CN210095950U - 隐形固定磁力功能矫治器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开隐形固定磁力功能矫治器,包括套置于上、下牙齿的上颌热压膜模板和下颌热压膜模板、贴合于上、下颌舌侧的上颌舌侧随行弓、下颌舌侧随行弓以及上颌永磁体、下颌永磁体,其特征在于,上颌热压膜模板和下颌热压膜模板,从尖牙的远中和第一前磨牙的近中交接处离断,仅剩余双侧前磨牙及磨牙段,上颌舌侧随行弓、下颌舌侧随行弓分别通过透明自凝塑料包埋固定于上颌热压膜模板和下颌热压膜模板的舌侧,使二者连接为一体;上颌永磁体分别包埋于上颌热压膜模板两端的后牙区,下颌永磁体分别包埋于下颌热压膜模板两端的后牙区。本实用新型矫治器具有隐形,美观,矫治效率高,依从性要求较低,体积小巧,舒适,戴用性好等优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及医疗器具技术领域,特别涉及一种骨性III类错颌矫治器,用于治疗骨性III类错颌。
背景技术
Ⅲ类错畸形是指由于遗传、全身性疾病、内分泌障碍等引起,表现为近远中方向上的异常,常伴有唇(颊)舌向异常。主要临床特征是前牙反,磨牙近中关系,可能伴有后牙反。除典型的反畸形外,Ⅲ类错可因上颌发育不足或后缩,表现为面中份扁平、鼻唇角锐、上唇塌陷,凹面型;也可因下颌过度生长而颏部前突,下颌体长,支短,下颌角钝,下唇外翻,呈下颌前突面型(临床称之为Ⅲ类面型)。在北美人群中患病率约为0.8%-4.2%,但在亚洲地区,这种畸形却相当普遍,日本和朝鲜,Ⅲ类错畸形的正畸治疗占了相当大的比重,发病率约为7.4%-13%,中国Ⅲ类错畸形的发病率约为12%,是正畸门诊中主动就诊的最常见牙颌畸形之一。
此类畸形对患者的软硬组织,咀嚼功能,心理健康等方面都有严重的影响。硬组织方面的影响:曾祥龙等发现前牙反的颅骨发育和颅面关系异常主要表现在四个方面:下颌骨形态发育异常,下颌位置异常,面中部发育异常,异常骨面型。另外,他们还发现乳牙列期的反以功能性为主,替牙期的反是功能性、骨性、牙性混合,恒牙期反以骨性、牙性为主。早期的前牙反形成的锁关系使上颌骨的发育受到阻挡,无法正常生长,而下颌因失去正常覆覆盖的制约,自由的向前生长,使前牙反进行性加重。早期的牙性,功能性反最终也都会发展为骨性前牙反,增加治疗的风险和难度。软组织方面的影响:安氏Ⅲ类患者正面观面下1/3过长,伴或不伴有下颌偏斜。侧面观面中部凹陷,典型的Ⅲ类骨面型为“新月形”,唇较上唇突,面下1/3前突。前牙反面部软组织厚度基本正常,颏部唇部的软组织可以发生代偿性改变掩盖骨骼的畸形,但软组织的代偿是有限的,骨骼畸形并不能被完全掩盖。咀嚼肌的影响:患者在习惯性咬合时,肌肉之间及两侧同名肌肉的肌电活动的协调性差。因覆覆盖异常、牙齿排列不齐,上下牙常不能很好地尖窝相对,接触牙数少,且存在不同程度的干扰,咀嚼肌、颞下颌关节不能协调一致,咀嚼时肌肉力量较弱,肌电活动小。Kraphponlsen研究发现干扰首先使肌肉纤维中的结缔组织受损,影响肌肉功能,继之出现颞下颌关节症状。现已证实反患者咀嚼效能明显降低。心理健康的影响:患者侧面观为凹面型,对面容影响较大,可对患者心理造成严重的伤害。因此儿童的早期反治疗具有重要的意义。
长期以来认为由Ⅲ类错造成骨性畸形的比例要高于Ⅱ类错,有时生长改良及掩饰性治疗都困难的情况下,只能采取正颌手术以矫正畸形。有数据表明安氏Ⅱ类患者仅有5%的较重患者需要手术治疗,相反,有那些存在Ⅲ类颌骨关系的患者中至少1/3的患者需要正颌外科手术治疗。对于青春生长期的患者,考虑到患者骨骼还有生长发育的能力,多采用功能矫形进行治疗,希望通过对颌骨的生长改良来纠正上下颌骨矢状方向不调,同时更大程度地减少后期通过手术治疗的可能性。
功能矫形治疗是通过矫治装置改变下颌姿势位,改善口颌系统肌群的功能状况;利用自身所引起的肌力、咬力等激活口周及面部肌肉的功能,刺激颌骨、牙周组织的生长改建;以及辅以口外矫形力引导颌骨生长,改变其生长率、生长量及生长方向。是一种充分发挥机体自然生长潜力,矫治生长发育期儿童及青少年的肌性和轻度骨性错畸形的常用重要正畸手段和方法。
常常使用的Ⅲ类功能矫治器有上颌前方牵引,颏兜,FR-Ⅲ,活动磁力矫治器等。前方牵引矫治器:很多研究发现前方牵引矫治器可以成功刺激上颌骨向前移动,SNA和ANB角度的增加,并且还证实了前方牵引矫治器会使下颌骨的向后旋转和面高增加,因此前牵更适合低角和均角的前牙反病例,对于高角病例的治疗则需要慎重。有学者对照研究了骨支抗和牙支抗的前牵效果,报道了骨支抗装置能获得更大的水平上颌骨移动,并且没有牙齿的移动和减少了下颌顺时针旋转。但是种植钉的植入是有创的,可能会损伤牙根及其周围的神经血管上颌窦等解剖组织,骨质条件不好会,种植体周围炎都会出现种植体松动脱落。颏兜:两篇报道回顾了关于颏兜抑制Ⅲ类错畸形患者下颌发育疗效的文献。两者均证实了在颏兜治疗后SNB角减小。但是在下颌角出现了分歧。其中一个报道称减少,另一个报道增加。国内将颏兜用于生长发育的儿童取得了一定疗效,但若有明显的上颌后缩则不能用颏兜进行治疗。颏兜的治疗效果常难以保持,严重的Ⅲ类骨性畸形难以取得满意的面型,有的学者对颏兜的治疗效果提出了质疑。FR-3 :杨等人进行了meta分析,以评估FR-3在Ⅲ类错患者中的有效性,并且报告证据表明FR-3可能限制下颌骨生长,但不会刺激上颌骨的向前运动。FR-3具有严格的适应症,并不是所有患者均适用,患者应具备以下条件:(1)处于生长发育期,(2)前牙能退至切对切,无严重骨骼畸形(3)牙列无严重拥挤,(4)上颌发育不足及反覆盖小。
