(4)，实现对过滤箱(1)的摇动，使位于过滤箱(1)内的铜球在过滤箱内晃动，模拟人工清洗的动作，实现对电镀铜球的充分清洗，避免了人员双手的接触，而且，采用摇动装置(4)与人工操作相比，极大的提高了工作效率，节省了清洗时间。

Description

一种电镀铜球清洗设备

技术领域

本实用新型涉及到电镀设备，具体为一种电镀铜球清洗设备。

背景技术

铜球是电子产业中不可缺少的原料，在生产生活中，铜球由于放置的缘故，其表面会形成氧化层，带有氧化层的铜球会影响电镀质量，因此，在铜球被添加进设备之前，常常需要进行清洗操作，现有技术中常见的洗法是人工清洗，即将铜球放在清洗槽内人工翻搅、清洗再进行分拣。

人工清洗的方式工作量大，浪费时间，而且工作效率低下，工人的双手长期置于清洗药水内，会对手上的皮肤造成严重的伤害。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种新的技术方案，用于解决现有技术中需要人工进行清洗操作的问题，通过本技术方案达到提高清洗效率，减少人工操作的效果。

本实用新型提供的技术方案如下：

一种电镀铜球清洗设备，包括过滤箱、清洗槽和基板，所述过滤箱位于清洗槽内，所述清洗槽通过四条支腿与基板固定连接，所述清洗槽上设置有使所述过滤箱晃动的摇动装置，所述摇动装置与所述过滤箱活动连接。

进一步的：所述摇动装置有两组，两组摇动装置在清洗槽上对称设置。

进一步的：所述摇动装置包括无杆气缸、连接板、滑动板、滑台和与所述滑台相配合的直线导轨，所述直线导轨固定在所述清洗槽的开口端，所述滑台与直线导轨滑动连接，所述滑动板与所述过滤箱连接且所述滑动板固定在所述滑台上，所述无杆气缸通过连接板与所述滑动板连接。

进一步的：所述摇动装置还包括有用于降低过滤箱重力冲击的缓冲机构，所述缓冲机构设置在滑动板上，所述过滤箱与所述缓冲机构连接。

进一步的：所述缓冲机构包括圆柱轴、缓冲弹簧和被圆柱轴贯穿且沿圆柱轴轴向上下移动的搁台，所述圆柱轴有两组且固定设置在滑动板上，所述缓冲弹簧与圆柱轴套接且所述缓冲弹簧的一端与滑动板连接，另一端与搁台连接，所述过滤箱与搁台连接，所述过滤箱通过缓冲机构与所述滑动板弹性连接。

进一步的：所述过滤箱的开口位置处设置有与过滤箱一体成型的搁板，所述搁板有两块，两块搁板对称设置在过滤箱开口位置的左右端，所述搁板置于所述搁台上，搁板内设置有用于避空圆柱轴的避空槽。

进一步的：所述搁台呈“U”型结构，所述搁板呈“7”字状结构，所述搁板包括竖直段和水平段，所述竖直段与过滤箱连接，所述水平段置于“U”型结构的搁台内。

进一步的：所述水平段远离竖直段的一端设置有方便提取过滤箱的环把手。

进一步的：所述清洗槽的底部设置有“V”型结构的沉淀仓，所述沉淀仓的底部连接有泄流管。

进一步的：所述清洗槽内与所述沉淀仓的连接处环向设置有限位台，所述限位台上设置有多个通孔。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

1.通过在清洗槽上设置与过滤箱相配合的摇动装置，实现对过滤箱的摇动，使位于过滤箱内的铜球在过滤箱内晃动，模拟人工清洗的动作，实现对电镀铜球的充分清洗，避免了人员双手的接触，而且，采用摇动装置与人工操作相比，极大的提高了工作效率，节省了清洗时间。

