CN210276173U - 镶嵌结构及其首饰 - Google Patents

Abstract

本实用新型适用于首饰镶嵌技术领域，提供了一种镶嵌结构及其首饰，其中，镶嵌结构包括本体以及设于本体上的镶嵌位；相对于现有技术，其镶嵌件下部可由抵持孔所抵持，镶嵌件整体可容纳在容纳孔中，容纳孔与镶嵌件的上部形状大小相匹配，进而可对镶嵌件进行限位，且镶嵌件的上部可由抵持壁所抵持限位，整体结构牢固可靠，精准度高，不易脱落；并且镶嵌件在镶嵌时，可通过机械手或者治具等放置在抵持壁的上方，进而通过压持，可使得镶嵌件从镶嵌孔中挤入至容纳孔中(通过本体的塑性变形)，整体镶嵌可实现批量化生产，成本低，效率高，周期短。

Description

镶嵌结构及其首饰

技术领域

本实用新型属于首饰镶嵌技术领域，具体涉及到一种镶嵌结构及其首饰。

背景技术

目前，硬金镶嵌首饰是人们经常佩戴的一种饰品，硬金镶嵌首饰有男女戒、吊坠、手镯、耳环、胸针、礼品类等饰品，在饰品中有着举足轻重的地位。

现有的硬金产品基本都是通过在蜡坯上雕刻好镶嵌爪或是卡位，后期通过人工的方式来进行镶嵌，甚至是使用胶水黏连固定。

目前采用在蜡坯上雕刻好镶嵌爪或是卡位，后期通过人工的方式的镶嵌精确度不够，掉落可能性高；用胶水黏连的镶嵌硬金产品持久性差、美观性差、稳定性差以及质量差，不能满足首饰工艺要求；并且上述方式采用人工镶嵌的成本高，周期长，效率低，不能满足市场变化的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术中镶嵌方式精确度不够、掉落可能性大、成本高、周期长以及效率低的不足，提供了一种镶嵌结构。

本实用新型是这样实现的：镶嵌结构，其包括本体以及设于本体上的镶嵌位；

其中，所述镶嵌位包括设于本体上的用于抵持镶嵌件的下部的抵持孔以及位于抵持孔的上端的用于容纳镶嵌件的容纳孔，所述容纳孔的上部延伸有用于抵持镶嵌件的上部的抵持壁，所述容纳孔与所述镶嵌件的上部相匹配，所述抵持壁上构造有略小于所述镶嵌件的上部的镶嵌孔。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持壁的上端构造有方便定位珠宝的定位斜面。

作为本实用新型的一个优选方案，所述镶嵌位的数量为多个。

作为本实用新型的一个优选方案，多个所述镶嵌位沿着所述本体排列设置成至少一个镶嵌单元，且每个所述镶嵌单元中的多个所述容纳孔依次连通构造成方便加工的开槽。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持孔为通孔。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持孔的上部孔壁构造有用于抵持定位所述镶嵌件的第一定位壁，且所述抵持孔向上延伸有用于抵持定位所述镶嵌件的第二定位壁。

作为本实用新型的一个优选方案，所述本体上构造有方便减轻质量的镂空孔。

作为本实用新型的一个优选方案，所述本体的材质为金属材质。

本实用新型还提供了一种首饰，其包括镶嵌件和如上述所述的镶嵌结构，所述镶嵌件镶嵌在所述镶嵌位中，所述镶嵌件的下端抵持所述抵持孔，所述镶嵌件的上端抵持所述抵持壁。

作为本实用新型的一个优选方案，所述首饰包括手镯、吊坠、戒指、耳环以及胸针。

本实用新型提供的一种几何体爪镶，相对于现有技术，通过设置固定面和固定槽，可避免镶嵌珠宝时空心爪镶件出现塌陷情况。

综上所述，该镶嵌结构，相对于现有技术，其镶嵌件下部可由抵持孔所抵持，镶嵌件整体可容纳在容纳孔中，容纳孔与镶嵌件的上部形状大小相匹配，进而可对镶嵌件进行限位，且镶嵌件的上部可由抵持壁所抵持限位，整体结构牢固可靠，不易脱落；并且镶嵌件在镶嵌时，可通过机械手或者治具等放置在抵持壁的上方，进而通过压持，可使得镶嵌件从镶嵌孔中挤入至容纳孔中(通过本体的塑性变形)，整体镶嵌可实现批量化生产，成本低，效率高，周期短。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。

