CN210151214U - 一种连续式磁控溅射装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种连续式磁控溅射装置，包括外壳体，外壳体的底部设有抽真空管，外壳体的顶部设有导电板，导电板的顶端设有接线柱，接线柱的具有射频发生器，射频发生器与导电板电性连接，导电板的底部设有若干间隔排列的磁极端，磁极端的底部设有靶材板，靶材板侧面两端均设有挡板，挡板与外壳体通过螺栓固定连接，靶材板的底部设有翻转固定装置，翻转固定装置由压钳和电动机构成，压钳具有两组，分别设置于外壳体内侧面的两端，压钳的一侧设有转动轴，压钳与外壳体通过转动轴活动连接，具有能够自动进行基板翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及溅射装置技术领域，具体讲是一种连续式磁控溅射装置。
背景技术
磁控溅射装置是物理气相沉积的一种装置，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，然而经分析发现，目前的磁控溅射装置无法对基板进行连续的双面溅射，而是需要手动进行基板翻面，这就导致了工作效率有所降低，并且提高了人工操作量，存在待改进的方面。
实用新型内容
因此，为了解决上述不足，本实用新型在此提供一种连续式磁控溅射装置，具有能够自动进行基板翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率的优点。
本实用新型是这样实现的，构造一种连续式磁控溅射装置，包括外壳体，外壳体的底部设有抽真空管，外壳体的顶部设有导电板，导电板的顶端设有接线柱，接线柱的具有射频发生器，射频发生器与导电板电性连接，导电板的底部设有若干间隔排列的磁极端，磁极端的底部设有靶材板，靶材板侧面两端均设有挡板，挡板与外壳体通过螺栓固定连接，靶材板的底部设有翻转固定装置，翻转固定装置由压钳和电动机构成，压钳具有两组，分别设置于外壳体内侧面的两端，压钳的一侧设有转动轴，压钳与外壳体通过转动轴活动连接，转动轴的一侧设有链轮，链轮上嵌套有传动链，且压钳的中间位置设有基板，电动机设置于链轮的底部一侧，转动轴与电动机的输出轴通过传动链活动连接。
进一步的，抽真空管的底部具有连接法兰，连接法兰上嵌套固定有橡胶密封圈，首先通过连接法兰将抽真空管连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体内部抽一定比例真空，改变内部压力，随后通过射频发生器向导电板施加交流电，当其频率增高到射频频率时磁极端即可产生稳定的射频电场，从而使靶材板中电子震荡产生电离碰撞能量脱离靶材板，并且在电子脱离过程中受洛伦磁力的影响，被束缚在靠近靶材板等离子区域内，在磁场的作用下围绕靶材板作圆周运动，运动过程中又不断与靶材板的氩原子产生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材板，并且经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，最终摆脱洛伦磁力线束缚，远离靶材板沉积在底端的基板，基板由两端压钳固定，压钳的一侧设有转动轴，转动轴的一侧设有链轮，转动轴与电动机的输出轴通过传动链活动连接，因此在基板的一面溅射完成后，可以使用电动机带动转动轴进行旋转，从而使固定在压钳上的基板完成翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率。
进一步的，外壳体的一侧设有进气管，进气管的内部设有进气阀，且进气管与外壳体连通，通过设置的进气管在作业结束后向内部通入空气，使外壳体内部压力恢复正常水平。
进一步的，转动轴上嵌套设有滚动轴承，通过设置的滚动轴承减小转动轴转动时的摩擦力。
进一步的，抽真空管与外壳体连通，通过设置的抽真空管连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体内部抽一定比例真空，改变内部压力。
本实用新型具有能够自动进行基板翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率的优点，具体体现为：抽真空管的底部具有连接法兰，连接法兰上嵌套固定有橡胶密封圈，首先通过连接法兰将抽真空管连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体内部抽一定比例真空，改变内部压力，随后通过射频发生器向导电板施加交流电，当其频率增高到射频频率时磁极端即可产生稳定的射频电场，从而使靶材板中电子震荡产生电离碰撞能量脱离靶材板，并且在电子脱离过程中受洛伦磁力的影响，被束缚在靠近靶材板等离子区域内，在磁场的作用下围绕靶材板作圆周运动，运动过程中又不断与靶材板的氩原子产生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材板，并且经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，最终摆脱洛伦磁力线束缚，远离靶材板沉积在底端的基板，基板由两端压钳固定，压钳的一侧设有转动轴，转动轴的一侧设有链轮，转动轴与电动机的输出轴通过传动链活动连接，因此在基板的一面溅射完成后，可以使用电动机带动转动轴进行旋转，从而使固定在压钳上的基板完成翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率。
附图说明
图1是本实用新型连续式磁控溅射装置结构示意图；
图2是本实用新型连续式磁控溅射装置的A0放大图。
图中所示序号：外壳体1、导电板2、磁极端3、挡板4、接线柱5、链轮6、靶材板7、基板8、翻转固定装置9、压钳10、转动轴11、滚动轴承12、传动链13、电动机14、射频发生器15、抽真空管16、连接法兰17、橡胶密封圈18、进气管19和进气阀20。
具体实施方式
本实用新型通过改进在此提供一种连续式磁控溅射装置，如说明书附图所示，可以按照如下方式予以实施；包括外壳体1，外壳体1的底部设有抽真空管16，外壳体1的顶部设有导电板2，导电板2的顶端设有接线柱5，接线柱5的具有射频发生器15，射频发生器15与导电板2电性连接，导电板2的底部设有若干间隔排列的磁极端3，磁极端3的底部设有靶材板7，靶材板7侧面两端均设有挡板4，挡板4与外壳体1通过螺栓固定连接，靶材板7的底部设有翻转固定装置9，翻转固定装置9由压钳10和电动机14构成，压钳10具有两组，分别设置于外壳体1内侧面的两端，压钳10的一侧设有转动轴11，压钳10与外壳体1通过转动轴11活动连接，转动轴11的一侧设有链轮6，链轮6上嵌套有传动链13，且压钳10的中间位置设有基板8，电动机14设置于链轮6的底部一侧，转动轴11与电动机14的输出轴通过传动链13活动连接。
