CN210209956U

CN210209956U - 一种实验室研磨台排水装置

Info

Publication number: CN210209956U
Application number: CN201920704779.3U
Authority: CN
Inventors: Fangbao Tang; 汤方宝
Original assignee: Hefei Huicheng Electronics Co Ltd
Current assignee: Hefei xinhuicheng Microelectronics Co.,Ltd.
Priority date: 2019-05-17
Filing date: 2019-05-17
Publication date: 2020-03-31
Anticipated expiration: 2029-05-17

Abstract

本实用新型提供一种实验室研磨台排水装置。所述实验室研磨台排水装置包括：研磨台和室内排水沟；引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部。本实用新型提供的实验室研磨台排水装置，能够防止残渣在管路中积留，避免出现管路排水不畅的情况，且减少纯水使用量，纯水使用量每月同比可减少45％，并且减少处理站废水处理量，减少对排水管路的不利因素。

Description

一种实验室研磨台排水装置

技术领域

本实用新型涉及机电领域，尤其涉及一种实验室研磨台排水装置。

背景技术

截止目前，晶圆实验检测是半导体产业生产过程中不可或缺的一部分，用于检测发现异常产品生产过程中某个环节出现问题，以便改善制程方法，提高良率，其异常产品晶圆研磨使用过程中，因刀片切磨产生颗粒状粉尘，采用纯水喷淋防止粉尘扩散空气，研磨台底部接排水管设计，将颗粒物残渣利用水流输送至处理站。

但产生的晶圆残渣，会堵塞排水管，同时对纯水的使用量需求较大，据有效统计，现使用研磨台排水装置使用一个月，易造成排水管流通不畅，需增加纯水使用量或清理管道残渣，残渣清理不但造成纯水资源的浪费和人力资源的浪费，同时对输送管路的质量亦会产生不利因素，不符合环境政策中节约能源、持续减废。

因此，有必要提供一种实验室研磨台排水装置解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种实验室研磨台排水装置，解决了现有的实验室研磨台排水装置，残渣在管路中积留，造成管路排水不畅的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的实验室研磨台排水装置包括：研磨台和室内排水沟；引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部，两个所述连接块相对的一侧分别固定于所述沉淀槽的两侧的顶部；进水管，所述进水管设置于所述研磨台的正上方。

优选的，两个所述压力传感器分别设置于两个所述连接块的顶部，两个所述压力传感器的顶部分别与所述沉淀网槽的底部的两侧接触。

优选的，所述沉淀槽溢流口开设于所述沉淀槽的一侧的顶部，所述排水管道的一端连通于所述净水槽的一侧，所述排水管道的另一端位于所述室内排水沟的正上方。

优选的，所述引流机构包括Y型引流口、引流管和电动排水隔断阀，所述Y型引流口设置于所述研磨台上，所述引流管的一端连通于所述Y型引流口的底部，所述引流管的另一端位于所述沉淀槽的正上方，所述电动排水隔断阀设置于所述引流管上。

优选的，所述连接块的顶部的一侧设置有报警机构，所述报警机构包括触杆、按压式开关和警报器，所述触杆的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述按压式开关的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述警报器的顶部固定于所述连接块的底部。

优选的，所述连接块的顶部的一侧设置有支撑机构，所述支撑机构包括支撑框、支撑柱和弹簧，所述支撑框的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述支撑柱的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述弹簧设置于所述支撑框的内部，所述弹簧的顶部与所述支撑柱的底部接触。

与相关技术相比较，本实用新型提供的实验室研磨台排水装置具有如下有益效果：

本实用新型提供一种实验室研磨台排水装置，切割研磨的残渣随着水流经过Y型引流口，经过电动排水隔断阀(常开状态)，流至沉淀网槽，再沉淀网槽内一次沉底，残渣和水分离，水经过网孔进入沉淀槽，二次沉淀，当沉淀网槽积累残渣量超过二十五千克，压力传感器自动报警，同时电动排水隔断阀自动关闭，清理沉淀网槽，清理结束后再将沉淀网槽放置沉淀槽内，电动排水隔断阀自动开启，水通过沉淀槽上的沉淀槽溢流口流经净水槽，净水槽的澄清水利用水的重力流至室内排水沟，最后流至处理站，能够防止残渣在管路中积留，避免出现管路排水不畅的情况，且减少纯水使用量，纯水使用量每月同比可减少45％，并且减少处理站废水处理量，减少对排水管路的不利因素。