图1是本实用新型实施例提供的镶嵌结构的正视图(未镶嵌有镶嵌件)；

图2是图1中的B-B截面图；

图3是图2中的B处放大示意图；

图4是本实用新型实施例提供的镶嵌结构的正视图(镶嵌有镶嵌件)；

图5是图4中的C-C截面图；

图6是图5中的D处放大示意图；

图7是本实用新型实施例提供的镶嵌结构的一个视角下的结构示意图(镶嵌有镶嵌件)；

图8是图7中的E处放大示意图；

部分附图标号说明：

1、本体；

2、镶嵌位；

3、镶嵌件；

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1-图8，本实施例提供了一种镶嵌结构，其包括本体1以及设于本体1上的镶嵌位2；

其中，所述镶嵌位2包括设于本体1上的用于抵持镶嵌件3的下部的抵持孔21以及位于抵持孔21的上端的用于容纳镶嵌件3的容纳孔22，所述容纳孔 22的上部延伸有用于抵持镶嵌件3的上部的抵持壁23，所述容纳孔22与所述镶嵌件3的上部相匹配，所述抵持壁23上构造有略小于所述镶嵌件3的上部的镶嵌孔231。

上述中，镶嵌件3可以是珠宝钻石等装饰品，例如钻石，其具有下小上大的结构特征。

具体的，该镶嵌结构，镶嵌件3下部可由抵持孔21所抵持，抵持孔21可以是通孔或者盲孔，即镶嵌件3的下部可部分容纳在抵持孔21中，且与抵持孔 21的孔壁接触进而抵持限位；同时镶嵌件3整体可容纳在容纳孔22中，容纳孔22与镶嵌件3的上部形状大小相匹配，进而可对镶嵌件3进行限位，且镶嵌件3的上部可由抵持壁23所抵持限位，整体结构牢固可靠，精准度高，不易脱落。

具体的，镶嵌件3在镶嵌时，可通过机械手或者治具等放置在抵持壁23 的上方，进而通过压持，可使得镶嵌件3从镶嵌孔231中挤入至容纳孔22中(通过本体1的塑性变形，即抵持壁23变形，使得镶嵌件3可以通过变形后变大的镶嵌孔231)，整体镶嵌可实现自动化生产，成本低，效率高，周期短。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持壁23的上端构造有方便定位所述镶嵌件3的定位斜面232。

上述中，具体的，定位斜面232可以匹配镶嵌件下小上大的形状，进而定位斜面232可以方便镶嵌时镶嵌件3的定位，避免压持时镶嵌件滑落或者移动造成镶嵌效果差或者镶嵌件3脱落等。

作为本实用新型的一个优选方案，所述镶嵌位2的数量为多个。

作为本实用新型的一个优选方案，多个所述镶嵌位22沿着所述本体1排列设置成至少一个镶嵌单元，且每个所述镶嵌单元中的多个所述容纳孔22依次连通构造成方便加工的开槽24。

上述中，具体的，多个镶嵌位22可以是在本体1上排列成至少一个镶嵌单元，镶嵌单元的数量可以根据实际设计情况而定，进而每个镶嵌单元中的开槽 24可以方便其上的多个镶嵌位22的生产制造(可节省CNC加工的工序)，节省生产成本。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持孔21为通孔。

上述中，具体的，通孔可以减轻本体1的整体质量，并且可以方便观察镶嵌件3的镶嵌定位效果。

作为本实用新型的一个优选方案，所述抵持孔21的上部孔壁构造有用于抵持定位所述镶嵌件3的第一定位壁211，且所述抵持孔21向上延伸有用于抵持定位所述镶嵌件3的第二定位壁212。

上述中，具体的，通过设置第二定位壁212，可以实现下部规格不一样的镶嵌件3的抵持定位，即不同规格的镶嵌件3可以通过第一定位壁211或/和第二定位壁212来实现抵持限位，例如下部较大的镶嵌件3可以由第二定位壁212 实现定位，较小的可以由第一定位壁211来实现抵持限位。

