CN210010074U - 一种替米考星离心喷雾盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及离心喷雾设备领域，包括电机、转轴、雾化盘和均流盘，所述转轴上端与电机连接，下端与雾化盘连接，所述均流盘靠近转轴处设有储液槽，均流盘位于储液槽的外侧设有均流通道，所述均流通道的上开口高于储液槽槽面，所述上开口向内侧设有具有缺口的开口滑移挡环，所述雾化盘的侧面设有雾化出料口，本实用新型设有储液槽和均流通道，使得进料量均匀，因此能够防止离心喷雾时颗粒粒径出现较大差异，并且设有开口滑移挡环，适用于不同粘度体系的溶液。
Description
技术领域
本实用新型涉及离心喷雾设备领域，尤其涉及一种替米考星离心喷雾盘。
背景技术
离心雾化法是现代制粉技术重要的一部分，而离心雾化盘则为实施离心雾化法必不可少的设备之一，在替米考星制剂的制备过程中，首先需要将替米考星与辅料溶于溶剂中，随后将溶液制备干燥成颗粒，因此，首先需要将替米考星溶液送入具有一定高度的离心喷雾盘中，此时离心喷雾盘在电机的作用下高速旋转，溶液也因此获得了较高的切向线速度，并在喷雾盘的周边形成薄膜，离开喷雾盘后，立即会被空气摩擦雾化成小微滴，在冷却干燥之后形成颗粒，然而，由于替米考星与辅料的配比不同，因此获得溶液的粘度也不相同，使得溶液进入喷雾盘的流速有较大差异，使得不同配方溶液离心喷雾时获得的颗粒无法保持均匀，并且，目前的离心喷雾盘由于进料的不均匀，也会导致离心喷雾时获得的颗粒不均匀。
例如，一种在中国专利文献上公开的“离心喷雾盘”，其公告号CN2804751，其公开了离心喷雾盘，包括碟形盘体，其改进在于，在盘体中心的下部连通一个配液槽，配液槽为圆柱状，配液槽底部中心开孔，通过孔安装有轴套，轴套内壁为上宽下窄的锥台形。然而该实用新型无法均流的作用。
发明内容
本实用新型是为了克服目前不同配方替米考星溶液粘度不同，并且溶液进入喷雾盘的流速差异大，导致离心喷雾时获得的颗粒无法保持均匀等问题，提出了一种替米考星离心喷雾盘。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种替米考星离心喷雾盘，包括电机、转轴、雾化盘和均流盘，所述转轴上端与电机连接，下端与雾化盘连接，所述均流盘靠近转轴处设有储液槽，均流盘位于储液槽的外侧设有均流通道，所述均流通道的上开口高于储液槽槽面，所述上开口向内侧设有具有缺口的开口滑移挡环，所述雾化盘的侧面设有雾化出料口。
本实用新型均流盘靠近转轴处设有储液槽，在使用时，进料管将替米考星溶液注入至储液槽中，储液槽液位随之上涨，当液位超过储液槽之后，溶液会向周围自由漫出，漫出一定量之后，漫出的溶液会充满均流通道并通过其向下流入至雾化盘中，此时雾化盘在转轴的带动下处于高速的旋转当中，流入至雾化盘中的溶液会获得较高的切向线速度，并在雾化盘的周边形成薄膜，由于雾化盘的侧面设有雾化出料口，因此溶液会通过雾化出料口雾化喷出，并且，由于均流通道上开口的向内侧设有开口滑移挡环，开口滑移挡环的滑移可以控制均流通道进料开口的大小，当溶液粘度较小时，通过开口滑移挡环的调节使得进料开口变小，当溶液粘度较大时，通过开口滑移挡环的调节使得进料开口变大，使得溶液能够充满整个均流通道从而起到均流的效果。
作为优选，所述开口滑移挡环插设于上开口外侧的滑槽内，所述滑槽由内至外依次包括第一凸出部、凹槽和第二凸出部，所述第二凸出部的长度大于第一凸出部的长度。
开口滑移挡环插设于上开口外侧的滑槽内，使得开口滑移挡环可以自由滑移，所述第二凸出部的长度大于第一凸出部的长度，使得开口滑移挡环的阻挡性更好。
作为优选，所述滑槽顶部设有限位缺口，所述开口滑移挡环上设有位于限位缺口内的调节块。
调节块可以方便开口滑移挡环的调节，并且，调节块设于限位缺口内，能够在调节时起到限位的作用。
作为优选，所述开口滑移挡环上的缺口数目和均流通道的个数相同。
作为优选，所述均流盘上设有支撑架，所述支撑架上端与电机外壳连接。
作为优选，所述转轴下端与雾化盘通过轴套连接。
作为优选，所述雾化盘设有上覆盖板，所述上覆盖板位于均流盘上方且宽度大于均流盘外侧边至雾化盘侧面的距离。
上覆盖板可以保护雾化盘防止杂物落入，上覆盖板位于均流盘上方，因此上覆盖板与均流盘之间具有小缺口，由于溶液粘度较高时，在离心喷雾时，当进料量不够时，部分溶液容易在雾化出料口处停留，进而冷凝，堵住雾化出料口，此时，由于上覆盖板与均流盘之间的小缺口可以增设备用进料口，增加进料量，防止雾化出料口被冷凝的物料堵住。
因此，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型设有储液槽和均流通道，使得进料量均匀，因此能够防止离心喷雾时颗粒粒径出现较大差异，并且设有开口滑移挡环，适用于不同粘度体系的溶液。