磁力于70年代后期就被引入正畸,磁力具有同极相斥,异极相吸的特点,以此产生矫治力,kawata使用磁铁作成托槽,首次成功移动单颗牙齿,自此磁力矫治在正畸领域逐渐发展。磁力在用于牙齿移动和功能矫形方面取得了不同程度的成功。最初使用的磁铁体积庞大,并且可能存在毒性作用。更好的涂层和稀土永磁体的引入提高了其安全性,并使磁体体积急剧减小,这些特性使磁体应用于狭小的口腔内成为可能。许多学者就磁力矫治的生物安全性展开了研究,通过理论论证和动物实验证实了磁体的生物安全性,另有文献报道磁场的存在可以促进血管再生,血液循环,骨组织的生长以及骨组织的微循环和进行性改建[36]。与传统的力传递系统相比,磁体的优势包括无摩擦,无材料疲劳,能够长时间产生可预测的水平力,而且不需要直接接触。
磁力功能矫治器一直作为昆明医科大学,乃至整个云南省的传统优势项目,由徐芸教授开发并推广,有大量研究数据支持并肯定了此类矫治器的显著疗效及其与其他传统功能矫治器相比的优势。传统磁力矫治器是一种活动功能矫治器,由上下颌右侧和左侧粘合丙烯酸树脂块组成。每个块都嵌入了磁体,使下颌骨位于I类关系。很多学者证实了磁力矫治器对Ⅲ类错畸形的治疗效果。赵宁等人应用Ⅲ类磁力矫治器建立青春期恒河猴动物模型,发现在Ⅲ类磁力矫治器作用下SNA,A-Ptm增加说明上颌骨发生前移,PP-SN减小提示上颌骨发生逆时针旋转,FMA及Y轴角的增大则提示下颌有一定的后下旋转,因此,该矫治器并不适用于开倾向的高角患者,还发现Ⅲ类磁力矫治器的矫治机制以刺激上颌发育为主,抑制下颌生长为辅,对于下颌作用主要是改变其生长方向。 Vardimon等对Ⅲ类磁力作用下青春期恒河猴翼上颌裂及髁突软骨的组织学变化进行了研究,发现翼上颌裂下界骨缝有广泛的增生活动。徐芸等开发了双阻板磁力矫治器-Ⅲ,在临床上取得显著疗效,SNA增加,SNB减小,SNB增大,颌凸角增大,说明矫治后上下位不调得到纠正,并且Ⅲ类面型获得明显改善。Ⅲ类磁力矫治器的优点是制作简单,结构小巧,在进食、睡眠及运动时可全天戴用,保证了矫治器的戴用时间,可发挥持续的矫形力,区别于传统功能矫形装置。缺点是治疗效果依赖于患者配,吃饭刷牙时需要取下,所以容易丢失。
现有活动功能矫治器的特点是:要取得良好效果,要求患者有极高的依从性。但矫治器的佩戴很不方便,舒适度差,患者配合度低;而且矫治器只能在夜间佩戴,作用力不持久,所以需要的治疗时间较长。传统磁力矫治器为活动矫治器,患者配合度不佳的情况下,磁力无法持续地作用,导致了矫治疗效的减小,矫治疗程增加,患者的主观感受不佳。
发明内容
本发明要解决的技术问题是,针对现有技术的不足,提供隐形固定磁力功能矫治器,制作方便,佩戴美观,治疗效果佳。
为解决上述技术问题,本发明提供隐形固定磁力功能矫治器,包括套置于上、下牙齿的上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)、贴合于上、下颌舌侧的上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)以及上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6),其特征在于,所述上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2),从尖牙的远中和第一前磨牙的近中交接处离断,仅剩余双侧前磨牙及磨牙段,所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)分别包埋固定于上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的舌侧,使二者连接为一体;上颌永磁体(5)分别包埋于上颌热压膜模板(1)两端的后牙区,下颌永磁体(6)分别包埋于下颌热压膜模板(2)两端的后牙区。
进一步,所述上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)均采用膜片热压成型或者透明自凝塑胶涂布成型,膜片的厚度为1.0mm;上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)面均匀铺一层透明自凝树脂,以保证上下颌后牙区能均匀接触。