附图说明

图1为本实用新型提供的实验室研磨台排水装置的第一实施例的结构示意图；

图2为图1所示的A部放大示意图；

图3为本实用新型提供的实验室研磨台排水装置的第二实施例的结构示意图；

图4为图3所示的B部放大示意图。

图中标号：1、研磨台，2、进水管，3、引流机构，31、Y型引流口，32、引流管，33、电动排水隔断阀，4、净水机构，41、沉淀槽，42、净水槽，43、沉淀网槽，44、连接块，45、压力传感器，46、沉淀槽溢流口，47、排水管，5、室内排水沟，6、报警机构，61、触杆，62、按压式开关，63、警报器，7、支撑机构，71、支撑框，72、支撑柱，73、弹簧。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步说明。请结合参阅图1、图2、图3和图4，其中，图1为本实用新型提供的实验室研磨台排水装置的第一实施例的结构示意图；图2为图1所示的A部放大示意图；图3为本实用新型提供的实验室研磨台排水装置的第二实施例的结构示意图；图4为图3所示的B部放大示意图。

本实用新型提出一种实验室研磨台排水装置。

第一实施例

请参照图1-2，在本实用新型的第一实施例中，实验室研磨台排水装置包括：研磨台1和室内排水沟5；引流机构3，所述引流机构3设置于所述研磨台1上；净水机构4，所述净水机构4设置于所述研磨台1的下方，所述净水机构4包括沉淀槽41、净水槽42、沉淀网槽43、两个连接块44、两个压力传感器45、沉淀槽溢流口46和排水管道47，所述沉淀槽41位于所述研磨台1的下方，所述净水槽42设置于所述沉淀槽41的左侧，所述沉淀网槽43设置于所述沉淀槽41的内部，沉淀网槽43上开设有网孔，两个所述连接块44相对的一侧分别固定于所述沉淀槽41的两侧的顶部；进水管2，所述进水管2设置于所述研磨台1的正上方。

两个所述压力传感器45分别设置于两个所述连接块44的顶部，两个所述压力传感器45的顶部分别与所述沉淀网槽43的底部的两侧接触，压力传感器45的型号为PT124-35Mpa。

所述沉淀槽溢流口46开设于所述沉淀槽41的一侧的顶部，所述排水管道47的一端连通于所述净水槽42的一侧，所述排水管道47的另一端位于所述室内排水沟5的正上方。

所述引流机构3包括Y型引流口31、引流管32和电动排水隔断阀33，所述Y型引流口31设置于所述研磨台1上，所述引流管32的一端连通于所述Y型引流口31的底部，所述引流管32的另一端位于所述沉淀槽41的正上方，所述电动排水隔断阀33设置于所述引流管32上。

本实用新型提供的实验室研磨台排水装置的工作原理如下：

异常产品检测时，首先打开进水管2上的出水阀，切割研磨的残渣随着水流经过Y型引流口31，经过电动排水隔断阀33(常开状态)，流至沉淀网槽43，再沉淀网槽43内一次沉底，残渣和水分离，水经过网孔进入沉淀槽41，二次沉淀，当沉淀网槽43积累残渣量超过二十五千克，压力传感器45自动报警，同时电动排水隔断阀33自动关闭，清理沉淀网槽43，清理结束后再将沉淀网槽43放置沉淀槽41内，电动排水隔断阀33自动开启，水通过沉淀槽41上的沉淀槽溢流口46流经净水槽42，净水槽42的澄清水利用水的重力流至室内排水沟5，最后流至处理站。

