CN210280016U - 一种电镀铜球清洗设备 - Google Patents
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Abstract
一种电镀铜球清洗设备,涉及到一种电镀设备,包括过滤箱(1)、清洗槽(2)和基板(3),所述过滤箱(1)位于清洗槽(2)内,所述清洗槽(2)通过四条支腿与基板(3)固定连接,所述清洗槽(2)上设置有使所述过滤箱(1)晃动的摇动装置(4),所述摇动装置(4)与所述过滤箱(1)活动连接,通过在清洗槽(2)上设置与过滤箱(1)相配合的摇动装置(4),实现对过滤箱(1)的摇动,使位于过滤箱(1)内的铜球在过滤箱内晃动,模拟人工清洗的动作,实现对电镀铜球的充分清洗,避免了人员双手的接触,而且,采用摇动装置(4)与人工操作相比,极大的提高了工作效率,节省了清洗时间。
Description
技术领域
本实用新型涉及到电镀设备,具体为一种电镀铜球清洗设备。
背景技术
铜球是电子产业中不可缺少的原料,在生产生活中,铜球由于放置的缘故,其表面会形成氧化层,带有氧化层的铜球会影响电镀质量,因此,在铜球被添加进设备之前,常常需要进行清洗操作,现有技术中常见的洗法是人工清洗,即将铜球放在清洗槽内人工翻搅、清洗再进行分拣。
人工清洗的方式工作量大,浪费时间,而且工作效率低下,工人的双手长期置于清洗药水内,会对手上的皮肤造成严重的伤害。
实用新型内容
针对现有技术中存在的问题,本实用新型提供了一种新的技术方案,用于解决现有技术中需要人工进行清洗操作的问题,通过本技术方案达到提高清洗效率,减少人工操作的效果。
本实用新型提供的技术方案如下:
一种电镀铜球清洗设备,包括过滤箱、清洗槽和基板,所述过滤箱位于清洗槽内,所述清洗槽通过四条支腿与基板固定连接,所述清洗槽上设置有使所述过滤箱晃动的摇动装置,所述摇动装置与所述过滤箱活动连接。
进一步的:所述摇动装置有两组,两组摇动装置在清洗槽上对称设置。
进一步的:所述摇动装置包括无杆气缸、连接板、滑动板、滑台和与所述滑台相配合的直线导轨,所述直线导轨固定在所述清洗槽的开口端,所述滑台与直线导轨滑动连接,所述滑动板与所述过滤箱连接且所述滑动板固定在所述滑台上,所述无杆气缸通过连接板与所述滑动板连接。
进一步的:所述摇动装置还包括有用于降低过滤箱重力冲击的缓冲机构,所述缓冲机构设置在滑动板上,所述过滤箱与所述缓冲机构连接。
进一步的:所述缓冲机构包括圆柱轴、缓冲弹簧和被圆柱轴贯穿且沿圆柱轴轴向上下移动的搁台,所述圆柱轴有两组且固定设置在滑动板上,所述缓冲弹簧与圆柱轴套接且所述缓冲弹簧的一端与滑动板连接,另一端与搁台连接,所述过滤箱与搁台连接,所述过滤箱通过缓冲机构与所述滑动板弹性连接。
进一步的:所述过滤箱的开口位置处设置有与过滤箱一体成型的搁板,所述搁板有两块,两块搁板对称设置在过滤箱开口位置的左右端,所述搁板置于所述搁台上,搁板内设置有用于避空圆柱轴的避空槽。
进一步的:所述搁台呈“U”型结构,所述搁板呈“7”字状结构,所述搁板包括竖直段和水平段,所述竖直段与过滤箱连接,所述水平段置于“U”型结构的搁台内。
进一步的:所述水平段远离竖直段的一端设置有方便提取过滤箱的环把手。
进一步的:所述清洗槽的底部设置有“V”型结构的沉淀仓,所述沉淀仓的底部连接有泄流管。
进一步的:所述清洗槽内与所述沉淀仓的连接处环向设置有限位台,所述限位台上设置有多个通孔。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
1.通过在清洗槽上设置与过滤箱相配合的摇动装置,实现对过滤箱的摇动,使位于过滤箱内的铜球在过滤箱内晃动,模拟人工清洗的动作,实现对电镀铜球的充分清洗,避免了人员双手的接触,而且,采用摇动装置与人工操作相比,极大的提高了工作效率,节省了清洗时间。
2.通过在摇动装置上设置缓冲机构的方式,减轻了装满电镀铜球的过滤箱对滑动板的重力冲击,从而降低了过滤箱上搁板的损坏率,延长其使用寿命。
附图说明
图1为整体结构示意图。
图2为图1的局部放大图,展示摇动装置的结构布置。
图3为过滤箱的结构示意图。
图4为图3的局部放大图,展示搁板的结构。
图5为清洗槽的示意图。
