CN209989461U - 一种真空镀膜的沉积装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜的沉积装置,该种真空镀膜的沉积装置包括机架、沉积室、轴套、转轴、从动带轮、电机、主动带轮、齿形皮带和旋转组件,所述机架上固定有沉积室,沉积室底部安装有轴套,轴套里通过轴承插装有转轴,转轴底部安装有从动带轮,机架侧端还设有电机,电机的电机轴上安装有主动带轮,从动带轮和主动带轮通过齿形皮带连接,沉积室内的转轴上设置有旋转组件。通过上述方式,本实用新型结构紧凑,运行平稳,能够对多种类型以及尺寸的产品进行镀膜处理,保证镀膜的均匀性,减少镀膜死角,效率高。

Description

一种真空镀膜的沉积装置
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域,特别是涉及一种真空镀膜的沉积装置。
背景技术
paryleneC或paryleneN为聚对二甲苯,聚对二甲苯为一种新型热塑性塑料,用于制作极薄薄膜或沉积涂层,聚对二甲苯具有良好的气体、水汽阻隔性能、物理机械性能、电绝缘性以及防腐蚀性,在硅橡胶、磁性材料、电路板、医疗器件、书籍画卷、历史文物、LED灯和传感器等领域有着广泛的应用,传统的一种真空镀膜的沉积装置存在以下缺点:镀膜产品单一,产品表面难以均匀附着镀膜层,基于以上缺陷和不足,有必要对现有的技术予以改进。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种真空镀膜的沉积装置,结构紧凑,运行平稳,能够对多种类型以及尺寸的产品进行镀膜处理,保证镀膜的均匀性,减少镀膜死角,效率高。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种真空镀膜的沉积装置,该种真空镀膜的沉积装置包括机架、沉积室、轴套、转轴、从动带轮、电机、主动带轮、齿形皮带和旋转组件,所述机架上固定有沉积室,沉积室底部安装有轴套,轴套里通过轴承插装有转轴,转轴底部安装有从动带轮,机架侧端还设有电机,电机的电机轴上安装有主动带轮,从动带轮和主动带轮通过齿形皮带连接,电机驱动主动带轮转动,主动带轮带动转轴转动,沉积室内的转轴上设置有旋转组件。
优选的是,所述沉积室包括腔体、腔体上盖、腔体下盖、进料法兰连接管、出料连接管和观察窗口,所述腔体呈桶状,腔体上部和上部分别安装有腔体下盖和腔体上盖,腔体中部两侧分别连接有进料法兰连接管和出料连接管,所述进料法兰连接管与裂解管的对接法兰固定连接,出料连接管连接到制冷机,腔体前部还设置有观察窗口,腔体上还设置有偶联剂接口和两真空探头接口。
优选的是,所述旋转组件包括底盘、连接杆、隔板和PCV管,所述底盘固定于转轴上,底盘上竖直固定有三根连接杆,连接杆上等距套有隔板,隔板为1层~30层,隔板根据镀膜产品选用不同层,相邻隔板之间的连接杆上套有PCV管,所述PCV管用于控制隔板之间的距离。
优选的是,所述隔板上设有蜂窝孔,蜂窝孔便于产品镀膜。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:结构紧凑,运行平稳,能够对多种类型以及尺寸的产品进行镀膜处理,效率高;
根据镀膜产品选用不同层数隔板,利用率高,适用范围广;
电机驱动待镀膜产品转动,保证镀膜的均匀性,减少镀膜死角。
附图说明
图1为一种真空镀膜的沉积装置的结构示意图。
图2为一种真空镀膜的沉积装置的内部结构示意图。
图3为一种真空镀膜的沉积装置的隔板部分剖视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型较佳实施例进行详细阐述,以使实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1至图3,本实用新型实施例包括:
一种真空镀膜的沉积装置,该种真空镀膜的沉积装置包括机架41、沉积室42、轴套43、转轴44、从动带轮45、电机46、主动带轮47、齿形皮带48和旋转组件49,所述机架41上固定有沉积室42,沉积室42底部安装有轴套43,轴套43里通过轴承插装有转轴44,转轴44底部安装有从动带轮45,机架41侧端还设有电机46,电机46的电机轴上安装有主动带轮47,从动带轮45和主动带轮47通过齿形皮带48连接,电机46驱动主动带轮47转动,主动带轮47带动转轴44转动,沉积室42内的转轴44上设置有旋转组件49。
所述沉积室42包括腔体421、腔体上盖422、腔体下盖423、进料法兰连接管424、出料连接管425和观察窗口426,所述腔体421呈桶状,腔体421上部和上部分别安装有腔体下盖422和腔体上盖423,腔体421中部两侧分别连接有进料法兰连接管424和出料连接管425,所述进料法兰连接管424与裂解管32的对接法兰36固定连接,出料连接管425连接到制冷机,腔体421前部还设置有观察窗口426,腔体421上还设置有偶联剂接口和两真空探头接口。
所述旋转组件49包括底盘491、连接杆492、隔板493和PCV管494,所述底盘491固定于转轴44上,底盘491上竖直固定有三根连接杆492,连接杆492上等距套有隔板493,隔板493为1层~30层,隔板493根据镀膜产品选用不同层,相邻隔板493之间的连接杆492上套有PCV管494,所述PCV管494用于控制隔板493之间的距离。
所述隔板493上设有蜂窝孔4930,蜂窝孔4930便于产品镀膜。
本实用新型一种真空镀膜的沉积装置工作时,将待镀膜产品依次放入到沉积室42内的旋转组件49处,高温裂解为对二甲苯的单体继续输送至沉积室42内,沉积室42外接制冷机,沉积室42内温度为35℃左右,对二甲苯的单体沉积附着到待镀膜产品上,电机46驱动旋转组件49转动,保证产品均匀镀膜,镀膜完成后打开腔体上盖422,取出产品,清理内腔。
本实用新型一种真空镀膜的沉积装置,结构紧凑,运行平稳,能够对多种类型以及尺寸的产品进行镀膜处理,保证镀膜的均匀性,减少镀膜死角,效率高。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种真空镀膜的沉积装置,其特征在于:该种真空镀膜的沉积装置包括机架、沉积室、轴套、转轴、从动带轮、电机、主动带轮、齿形皮带和旋转组件,所述机架上固定有沉积室,沉积室底部安装有轴套,轴套里通过轴承插装有转轴,转轴底部安装有从动带轮,机架侧端还设有电机,电机的电机轴上安装有主动带轮,从动带轮和主动带轮通过齿形皮带连接,沉积室内的转轴上设置有旋转组件。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的沉积装置,其特征在于:所述沉积室包括腔体、腔体上盖、腔体下盖、进料法兰连接管、出料连接管和观察窗口,所述腔体呈桶状,腔体上部和上部分别安装有腔体下盖和腔体上盖,腔体中部两侧分别连接有进料法兰连接管和出料连接管,所述进料法兰连接管与裂解管的对接法兰固定连接,出料连接管连接到制冷机,腔体前部还设置有观察窗口,腔体上还设置有偶联剂接口和两真空探头接口。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的沉积装置,其特征在于:所述旋转组件包括底盘、连接杆、隔板和PCV管,所述底盘固定于转轴上,底盘上竖直固定有三根连接杆,连接杆上等距套有隔板,隔板为1层~30层,相邻隔板之间的连接杆上套有PCV管。
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜的沉积装置,其特征在于:所述隔板上设有蜂窝孔。
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