CN210169195U

CN210169195U - 一种增设加热炉的等离子体处理设备

Info

Publication number: CN210169195U
Application number: CN201920973232.3U
Authority: CN
Inventors: Gangqiang Cai; 蔡刚强; Chenlu Wang; 王琛璐; Youlong Xia; 夏友龙
Original assignee: Suzhou Weipeng Electrical Technology Co ltd
Current assignee: Suzhou Weipeng Electrical Technology Co ltd
Priority date: 2019-06-26
Filing date: 2019-06-26
Publication date: 2020-03-24
Anticipated expiration: 2029-06-26

Abstract

本实用新型公开了一种增设加热炉的等离子体处理设备，其包括依次连接的进料区、加热区、过渡区、处理区以及取料区；进料区设有第一传送机构及驱动其升降的第一驱动机构；加热区设有加热炉及位于其下方的第二传送机构；过渡区设有第三传送机构及驱动其升降的第三驱动机构；处理区设有等离子体真空箱以及位于其下方的第四传送机构；取料区设有第五传送机构及驱动其升降的第五驱动机构；当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时，与加热炉、等离子体真空箱平齐，当降至最低位时，与第二传送机构、第四传送机构平齐。本实用新型通过增设加热区及过渡区，使材料经加热预处理“活化”后，再进行等离子处理，提升材料性能。

Description

一种增设加热炉的等离子体处理设备

技术领域

本实用新型涉及真空技术领域，尤其涉及一种增设加热炉的等离子体处理设备。

背景技术

申请号为201310081884.3、申请日为2013.03.15、发明名称为《一种鞋材表面等离子体放电处理设备》的专利申请文件中公开一种等离子体处理设备，其包括分布在真空箱两侧的第一托盘架和第二托盘架，通过两托盘架的升降以及真空箱下方的传输导轨，实现托盘架上放料托盘的自动循环，但是，该设备在真空腔之间没有加热设备等预处理设备，鞋材未经预处理直接进入真空箱中在等离子体的作用下处理，其稳定性及拉伸性能都有所欠缺。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的是提供一种增设加热炉的等离子体处理设备，该增设加热炉的等离子体处理设备在进料区和真空箱之间增设加热区及过渡区，优化了现有工艺，使材料经加热预处理“活化”后，再进入真空箱中进行等离子处理，从而使材料整体的稳定性、牢固性及拉伸性能都有所提高。

本实用新型的上述目的可采用下列技术方案来实现：本实用新型提供一种增设加热炉的等离子体处理设备，包括依次连接的进料区、加热区、过渡区、处理区以及取料区；进料区设有第一传送机构及位于其下方并驱动其升降的第一驱动机构；加热区设有加热炉及位于其下方的第二传送机构；过渡区设有第三传送机构及位于其下方并驱动其升降的第三驱动机构；处理区设有等离子体真空箱以及位于其下方的第四传送机构；取料区设有第五传送机构及位于其下方并驱动其升降的第五驱动机构；当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时，与加热炉、等离子体真空箱平齐，当三者降至最低位时，与第二传送机构、第四传送机构平齐。

作为本实用新型的一个优选实施方式，进一步地，第一传送机构包括第一托盘架、安装在第一托盘架上方且水平方向设置的可伸缩进料推杆以及与进料推杆连接的电机。进料推杆在电机的作用下可以推动第一托盘架上的待处理材料进入加热炉内。

更进一步地，第一托盘架的两侧还设有托盘滚轮，托盘滚轮上搭载放料托盘，放料托盘为框架结构；放料托盘用于盛放材料，托盘滚轮的设置便于放料托盘的滑动,进料推杆在电机的作用下可以推动放料托盘滑动。

作为本实用新型的一个优选实施方式，进一步地，第二传送机构、第三传送机构、第四传送机构结构相同，均包括第二托盘架、安装在第二托盘架下方且水平设置的无杆气缸、竖直固定在无杆气缸活塞滑块上的第二气缸，第二托盘架横向开设上下贯通的滑槽，第二气缸位于滑槽内，第二气缸的顶部设有推拉板。推拉板在第二气缸的作用下实现升降，第二气缸在无杆气缸的作用下左右滑动，推拉板的设置推动或拉动放料托盘或材料快速滑动。