其中:1过滤箱、2清洗槽、3基板、4摇动装置、11搁板、11-1竖直段、11-2水平段、12把手、13空槽、21沉淀仓、22流管、23限位台、31万向轮、41无杆气缸、42连接板、43滑动板、44滑台、45直线导轨、46圆柱轴、47缓冲弹簧、48搁台。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案,下面结合附图对本技术进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本技术的保护范围有任何的限制作用。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
此外,术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
在本技术的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
参见图1,一种电镀铜球清洗设备,包括过滤箱1、清洗槽2和基板3,所述过滤箱1用于盛装电镀铜球,所述过滤箱1位于清洗槽2内,清洗槽2内盛装有适量的用于清洗电镀铜球的药水,所述清洗槽2通过四条支腿与基板3固定连接,为了方便整个清洗设备的移动,在所述基板3的底面还设置有用于转向和移动的万向轮31。
为了达到自动清洗,减少人工投入和提高工作效率的目的,在所述清洗槽2上设置有能够使过滤箱1自动晃动的摇动装置4,利用所述摇动装置4来模拟人工的清洗,避免人工直接与清洗药水接触。
优选的:所述摇动装置4有两组,两组摇动装置4在清洗槽2上对称设置,通过对称设置的摇动装置4,来保证过滤箱1晃动的稳定性。
通过在清洗槽2上设置与过滤箱1相配合的摇动装置4,实现对过滤箱1的摇动,使位于过滤箱1内的铜球在过滤箱1内晃动,模拟人工清洗的动作,实现对电镀铜球的充分清洗,极大的提高了工作效率,节省了清洗时间。
参见图2,所述摇动装置4包括无杆气缸41、连接板42、滑动板43、滑台44和与所述滑台44相配合的直线导轨45,所述直线导轨45固定在所述清洗槽2的开口端,所述滑台44与直线导轨45滑动连接,所述滑动板43固定在所述滑台44上,滑动板43通过滑台44的连接,能沿着直线导轨45来回线性移动,所述无杆气缸41通过连接板42与所述滑动板43连接。
无杆气缸41在通气的情况下,通过电磁阀的控制来回移动,通过连接板42,带动滑动板43在直线导轨45上来回线性移动。
参见图3、图4,所述过滤箱1的开口位置处设置有与过滤箱1一体成型的搁板11,所述搁板11有两块,两块搁板11对称设置在过滤箱1开口位置的左右端,所述搁板11呈“7”字状结构,所述搁板11包括竖直段11-1和水平段11-2,所述竖直段11-1与过滤箱1连接。
过滤箱1是通过搁板11与摇动装置4连接的,对于搁板11与摇动装置4的连接,本实用新型设计了如下技术方案。
所述摇动装置4还设置有用于降低过滤箱重力冲击的缓冲机构,所述缓冲机构设置在滑动板43上,所述水平段11-2与所述缓冲机构连接。
这么设计的目的在于,在实际的使用过程中,过滤箱1在盛装电镀铜球后,重量加重,在无杆气缸41的摇动作用下,过滤箱1沿着直线导轨方向直线左右移动,同时还会沿着重力方向上下震动,造成过滤箱1与滑动板43硬性接触,在长时间的使用中,不断的硬性接触会降低过滤箱1的使用寿命,尤其是对于过滤箱1的搁板11,搁板11在不断的震动撞击中出现变形、断裂的情况,会极大的影响使用效率。
参见图2,具体的,所述缓冲机构包括圆柱轴46、缓冲弹簧47和被圆柱轴46贯穿且沿圆柱轴46轴向上下移动的搁台48,所述圆柱轴46有两组且固定设置在滑动板43上,所述缓冲弹簧47与圆柱轴46套接且所述缓冲弹簧47的一端与滑动板43连接,另一端与搁台48连接。
所述搁台48呈“U”型结构,所述水平段11-2置于“U”型结构的搁台48内,所述过滤箱1通过缓冲机构与所述滑动板43弹性连接。
通过在摇动装置4上设置缓冲机构的方式,减轻了装满电镀铜球的过滤箱1对滑动板43的重力冲击,从而降低了过滤箱1上搁板11的损坏率,延长其使用寿命。
参见图4,优选的:搁板11内设置有用于避空圆柱轴46的避空槽13。
优选的:所述水平段11-2远离竖直段11-1的一端设置有方便提取过滤箱1的环把手12。
参见图5,优选的:所述清洗槽2的底部设置有“V”型结构的沉淀仓21,所述沉淀仓21的底部连接有泄流管22,经过多次使用的药水中含有较多的杂质,因此,通过在清洗槽2底部设置沉淀仓21,有利于杂质的沉淀,保证上层液面的清澈,增强对电镀铜球的清洗效果,而且,还能实现对药水的多次利用。