进而可以避免由于生产误差等导致的安装尺寸不匹配而造成的镶嵌不美观或者无法镶嵌等情况。

作为本实用新型的一个优选方案，所述本体1上构造有方便减轻质量的镂空孔11。

上述中，具体的，镂空孔11可以减轻本体1的质量。

作为本实用新型的一个优选方案，所述本体1的材质为金属材质，具体的，可以采用塑性性能较佳的金属材料。

本实用新型还提供了一种首饰，其包括镶嵌件3和如上述所述的镶嵌结构，所述镶嵌件3镶嵌在所述镶嵌位2中，所述镶嵌件3的下端抵持所述抵持孔21，所述镶嵌件3的上端抵持所述抵持壁23。

作为本实用新型的一个优选方案，所述首饰包括手镯、吊坠、戒指、耳环、吊坠以及胸针。

上述中，具体镶嵌结构描述可参考前述内容，在此不做赘述，其中，本体 1可以与首饰一体成型而成。

综上所述，该镶嵌结构，镶嵌件3下部可由抵持孔21所抵持，抵持孔21 可以是通孔或者盲孔，即镶嵌件3的下部可部分容纳在抵持孔21中，且与抵持孔21的孔壁接触进而抵持限位；同时镶嵌件3整体可容纳在容纳孔22中，容纳孔22与镶嵌件3的上部形状大小相匹配，进而可对镶嵌件3进行限位，且镶嵌件3的上部可由抵持壁23所抵持限位，整体结构牢固可靠，精准度高，不易脱落。

且镶嵌件3在镶嵌时，可通过机械手或者治具等放置在抵持壁23的上方，进而通过压持，可使得镶嵌件3从镶嵌孔231中挤入至容纳孔22中(通过本体 1的塑性变形)，整体镶嵌可实现量产化生产，成本低，效率高，周期短。

有以下几点需要说明：

(1)除非另作定义，本实用新型的实施例及附图中，同一标号代表同一含义。

(2)本实用新型实施例附图中，只涉及到与本实用新型实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(3)为了清晰起见，在用于描述本实用新型的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

(4)在不冲突的情况下，本实用新型的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.镶嵌结构，其特征在于，包括本体以及设于本体上的镶嵌位；

其中，所述镶嵌位包括设于本体上的用于抵持镶嵌件的下部的抵持孔以及位于抵持孔的上端的用于容纳镶嵌件的容纳孔，所述容纳孔的上部延伸有用于抵持镶嵌件的上部的抵持壁，所述容纳孔与所述镶嵌件的上部相匹配，所述抵持壁上构造有略小于所述镶嵌件的上部的镶嵌孔。

2.如权利要求1所述的镶嵌结构，其特征在于，所述抵持壁的上端构造有方便定位珠宝的定位斜面。

3.如权利要求1所述的镶嵌结构，其特征在于，所述镶嵌位的数量为多个。

4.如权利要求3所述的镶嵌结构，其特征在于，多个所述镶嵌位沿着所述本体排列设置成至少一个镶嵌单元，且每个所述镶嵌单元中的多个所述容纳孔依次连通构造成方便加工的开槽。

5.如权利要求1所述的镶嵌结构，其特征在于，所述抵持孔为通孔。

6.如权利要求1所述的镶嵌结构，其特征在于，所述抵持孔的上部孔壁构造有用于抵持定位所述镶嵌件的第一定位壁，且所述抵持孔向上延伸有用于抵持定位所述镶嵌件的第二定位壁。

7.如权利要求1-6中任一项所述的镶嵌结构，其特征在于，所述本体上构造有方便减轻质量的镂空孔。

8.如权利要求1-6中任一项所述的镶嵌结构，其特征在于，所述本体的材质为金属材质。

9.首饰，其特征在于，包括镶嵌件如权利要求1-8中任一项所述的镶嵌结构，所述镶嵌件镶嵌在所述镶嵌位中，所述镶嵌件的下端抵持所述抵持孔，所述镶嵌件的上端抵持所述抵持壁。

10.如权利要求9所述的首饰，其特征在于，所述首饰包括手镯、戒指、吊坠、耳环以及胸针。

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