进一步,所述上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的模板边缘位于龈缘以上0.5~1.0mm, 上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)外侧经打磨设置若干条食物溢出道(7),以方便咀嚼。
进一步,所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)为为0.8mm或0.9mm的不锈钢圆丝弯制而成或采用不锈钢铸造形成或采用3D打印制成,从左侧最远中一颗牙的舌侧连续贴合右侧最远中一颗牙的舌侧,保证紧密贴合。
进一步,所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)的前磨牙及磨牙段分别包埋固定于上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的舌侧。
进一步,所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)分别通过透明自凝树脂与上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)相连。
进一步,上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)为第三代高磁能积稀土永磁体钕铁硼(Nd2Fe14B)N33型,为7mm×5mm×3mm的矩型磁块,充磁方向在5mm边长方向上。
进一步,上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)通过透明自凝树脂与上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)相连,使其固定为一体。
进一步,在咬合时,上颌永磁体(5)在下颌永磁体(6)的前方,上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)7mm×3mm的磁力作用面同极两两正对,磁块间距为0.5~1.0mm,此时作用力应为400~650g。咬合时因磁性相斥力而形成推上颌向前、下颌向后,交互支抗的矫形力系。
本实用新型具有以下优点:1、隐形,美观;2、无需口外支抗,口内交互支抗,矫治效率高;3、固定式,较少依从性要求,24小时持续作用,故治疗效果佳;4、体积小巧,舒适,戴用性好;5、可在前牙区行牵引,进行垂直向控制,避免不利的颌骨旋转;6、前后牙经固定使牙列形成整体,支抗作用强,尽可能达到颌骨的整体移动,避免局部牙齿的不利移动。
附图说明
图1为本实用新型颊屏式上颌佩戴使用图;
图2为本实用新型颊屏式下颌佩戴使用图;
图3为本实用新型颊屏式咬合时佩戴使用图;
其中:1、上颌热压膜模板;2、下颌热压膜模板;3、上颌舌侧随行弓;4、下颌舌侧随行弓;5、上颌永磁体;6、下颌永磁体,7、食物溢出道。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本发明做进一步的详细说明,所述是对本实用新型的解释而不是限定。
实施例1
参见图1~3,本发明提供隐形固定磁力功能矫治器,包括套置于上、下牙齿的上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2、贴合于上、下颌舌侧的上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4以及上颌永磁体5、下颌永磁体6,其特征在于,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2,从尖牙的远中和第一前磨牙的近中交接处离断,仅剩余双侧前磨牙及磨牙段,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2均采用膜片热压成型,膜片的厚度为1.0mm;上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2面均匀铺一层自凝树脂,以保证上下颌后牙区能均匀接触。上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2的模板边缘位于龈缘以上0.8mm,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2外侧经打磨设置若干条食物溢出道以方便咀嚼。
上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4用0.8mm的不锈钢圆丝弯制,从左侧最远中一颗牙的舌侧连续贴合右侧最远中一颗牙的舌侧,保证紧密贴合,上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4的前磨牙及磨牙段,通过透明自凝树脂分别包埋固定于上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2的舌侧,使二者连接为一体;