作为本实用新型的一个优选实施方式，进一步地，第五传送机构包括第五托盘架及位于其外端下方的顶杆，顶杆竖向设置，其顶端高于第五传送机构位于最低位的高度；顶杆可以使第五传送机构在最低位时处于倾斜状态，便于其上的放料托盘或材料快速滑落至第四传送机构。

作为本实用新型的一个优选实施方式，进一步地，加热炉的进口炉门及出口炉门均由第一气缸控制上下滑动启闭。

作为本实用新型的一个优选实施方式，进一步地，等离子体真空箱的进口箱门及出口箱门均铰接在真空箱本体上，由第三气缸控制启闭。

本实用新型的有益效果是：在等离子体真空箱前端加设一道加热的预处理设备，优化了原始工艺，使材料经加热活化后再进行等离子体处理，保证材料处理的稳定性和可靠性，并有效提高其粘结性能和拉伸性能；利用进料区传送机构将材料送入加热炉内进行预处理，预处理完成后经过中间的过渡区进入真空箱的处理区进行等离子体放电处理，最终从取料区取料，至此，材料的整体处理过程完成；为了便于材料的取放及处理，将材料放入放料托盘中使放料托盘在各传送机构中循环传送，最终传送回原始位置，等待放料，整个循环为全自动化方式，简单快捷，便于生产操作，提高了生产效率与生产质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为无杆气缸上设置第二气缸的结构示意图。

图中，1进料区；11、第一传送机构；111、第一托盘架；112、托盘滚轮；12、第一驱动机构；2、加热区；21、加热炉；22、第二传送机构；221、第二托盘架；223、无杆气缸；224、活塞滑块；225、第二气缸；226、滑槽；227、推拉板；23、第一气缸；3、过渡区；31、第三传送机构；32、第三驱动机构；4、处理区；41、等离子体真空箱；42、第四传送机构；43、第三气缸；5、取料区；51、第五传送机构；511、第五托盘架；512、顶杆；52、第五驱动机构；6、放料托盘。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。

本实用新型提供的增设加热炉的等离子体处理设备，如图1所示，包括依次连接的进料区1、加热区2、过渡区3、处理区4以及取料区5；进料区1设有水平方向的第一传送机构11及位于其下方并驱动其升降的第一驱动机构12；加热区2设有加热炉21及位于其下方的第二传送机构22，加热炉内壁顶部或侧壁设有加热管，用于加热材料；过渡区3设有第三传送机构31及位于其下方并驱动其升降的第三驱动机构32；处理区4设有等离子体真空箱41以及位于其下方的第四传送机构42；取料区设有第五传送机构51及位于其下方并驱动其升降的第五驱动机构52；当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时，与加热炉、等离子体真空箱平齐，当三者降至最低位时，与第二传送机构、第四传送机构平齐。

具体地，加热炉21的进口炉门及出口炉门朝向左右方向设置，均由第一气缸23控制上下滑动启闭；等离子体真空箱41的进口箱门及出口箱门均铰接在真空箱本体上，由第三气缸43控制启闭。具体地，第一驱动机构、第三驱动机构、第五驱动机构均为气缸。

优选地，第一传送机构包括第一托盘架111、安装在第一托盘架111 上方水平方向设置的可伸缩进料推杆以及与进料推杆连接的电机；为了便于材料的整体运送，第一托盘架111上放置放料托盘6，将材料放入放料托盘6中，放料托盘6在进料推杆的作用下，被推送至加热炉中；具体地，放料托盘为框架结构，优选双层结构。为了便于放料托盘6的滑动，优选地，第一托盘架111的两侧还设有托盘滚轮112，放料托盘6的两端搭在两个托盘滚轮112上。

优选地，第二传送机构22、第三传送机构31、第四传送机构42结构相同，均包括第二托盘架211、安装在第二托盘架下方且水平设置的无杆气缸223、竖直固定在无杆气缸活塞滑块224上的第二气缸224，第二托盘架横向开设上下贯通的滑槽226，第二气缸224位于滑槽226内，第二气缸的顶部设有推拉板227，推拉板227在第二气缸的作用下升降，当放料托盘6滑到第二托盘架111上时，使推拉板227上升，挡在放料托盘 6的一侧，然后在无杆气缸223的作用下，使第二气缸224带动推拉板227 沿着滑槽226方向水平滑动，从而实现放料托盘6的推送或拉动进入下一区。优选地，第二托盘架221的两侧也设有托盘滚轮，用于搭载放料托盘，便于放料托盘的滑动。