附图说明
图1是本实用新型剖面结构示意图。
图2是本实用新型结构俯视图。
图3是本实用新型A除结构示意图。
图4是本实用新型开口滑移挡环部分结构示意图。
图5是本实用新型另一种剖面结构示意图。
图中：电机1，转轴2，雾化盘3，雾化出料口31，均流盘4，储液槽5，均流通道6，上开口61，开口滑移挡环7，滑槽8，第一凸出部81，凹槽82，第二凸出部83，限位缺口9，调节块10，缺口11，支撑架12，轴套13，上覆盖板14。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型做进一步的描述。
实施例：如图1-4所示，一种替米考星离心喷雾盘，包括电机1、转轴2、雾化盘3和均流盘4，所述转轴2上端与电机1连接，下端与雾化盘3通过轴套13连接，均流盘4上设有支撑架12，所述支撑架12上端与电机1外壳连接，均流盘4靠近转轴2处设有储液槽5，均流盘4位于储液槽5的外侧设有均流通道6，所述均流通道6的上开口61高于储液槽5槽面，所述上开口61向内侧设有具有缺口11的开口滑移挡环7，所述缺口11数目和均流通道6的个数相同，所述开口滑移挡环7插设于上开口61外侧的滑槽8内，所述滑槽8由内至外依次包括第一凸出部81、凹槽82和第二凸出部83，所述第二凸出部83的长度大于第一凸出部81的长度，所述滑槽8顶部设有限位缺口9，所述开口滑移挡环7上设有位于限位缺口9内的调节块10，所述雾化盘3的侧面设有雾化出料口31，上方设有上覆盖板14，所述上覆盖板14位于均流盘4上方且宽度大于均流盘4外侧边至雾化盘3侧面的距离。
使用时，进料管将替米考星溶液注入至储液槽5中，储液槽5液位随之上涨，液位超过储液槽5之后，溶液会向周围自由漫出，漫出一定量之后，漫出的溶液会充满均流通道6并通过其向下流入至雾化盘3中，此时雾化盘3在转轴的带动下处于高速的旋转当中，流入至雾化盘3中的溶液会获得较高的切向线速度，并在雾化盘3的周边形成薄膜，随后通过雾化出料口31雾化喷出；当改变配方，溶液浓度发生变化时，如图5所示，可以通过调节块10调节开口滑移挡环7的位置，改变均流通道6进料开口的大小，当溶液粘度较小时，通过开口滑移挡环7的调节使得进料开口变小，当溶液粘度较大时，通过开口滑移挡环7的调节使得进料开口变大，使得溶液能够充满整个均流通道6从而起到均流的效果。
Claims (7)
1.一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，包括电机（1）、转轴（2）、雾化盘（3）和均流盘（4），所述转轴（2）上端与电机（1）连接，下端与雾化盘（3）连接，所述均流盘（4）靠近转轴（2）处设有储液槽（5），均流盘（4）位于储液槽（5）的外侧设有均流通道（6），所述均流通道（6）的上开口（61）高于储液槽（5）槽面，所述上开口（61）向内侧设有具有缺口（11）的开口滑移挡环（7），所述雾化盘（3）的侧面设有雾化出料口（31）。
2.根据权利要求1所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述开口滑移挡环（7）插设于上开口（61）外侧的滑槽（8）内，所述滑槽（8）由内至外依次包括第一凸出部（81）、凹槽（82）和第二凸出部（83），所述第二凸出部（83）的长度大于第一凸出部（81）的长度。
3.根据权利要求2所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述滑槽（8）顶部设有限位缺口（9），所述开口滑移挡环（7）上设有位于限位缺口（9）内的调节块（10）。
4.根据权利要求1或2或3所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述开口滑移挡环（7）上的缺口（11）数目和均流通道（6）的个数相同。
5.根据权利要求1或2或3所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述均流盘（4）上设有支撑架（12），所述支撑架（12）上端与电机（1）外壳连接。
6.根据权利要求1或2或3所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述转轴（2）下端与雾化盘（3）通过轴套（13）连接。
7.根据权利要求1或2或3所述一种替米考星离心喷雾盘，其特征在于，所述雾化盘（3）设有上覆盖板（14），所述上覆盖板（14）位于均流盘（4）上方且宽度大于均流盘（4）外侧边至雾化盘（3）侧面的距离。
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