2.通过在摇动装置上设置缓冲机构的方式，减轻了装满电镀铜球的过滤箱对滑动板的重力冲击，从而降低了过滤箱上搁板的损坏率，延长其使用寿命。

附图说明

图1为整体结构示意图。

图2为图1的局部放大图，展示摇动装置的结构布置。

图3为过滤箱的结构示意图。

图4为图3的局部放大图，展示搁板的结构。

图5为清洗槽的示意图。

其中：1过滤箱、2清洗槽、3基板、4摇动装置、11搁板、11-1竖直段、11-2水平段、12把手、13空槽、21沉淀仓、22流管、23限位台、31万向轮、41无杆气缸、42连接板、43滑动板、44滑台、45直线导轨、46圆柱轴、47缓冲弹簧、48搁台。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本技术的保护范围有任何的限制作用。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。

此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。

参见图1，一种电镀铜球清洗设备，包括过滤箱1、清洗槽2和基板3，所述过滤箱1用于盛装电镀铜球，所述过滤箱1位于清洗槽2内，清洗槽2内盛装有适量的用于清洗电镀铜球的药水，所述清洗槽2通过四条支腿与基板3固定连接，为了方便整个清洗设备的移动，在所述基板3的底面还设置有用于转向和移动的万向轮31。

为了达到自动清洗，减少人工投入和提高工作效率的目的，在所述清洗槽2上设置有能够使过滤箱1自动晃动的摇动装置4，利用所述摇动装置4来模拟人工的清洗，避免人工直接与清洗药水接触。

优选的：所述摇动装置4有两组，两组摇动装置4在清洗槽2上对称设置，通过对称设置的摇动装置4，来保证过滤箱1晃动的稳定性。

通过在清洗槽2上设置与过滤箱1相配合的摇动装置4，实现对过滤箱1的摇动，使位于过滤箱1内的铜球在过滤箱1内晃动，模拟人工清洗的动作，实现对电镀铜球的充分清洗，极大的提高了工作效率，节省了清洗时间。

参见图2，所述摇动装置4包括无杆气缸41、连接板42、滑动板43、滑台44和与所述滑台44相配合的直线导轨45，所述直线导轨45固定在所述清洗槽2的开口端，所述滑台44与直线导轨45滑动连接，所述滑动板43固定在所述滑台44上，滑动板43通过滑台44的连接，能沿着直线导轨45来回线性移动，所述无杆气缸41通过连接板42与所述滑动板43连接。

无杆气缸41在通气的情况下，通过电磁阀的控制来回移动，通过连接板42，带动滑动板43在直线导轨45上来回线性移动。

参见图3、图4，所述过滤箱1的开口位置处设置有与过滤箱1一体成型的搁板11，所述搁板11有两块，两块搁板11对称设置在过滤箱1开口位置的左右端，所述搁板11呈“7”字状结构，所述搁板11包括竖直段11-1和水平段11-2，所述竖直段11-1与过滤箱1连接。

过滤箱1是通过搁板11与摇动装置4连接的，对于搁板11与摇动装置4的连接，本实用新型设计了如下技术方案。

所述摇动装置4还设置有用于降低过滤箱重力冲击的缓冲机构，所述缓冲机构设置在滑动板43上，所述水平段11-2与所述缓冲机构连接。

这么设计的目的在于，在实际的使用过程中，过滤箱1在盛装电镀铜球后，重量加重，在无杆气缸41的摇动作用下，过滤箱1沿着直线导轨方向直线左右移动，同时还会沿着重力方向上下震动，造成过滤箱1与滑动板43硬性接触，在长时间的使用中，不断的硬性接触会降低过滤箱1的使用寿命，尤其是对于过滤箱1的搁板11，搁板11在不断的震动撞击中出现变形、断裂的情况，会极大的影响使用效率。

参见图2，具体的，所述缓冲机构包括圆柱轴46、缓冲弹簧47和被圆柱轴46贯穿且沿圆柱轴46轴向上下移动的搁台48，所述圆柱轴46有两组且固定设置在滑动板43上，所述缓冲弹簧47与圆柱轴46套接且所述缓冲弹簧47的一端与滑动板43连接，另一端与搁台48连接。