上颌永磁体5、下颌永磁体6通过透明自凝树脂,分别包埋于上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2两端的后牙区颊侧,为颊屏式,使磁体和热压膜模板固定为一体;上颌永磁体5、下颌永磁体6为第三代高磁能积稀土永磁体钕铁硼(Nd2Fe14B)N33型,为7mm×5mm×3mm的矩型磁块,充磁方向在5mm边长方向上;在咬合时,上颌永磁体5在下颌永磁体6的前方,上颌永磁体5、下颌永磁体6 7mm×3mm的磁力作用面同极两两正对,磁块间距为0.5mm,此时作用力应为400~650g。咬合时因磁性相斥力而形成推上颌向前、下颌向后,交互支抗的矫形力系。
实施例2
参见图4~6,本发明提供隐形固定磁力功能矫治器,包括套置于上、下牙齿的上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2、贴合于上、下颌舌侧的上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4以及上颌永磁体5、下颌永磁体6,其特征在于,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2,从尖牙的远中和第一前磨牙的近中交接处离断,仅剩余双侧前磨牙及磨牙段,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2均采用透明自凝塑胶涂布成型,膜片的厚度为1.0mm;上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2面均匀铺一层自凝树脂,以保证上下颌后牙区能均匀接触。上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2的模板边缘位于龈缘以上1.0mm,上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2外侧经打磨设置若干条食物溢出道以方便咀嚼。
上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4用0.9mm的不锈钢圆丝弯制,从左侧最远中一颗牙的舌侧连续贴合右侧最远中一颗牙的舌侧,保证紧密贴合,上颌舌侧随行弓3、下颌舌侧随行弓4的前磨牙及磨牙段,通过透明自凝树脂分别包埋固定于上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2的舌侧,使二者连接为一体;
上颌永磁体5、下颌永磁体6通过透明自凝树脂,分别包埋于上颌热压膜模板1和下颌热压膜模板2两端的后牙区面,为垫式,使磁体和热压膜模板固定为一体;上颌永磁体5、下颌永磁体6为第三代高磁能积稀土永磁体钕铁硼(Nd2Fe14B)N33型,为7mm×5mm×3mm的矩型磁块,充磁方向在5mm边长方向上;在咬合时,上颌永磁体在下颌永磁体的前方,上颌永磁体5、下颌永磁体6 7mm×3mm的磁力作用面同极两两正对,磁块间距为1mm,此时作用力应为400~650g。咬合时因磁性相斥力而形成推上颌向前、下颌向后,交互支抗的矫形力系。
临床研究
一、病例摘要
患者姓名:占某 性别:女 初诊年龄:9岁
主诉:“地包天”,要求矫治。全身状况良好,无全身系统性疾病,“父亲”有类似错畸形病史。
二、临床检查:
1.患者面部外形左右基本对称,侧面为凹面型,上颌后缩,下颌前突。
2.牙列情况:混合牙列期,口内牙列式:
6ⅤⅣⅢ21 | 12ⅢⅣⅤ6 |
6ⅤⅣⅢ21 | 12ⅢⅣⅤ6 |
3.双侧颞下颌关节区无压痛、弹响;开口度、开口型未见异常。
三、X线检查分析
1.矫治前全口曲面断层片显示:18、28、38、48牙胚存,口内牙齿发育未见异常;
四、诊断
五、矫治目标
2.改善凹面型;
3.抑制下颌骨矢状方向上的生长
六、矫治过程
佩戴以实施例1制作的固定式磁力功能矫治器4个月
七、治疗前后头影测量数据对比
八、小结
本例患者初诊主诉主要是“地包天”要求矫治。ANB 角为-5°,Wits 值为-8mm,APDI为95°,说明该患者上颌骨相对于颅底平面发育不足,属于Ⅲ类骨面型;SNB 角为 84°,说明下颌骨相对于颅底发育稍过度;U1/NA 的角度为 37°L1/NB 的角度为 25°,说明上下切牙已有明显的代偿表现,为骨性Ⅲ类错合的牙齿特征。MP/FH 为 19°,说明是低角。ODI 值为65°,说明此病例有开合趋势和Ⅲ类骨面型趋势。故该患者诊断为骨性Ⅲ类错合畸形。
