CN210001929U - 一种远程等离子清洁pecvd腔室的设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括腔室；用于提供气体的气柜；在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。本实用新型通过远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池领域，尤其涉及一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备。
背景技术
硅基异质结电池是一种利用晶体硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池。PECVD系统是模块化系统，将硅片制绒及清洗预处理之后，硅片通过上料机构放置到支撑框上，通过载板进入预热腔室，然后完成I，N(或P)层沉积，之后通过具有冷却功能的冷却机构进入下料机构。
在硅片镀膜工艺中，对腔室环境清洁度要求严格。硅片在腔室内进行工艺层积镀膜过程中，腔室内部表面也会相应被沉积镀上膜。多炉次工作后，其表面镀上的膜层厚度达到一定程度，如果还不加以清除，就会在后续的制程中剥离脱落形成颗粒物,而影响硅片镀膜品质。所以一定时间后，就需要对腔室进行清洁以去除吸附表面的固化物。
清洁腔室，去除腔室表面吸附的固化物，所广泛采取的方式是干燥清洁。传统的做法是把腔室抽真空后，在腔室里注入NF3气体,并设定压力值。当腔室压力达到设定值并稳定后，启动射频。在射频的作用下腔室内的NF3启辉产生等离子体。F-离子与腔室内表吸附的膜物质反应，使用由固体变成气体。通过联接在腔室的真空泵将与膜物质反应后形成的气体排出腔室达到清洁腔室的目的。
但是现有的清洁方式须配有大功率射频电源及用于调节阻抗的匹配器；经济成本高，幅射大；且直接在腔室里起辉生成等离子易对腔室造成损伤；清洁时间长，效率不高；同时清洁过程中无法对腔室内的清洁效果同步观察。
实用新型内容
为解决现有技术中的缺陷，本实用新型提供一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其缩短了清洁时间，改善了清洁效果，提高了清洁效率。
为实现上述目的，本实用新型采用以下设计方案，一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括：
腔室；
用于提供气体的气柜；
设在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；
在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；
与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。
优选的，其还包括用于对腔室排出的废气进行处理的废气处理柜，所述废气处理柜与腔室连接。
优选的，其还包括用于将反应后形成的气体排出腔室的真空泵。
优选的，所述气柜中存有NF3和AR气体。
优选的，在腔室的上下位置相对设置有第一电极板和第二电极板。
优选的，所述第二电极板的下方设有加热源。
优选的，所述加热源为加热电阻丝。
本实用新型采用以上技术方案，避免了传统清洁方式配装超过工艺需求的大功率射频电源及用于调节阻抗的匹配器，成本高，幅射大及在腔室里直接起辉清洁对腔室造成损伤。通过远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。
附图说明
下面结合附图对本实用新型进行进一步说明：
图1为本实用新型远程等离子清洁PECVD腔室的设备的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1所示，本实用新型公开了一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括：腔室1；用于提供气体的气柜2，所述气柜2中存有NF3和AR气体；设在腔室1顶部，通过电缆与主机4联接的远程等离子发生器3，所述远程等离子发生器3的进气口与气柜2的出气口连接，远程等离子发生器3的进出气口与腔室1的进气口连接；
在气柜2和远程等离子发生器3连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计21及气动阀22；
与腔室1连接的用于调节阻抗的匹配器5，其还包括用于对腔室1排出的废气进行处理的废气处理柜6，所述废气处理柜6与腔室1连接。其还包括用于将反应后形成的气体排出腔室的真空泵7。在腔室的上下位置相对设置有第一电极板11和第二电极板12，所述第二电极板12的下方设有加热源13。所述加热源13为加热电阻丝。
本实用新型通过将远程等离子发生器安装在腔室顶部，通过电缆与主机联接通信，远程等离子发生器出口与腔室顶部进口相接用于将产生的等离子体导入腔室；进口通过不锈钢管道接入气柜内的NF3及AR气。在NF3及AR管路上安装气体流量计及气动阀，清洁腔室时根据需求对NF3及AR进行通断及流量设定及控制。远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。NF3启辉产生等离子体中的F-离子与腔室内表吸附的膜物质反应，使用由固体变成气体。通过联接在腔室的真空泵将与膜物质反应后形成的气体排出腔室达到清洁腔室的目的。
主要的反应如下：
NF3→N2+F
Si+F→SiF4
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：包括
腔室；
用于提供气体的气柜；
设在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；
在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；
与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。
2.根据权利要求1所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：其还包括用于对腔室排出的废气进行处理的废气处理柜，所述废气处理柜与腔室连接。
3.根据权利要求1所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：其还包括用于将反应后形成的气体排出腔室的真空泵。
4.根据权利要求1所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：所述气柜中存有NF3和AR气体。
5.根据权利要求1所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：在腔室的上下位置相对设置有第一电极板和第二电极板。
6.根据权利要求5所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：所述第二电极板的下方设有加热源。
7.根据权利要求6所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：所述加热源为加热电阻丝。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201920079282.7U CN210001929U (zh) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 一种远程等离子清洁pecvd腔室的设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201920079282.7U CN210001929U (zh) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 一种远程等离子清洁pecvd腔室的设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN210001929U true CN210001929U (zh) | 2020-01-31 |
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ID=69299780
Family Applications (1)
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| CN201920079282.7U Active CN210001929U (zh) | 2019-01-17 | 2019-01-17 | 一种远程等离子清洁pecvd腔室的设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN210001929U (zh) |
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2019
- 2019-01-17 CN CN201920079282.7U patent/CN210001929U/zh active Active
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