本实用新型中，抽真空管16的底部具有连接法兰17，连接法兰17上嵌套固定有橡胶密封圈18，首先通过连接法兰17将抽真空管16连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体1内部抽一定比例真空，改变内部压力，随后通过射频发生器15向导电板2施加交流电，当其频率增高到射频频率时磁极端3即可产生稳定的射频电场，从而使靶材板7中电子震荡产生电离碰撞能量脱离靶材板7，并且在电子脱离过程中受洛伦磁力的影响，被束缚在靠近靶材板7等离子区域内，在磁场的作用下围绕靶材板7作圆周运动，运动过程中又不断与靶材板7的氩原子产生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材板7，并且经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，最终摆脱洛伦磁力线束缚，远离靶材板7沉积在底端的基板8，基板8由两端压钳10固定，压钳10的一侧设有转动轴11，转动轴11的一侧设有链轮6，转动轴11与电动机14的输出轴通过传动链13活动连接，因此在基板8的一面溅射完成后，可以使用电动机14带动转动轴11进行旋转，从而使固定在压钳10上的基板8完成翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率；外壳体1的一侧设有进气管19，进气管19的内部设有进气阀20，且进气管19与外壳体1连通，通过设置的进气管19在作业结束后向内部通入空气，使外壳体1内部压力恢复正常水平；转动轴11上嵌套设有滚动轴承12，通过设置的滚动轴承12减小转动轴11转动时的摩擦力；抽真空管16与外壳体1连通，通过设置的抽真空管16连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体1内部抽一定比例真空，改变内部压力。
该种连续式磁控溅射装置的工作原理：首先通过连接法兰17将抽真空管16连接于抽真空设备，根据具体操作要求向外壳体1内部抽一定比例真空，改变内部压力，随后通过射频发生器15向导电板2施加交流电，当其频率增高到射频频率时磁极端3即可产生稳定的射频电场，从而使靶材板7中电子震荡产生电离碰撞能量脱离靶材板7，并且在电子脱离过程中受洛伦磁力的影响，被束缚在靠近靶材板7等离子区域内，在磁场的作用下围绕靶材板7作圆周运动，运动过程中又不断与靶材板7的氩原子产生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材板7，并且经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，最终摆脱洛伦磁力线束缚，远离靶材板7沉积在底端的基板8，基板8由两端压钳10固定，压钳10的一侧设有转动轴11，转动轴11的一侧设有链轮6，转动轴11与电动机14的输出轴通过传动链13活动连接，因此在基板8的一面溅射完成后，可以使用电动机14带动转动轴11进行旋转，从而使固定在压钳10上的基板8完成翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率。
Claims (5)
1.一种连续式磁控溅射装置，包括外壳体(1)，其特征在于：所述外壳体(1)的底部设有抽真空管(16)，所述外壳体(1)的顶部设有导电板(2)，所述导电板(2)的顶端设有接线柱(5)，所述接线柱(5)的具有射频发生器(15)，所述射频发生器(15)与所述导电板(2)电性连接，所述导电板(2)的底部设有若干间隔排列的磁极端(3)，所述磁极端(3)的底部设有靶材板(7)，所述靶材板(7)侧面两端均设有挡板(4)，所述挡板(4)与所述外壳体(1)通过螺栓固定连接，所述靶材板(7)的底部设有翻转固定装置(9)，所述翻转固定装置(9)由压钳(10)和电动机(14)构成，所述压钳(10)具有两组，分别设置于所述外壳体(1)内侧面的两端，所述压钳(10)的一侧设有转动轴(11)，所述压钳(10)与所述外壳体(1)通过转动轴(11)活动连接，所述转动轴(11)的一侧设有链轮(6)，所述链轮(6)上嵌套有传动链(13)，且所述压钳(10)的中间位置设有基板(8)，所述电动机(14)设置于所述链轮(6)的底部一侧，所述转动轴(11)与所述电动机(14)的输出轴通过所述传动链(13)活动连接。
2.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于：所述抽真空管(16)的底部具有连接法兰(17)，所述连接法兰(17)上嵌套固定有橡胶密封圈(18)。
3.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于：所述外壳体(1)的一侧设有进气管(19)，所述进气管(19)的内部设有进气阀(20)，且所述进气管(19)与所述外壳体(1)连通。
4.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于：所述转动轴(11)上嵌套设有滚动轴承(12)。
5.根据权利要求1所述的连续式磁控溅射装置，其特征在于：所述抽真空管(16)与所述外壳体(1)连通。
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| CN201920960188.2U CN210151214U (zh) | 2019-06-24 | 2019-06-24 | 一种连续式磁控溅射装置 |
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| CN201920960188.2U CN210151214U (zh) | 2019-06-24 | 2019-06-24 | 一种连续式磁控溅射装置 |
Publications (1)
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| CN (1) | CN210151214U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115386850A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-25 | 上海积塔半导体有限公司 | 磁控溅射沉积装置 |
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2019
- 2019-06-24 CN CN201920960188.2U patent/CN210151214U/zh active Active
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| CN115386850A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-25 | 上海积塔半导体有限公司 | 磁控溅射沉积装置 |
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