优选的:所述清洗槽2内与所述沉淀仓21的连接处环向设置有限位台23,所述限位台23上设置有多个通孔。
设置限位台23的目的在于防止过滤箱1掉入清洗槽2内,导致无法取出的情况出现。
在实际使用过程中,可能由于操作人员的操作不当,或者对晃动频率参数的错误设置,导致过滤箱1的搁板11断裂,过滤箱1就掉入清洗槽2内,在沉淀仓21处某一位置卡死,而无法轻松的将过滤箱1取出。
设置限位台23就能很好的防止这样的情况出现,搁板11断裂情况出现后,掉落的过滤箱1会被限位台23阻挡,使其不会掉落到沉淀仓21内。
而设置通孔的目的,方便药水的正常渗透,保证电镀铜球的正常清洗。
以上仅是本技术的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本技术的保护范围。
Claims (10)
1.一种电镀铜球清洗设备,包括过滤箱(1)、清洗槽(2)和基板(3),所述过滤箱(1)位于清洗槽(2)内,所述清洗槽(2)通过四条支腿与基板(3)固定连接,其特征在于,
所述清洗槽(2)上设置有使所述过滤箱(1)晃动的摇动装置(4)。
2.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述摇动装置(4)设有两组,两组摇动装置(4)在清洗槽(2)上左右对称设置。
3.根据权利要求1所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述摇动装置(4)包括无杆气缸(41)、连接板(42)、滑动板(43)、滑台(44)和直线导轨(45),所述直线导轨(45)固定在所述清洗槽(2)开口的端面上,所述滑台(44)与直线导轨(45)滑动连接,所述滑动板(43)与所述过滤箱(1)连接且固定在所述滑台(44)上,所述无杆气缸(41)通过连接板(42)与所述滑动板(43)连接。
4.根据权利要求3所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述摇动装置(4)还包括用于降低过滤箱(1)重力冲击的缓冲机构,所述缓冲机构设置在滑动板(43)上且与过滤箱(1)连接。
5.根据权利要求4所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述缓冲机构包括圆柱轴(46)、缓冲弹簧(47)和被圆柱轴(46)贯穿且沿圆柱轴(46)轴向移动的搁台(48),所述圆柱轴(46)有两组且固定设置在滑动板(43)上,所述缓冲弹簧(47)与圆柱轴(46)套接且所述缓冲弹簧(47)的一端与滑动板(43)连接,另一端与搁台(48)连接,所述过滤箱(1)与搁台(48)连接。
6.根据权利要求5所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述过滤箱(1)的开口位置处设置有与过滤箱(1)一体成型的搁板(11),所述搁板(11)设有两块,两块搁板(11)对称设置在过滤箱(1)开口位置的左右端,所述搁板(11)置于所述搁台(48)上,搁板(11)内设置有用于避空圆柱轴(46)的避空槽(13)。
7.根据权利要求6所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述搁台(48)呈“U”型结构,所述搁板(11)呈“7”字状结构,所述搁板(11)包括竖直段(11-1)和水平段(11-2),所述竖直段(11-1)与过滤箱(1)连接,所述水平段(11-2)置于“U”型结构的搁台(48)内。
8.根据权利要求7所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述水平段(11-2)远离竖直段(11-1)的一端设置有方便提取过滤箱(1)的环把手(12)。
9.根据权利要求1-7任一项所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述清洗槽(2)的底部设置有“V”型结构的沉淀仓(21),所述沉淀仓(21)的底部连接有泄流管(22)。
10.根据权利要求9所述的一种电镀铜球清洗设备,其特征在于,所述清洗槽(2)内与所述沉淀仓(21)的连接处环向设置有限位台(23),所述限位台(23)上设置有多个通孔。
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