优选地，第五传送机构51包括第五托盘架511及位于其外端下方的顶杆512，顶杆竖向设置，其顶端略高于第五传送机构位于最低位的高度，从而使第五传送机构51下降至最低位时，第五传送机构51的外端在顶杆 512的作用下略高于内端，呈倾斜状，使第五传送机构51上的放料托盘在重力作用下自动滑向第四传送机构42。进一步优选地，第五托盘架的两侧也设有用于搭载放料托盘的托盘滚轮。

本实用新型提供的增设加热炉的等离子体处理设备的工作原理是：初始状态时，第一传送机构11、第三传送机构31、第五传送机构51均位于最低位，第一传送机构11上放有一个放料托盘6，加热炉21、等离子体真空箱41内分别放有一个放料托盘6。当启动开始时，将待处理的材料放入放料托盘6内，加热炉21的炉门打开，第一传送机构11、第三传送机构31、第五传送机构51同时升至最高位，进料推杆112推动放料托盘 6滑入加热炉21内，将加热炉21内已有的放料托盘6顶出滑至第三传送机构31，等离子体真空箱41的箱门打开，被顶出的放料托盘随后进入等离子体真空箱41内，将等离子体真空箱41内的原有的放料托盘6被顶出，从等离子体真空箱41内被顶出的放料托盘6滑至第五传送机构51上，当第五传送机构51及等离子体真空箱41内的放料托盘到位后，第一传送机构11、第三传送机构31、第五传送机构51开始下降，当第五传送机构 51下降至中间位置时(利用第五驱动机构上的磁性开关使第五传送机构 51下降至合适位置)，此时，还未接触顶杆512，仍处于水平状态，待工人取完料后，第五传送机构51下降至最低位，由于顶杆512的存在，第五传送机构51的外端被顶起，使第五传送机构51向内倾斜，第五传送机构51上的放料托盘6在重力作用下滑至第四传送机构42，在第四传送机构推拉板的推拉作用下滑至第三传送机构31上，在第三传送机构推拉板的推拉作用下滑至第二传送机构22上，进而滑至第一传送机构11上，工人将待处理的材料放入第一传送机构11的放料托盘6中，重复上述过程。

以上所述实施方式仅表达了本实用新型的多种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。

Claims

1.一种增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，包括依次连接的进料区(1)、加热区(2)、过渡区(3)、处理区(4)以及取料区(5)；进料区设有第一传送机构(11)及位于其下方并驱动其升降的第一驱动机构(12)；加热区设有加热炉(21)及位于其下方的第二传送机构(22)；过渡区设有第三传送机构(31)及位于其下方并驱动其升降的第三驱动机构(32)；处理区设有等离子体真空箱(41)以及位于其下方的第四传送机构(42)；取料区设有第五传送机构(51)及位于其下方并驱动其升降的第五驱动机构(52)；当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时，与加热炉、等离子体真空箱平齐，当三者降至最低位时，与第二传送机构、第四传送机构平齐。

2.根据权利要求1所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，第一传送机构包括第一托盘架(111)、安装在第一托盘架上方且水平方向设置的可伸缩进料推杆以及与进料推杆连接的电机。

3.根据权利要求2所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，第一托盘架的两侧还设有托盘滚轮(112)，托盘滚轮上搭载放料托盘(6)，放料托盘为框架结构。

4.根据权利要求1所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，第二传送机构、第三传送机构、第四传送机构结构相同，均包括第二托盘架(221)、安装在第二托盘架下方且水平设置的无杆气缸(223)、竖直固定在无杆气缸活塞滑块(224)上的第二气缸(225)，第二托盘架横向开设上下贯通的滑槽(226)，第二气缸位于滑槽内，第二气缸的顶部设有推拉板(227)。

5.根据权利要求1所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，第五传送机构包括第五托盘架(511)及位于其外端下方的顶杆(512)，顶杆竖向设置，其顶端高于第五传送机构位于最低位的高度。

6.根据权利要求1所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，加热炉的进口炉门及出口炉门均由第一气缸(23)控制上下滑动启闭。

7.根据权利要求1所述的增设加热炉的等离子体处理设备，其特征在于，等离子体真空箱的进口箱门及出口箱门均铰接在真空箱本体上，由第三气缸(43)控制启闭。