与相关技术相比较，本实用新型提供的实验室研磨台排水装置有如下有益效果：

切割研磨的残渣随着水流经过Y型引流口31，经过电动排水隔断阀33(常开状态)，流至沉淀网槽43，再沉淀网槽43内一次沉底，残渣和水分离，水经过网孔进入沉淀槽41，二次沉淀，当沉淀网槽43积累残渣量超过二十五千克，压力传感器45自动报警，同时电动排水隔断阀33自动关闭，清理沉淀网槽43，清理结束后再将沉淀网槽43放置沉淀槽41内，电动排水隔断阀33自动开启，水通过沉淀槽41上的沉淀槽溢流口46流经净水槽42，净水槽42的澄清水利用水的重力流至室内排水沟5，最后流至处理站，能够防止残渣在管路中积留，避免出现管路排水不畅的情况，且减少纯水使用量，纯水使用量每月同比可减少45％，并且减少处理站废水处理量，减少对排水管路的不利因素。

第二实施例

请结合参阅图3-4，基于本申请的第一实施例提供的实验室研磨台排水装置，本申请的第二实施例提出另一种实验室研磨台排水装置。第二实施例仅仅是第一实施例优选的方式，第二实施例的实施对第一实施例的单独实施不会造成影响。

具体的，本申请的第二实施例提供的实验室研磨台排水装置的不同之处在于，所述连接块44的顶部的一侧设置有报警机构6，所述报警机构6包括触杆61、按压式开关62和警报器63，所述触杆61的顶部固定于所述沉淀网槽43的底部的一侧，所述按压式开关62的底部固定于所述连接块44的顶部的一侧，所述按压式开关62与所述警报器63电性连接，所述警报器63的顶部固定于所述连接块44的底部。

所述连接块44的顶部的一侧设置有支撑机构7，所述支撑机构7包括支撑框71、支撑柱72和弹簧73，所述支撑框71的底部固定于所述连接块44的顶部的一侧，所述支撑柱72的顶部固定于所述沉淀网槽42的底部的一侧，所述弹簧73设置于所述支撑框71的内部，所述弹簧73的顶部与所述支撑柱72的底部接触，通过弹簧73的弹力挤压支撑柱72，支撑柱72挤压沉淀网槽43，从而对沉淀网槽43进行支撑，沉淀网槽43内残渣增多时，沉淀网槽43受重力作用发生下移，沉淀网槽43带动触杆61下移，触杆61挤压按压式开关62，警报器63发出警报，提示工作人员清理残渣，直至工作人员取出沉淀网槽43后，触杆61远离按压式开关62，警报器63停止工作，能够及时提示工作人员进行清理，保证了装置的正常运行。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims

1.一种实验室研磨台排水装置，其特征在于，包括：

研磨台和室内排水沟；

引流机构，所述引流机构设置于所述研磨台上；

净水机构，所述净水机构设置于所述研磨台的下方，所述净水机构包括沉淀槽、净水槽、沉淀网槽、两个连接块、两个压力传感器、沉淀槽溢流口和排水管道，所述沉淀槽位于所述研磨台的下方，所述净水槽设置于所述沉淀槽的左侧，所述沉淀网槽设置于所述沉淀槽的内部，两个所述连接块相对的一侧分别固定于所述沉淀槽的两侧的顶部；

进水管，所述进水管设置于所述研磨台的正上方。

2.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，两个所述压力传感器分别设置于两个所述连接块的顶部，两个所述压力传感器的顶部分别与所述沉淀网槽的底部的两侧接触。

3.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，所述沉淀槽溢流口开设于所述沉淀槽的一侧的顶部，所述排水管道的一端连通于所述净水槽的一侧，所述排水管道的另一端位于所述室内排水沟的正上方。

4.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，所述引流机构包括Y型引流口、引流管和电动排水隔断阀，所述Y型引流口设置于所述研磨台上，所述引流管的一端连通于所述Y型引流口的底部，所述引流管的另一端位于所述沉淀槽的正上方，所述电动排水隔断阀设置于所述引流管上。

5.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，所述连接块的顶部的一侧设置有报警机构，所述报警机构包括触杆、按压式开关和警报器，所述触杆的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述按压式开关的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述警报器的顶部固定于所述连接块的底部。

6.根据权利要求1所述的实验室研磨台排水装置，其特征在于，所述连接块的顶部的一侧设置有支撑机构，所述支撑机构包括支撑框、支撑柱和弹簧，所述支撑框的底部固定于所述连接块的顶部的一侧，所述支撑柱的顶部固定于所述沉淀网槽的底部的一侧，所述弹簧设置于所述支撑框的内部，所述弹簧的顶部与所述支撑柱的底部接触。