在青春发育期,骨性Ⅲ类错合的治疗方法是促进上颌骨发育,抑制下颌骨发育,于是戴用了固定磁力功能矫治器。本患者代表上颌骨位置的SNA明显增加,说明代表上颌骨最前点A点发生了一定量的前移。代表上下颌骨矢状向关系的ANB角增加了6.2°,Wits值增大7mm,说明上下颌骨不调的关系得到了明显改善。代表上牙轴的U1/NA由37°增加到47°,U1/SN由114°增加到132°而下牙轴L1/NB由25°减小到22.5°,提示前方牵引使上前牙更唇倾,下牙轴更加舌倾。FMA增加了1°,说明下颌骨向后下旋转,但不是很明显。由矫治前后的照相分析可以看出,矫治后患者面型改善,由凹面型变为直面型,位的变化明显,前牙区覆盖明显增加,Ⅲ类关系明显改善。
由此可见,固定磁力功能矫治器制作简单、疗效佳、透明美观、舒适度高,且有许多自身独特作用,可推广应用于Ⅲ类功能矫形治疗。
Claims (10)
1.隐形固定磁力功能矫治器,包括套置于上、下牙齿的上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)、贴合于上、下颌舌侧的上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)以及上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6),其特征在于,所述上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2),从尖牙的远中和第一前磨牙的近中交接处离断,仅剩余双侧前磨牙及磨牙段,所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)分别包埋固定于上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的舌侧,使二者连接为一体;上颌永磁体(5)分别包埋于上颌热压膜模板(1)两端的后牙区,下颌永磁体(6)分别包埋于下颌热压膜模板(2)两端的后牙区。
3.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:所述上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的模板边缘位于龈缘以上0.5~1.0mm,上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)外侧经打磨设置若干条食物溢出道(7)。
4.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)为0.8mm或0.9mm的不锈钢圆丝弯制而成或采用不锈钢铸造形成或采用3D打印制成,从左侧最远中一颗牙的舌侧连续贴合右侧最远中一颗牙的舌侧。
5.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)的前磨牙及磨牙段分别包埋固定于上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)的舌侧。
6.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:所述上颌舌侧随行弓(3)、下颌舌侧随行弓(4)分别通过透明自凝树脂与上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)相连。
8.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)为第三代高磁能积稀土永磁体钕铁硼N33型,为7mm×5mm×3mm的矩型磁块,充磁方向在5mm边长方向上。
9.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)通过透明自凝树脂分别与上颌热压膜模板(1)和下颌热压膜模板(2)相连,使其固定为一体。
10.根据权利要求1所述的隐形固定磁力功能矫治器,其特征在于:在咬合时,上颌永磁体(5)在下颌永磁体(6)的前方,上颌永磁体(5)、下颌永磁体(6)7mm×3mm的磁力作用面同极两两正对,磁块间距为0.5~1.0mm。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112402040A (zh) * | 2020-11-18 | 2021-02-26 | 中南大学湘雅医院 | 一种隐形磁力上颌前牵装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112402040A (zh) * | 2020-11-18 | 2021-02-26 | 中南大学湘雅医院 | 一种隐形磁力上颌前牵装置 |
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GR01 | Patent grant | ||
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