所述搁台48呈“U”型结构，所述水平段11-2置于“U”型结构的搁台48内，所述过滤箱1通过缓冲机构与所述滑动板43弹性连接。

通过在摇动装置4上设置缓冲机构的方式，减轻了装满电镀铜球的过滤箱1对滑动板43的重力冲击，从而降低了过滤箱1上搁板11的损坏率，延长其使用寿命。

参见图4，优选的：搁板11内设置有用于避空圆柱轴46的避空槽13。

优选的：所述水平段11-2远离竖直段11-1的一端设置有方便提取过滤箱1的环把手12。

参见图5，优选的：所述清洗槽2的底部设置有“V”型结构的沉淀仓21，所述沉淀仓21的底部连接有泄流管22，经过多次使用的药水中含有较多的杂质，因此，通过在清洗槽2底部设置沉淀仓21，有利于杂质的沉淀，保证上层液面的清澈，增强对电镀铜球的清洗效果，而且，还能实现对药水的多次利用。

优选的：所述清洗槽2内与所述沉淀仓21的连接处环向设置有限位台23，所述限位台23上设置有多个通孔。

设置限位台23的目的在于防止过滤箱1掉入清洗槽2内，导致无法取出的情况出现。

在实际使用过程中，可能由于操作人员的操作不当，或者对晃动频率参数的错误设置，导致过滤箱1的搁板11断裂，过滤箱1就掉入清洗槽2内，在沉淀仓21处某一位置卡死，而无法轻松的将过滤箱1取出。

设置限位台23就能很好的防止这样的情况出现，搁板11断裂情况出现后，掉落的过滤箱1会被限位台23阻挡，使其不会掉落到沉淀仓21内。

而设置通孔的目的，方便药水的正常渗透，保证电镀铜球的正常清洗。

以上仅是本技术的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本技术的保护范围。

Claims (10)

1.一种电镀铜球清洗设备，包括过滤箱(1)、清洗槽(2)和基板(3)，所述过滤箱(1)位于清洗槽(2)内，所述清洗槽(2)通过四条支腿与基板(3)固定连接，其特征在于，

所述清洗槽(2)上设置有使所述过滤箱(1)晃动的摇动装置(4)。

2.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)设有两组，两组摇动装置(4)在清洗槽(2)上左右对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)包括无杆气缸(41)、连接板(42)、滑动板(43)、滑台(44)和直线导轨(45)，所述直线导轨(45)固定在所述清洗槽(2)开口的端面上，所述滑台(44)与直线导轨(45)滑动连接，所述滑动板(43)与所述过滤箱(1)连接且固定在所述滑台(44)上，所述无杆气缸(41)通过连接板(42)与所述滑动板(43)连接。

4.根据权利要求3所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述摇动装置(4)还包括用于降低过滤箱(1)重力冲击的缓冲机构，所述缓冲机构设置在滑动板(43)上且与过滤箱(1)连接。

5.根据权利要求4所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述缓冲机构包括圆柱轴(46)、缓冲弹簧(47)和被圆柱轴(46)贯穿且沿圆柱轴(46)轴向移动的搁台(48)，所述圆柱轴(46)有两组且固定设置在滑动板(43)上，所述缓冲弹簧(47)与圆柱轴(46)套接且所述缓冲弹簧(47)的一端与滑动板(43)连接，另一端与搁台(48)连接，所述过滤箱(1)与搁台(48)连接。

6.根据权利要求5所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述过滤箱(1)的开口位置处设置有与过滤箱(1)一体成型的搁板(11)，所述搁板(11)设有两块，两块搁板(11)对称设置在过滤箱(1)开口位置的左右端，所述搁板(11)置于所述搁台(48)上，搁板(11)内设置有用于避空圆柱轴(46)的避空槽(13)。

7.根据权利要求6所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述搁台(48)呈“U”型结构，所述搁板(11)呈“7”字状结构，所述搁板(11)包括竖直段(11-1)和水平段(11-2)，所述竖直段(11-1)与过滤箱(1)连接，所述水平段(11-2)置于“U”型结构的搁台(48)内。

8.根据权利要求7所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述水平段(11-2)远离竖直段(11-1)的一端设置有方便提取过滤箱(1)的环把手(12)。

9.根据权利要求1-7任一项所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述清洗槽(2)的底部设置有“V”型结构的沉淀仓(21)，所述沉淀仓(21)的底部连接有泄流管(22)。

10.根据权利要求9所述的一种电镀铜球清洗设备，其特征在于，所述清洗槽(2)内与所述沉淀仓(21)的连接处环向设置有限位台(23)，所述限位台(23)上设置有多个通孔。

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