CN209846873U - 不粘器皿 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及炊具领域，具体地涉及一种不粘器皿，该不粘器皿包括器皿基材(1)，所述器皿基材(1)的内表面为铝和/或铝合金层；氧化处理层(2)，所述氧化处理层(2)覆盖所述铝和/或铝合金层；和不粘层(3)，所述不粘层(3)厚度均匀地覆盖于所述氧化处理层(2)，并且所述不粘层(3)为黑色二氧化钛陶瓷层。与现有技术相比，本实用新型的不粘器皿耐高温、可使用铁铲爆炒、以及使用寿命长。

Description

不粘器皿

技术领域

本实用新型涉及炊具领域，尤其涉及一种不粘器皿。

背景技术

目前市面上的不粘器皿(例如不粘锅)一般为铝合金基材，经过一定的预处理后在内表面喷涂不粘涂料(例如氟涂料或陶瓷涂料)，从而获得不粘的效果。然而，然而氟树脂不粘锅存在如下缺点：(1)质地软，翻炒坚硬食材(例如花甲、排骨等)时易产生划伤甚至破损；耐磨性不佳，导致使用寿命较短，不耐用；(2)现有氟树脂不粘锅不耐铁铲，需使用适配的护锅铲(木质、竹质、硅胶或者尼龙材质)，适配护铲头均角厚实，不利于翻炒，导致烹饪体验不佳。

因此，仍需要对现有的不粘器皿进行改进，以获得耐高温、可使用铁铲爆炒且使用寿命长的不粘炊具。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种不粘器皿，以解决现有技术中不粘器皿耐高温性能差、不能使用铁铲爆炒且使用寿命短的缺陷。本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的。

根据本实用新型的一个方面，提供了一种不粘器皿，该不粘器皿可包括器皿基材，该器皿基材的内表面为铝和/或铝合金层；氧化处理层，该氧化处理层覆盖该铝和/或铝合金层；和不粘层，该不粘层厚度均匀地覆盖于该氧化处理层，并且该不粘层为黑色二氧化钛陶瓷层。

优选地，该氧化处理层可以为阳极氧化膜层或微弧氧化膜层。

优选地，该氧化处理层可以为氧化铝膜层。

优选地，该氧化铝膜层的厚度可以为30μm至50μm；且该氧化铝膜层的硬度可以为350HV至1000HV。

优选地，该氧化处理层的硬度可以为350HV至1000HV。

优选地，该铝和/或铝合金层的表面粗糙度可以为2μm至6μm，该氧化处理层可均匀覆盖于该铝和/或铝合金层的粗糙内表面。

优选地，该黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。

优选地，该黑色二氧化钛陶瓷层的厚度为50μm至300μm，且该黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。

优选地，该黑色二氧化钛陶瓷层为热喷涂层。

优选地，该黑色二氧化钛陶瓷层的内表面还覆盖有厚度均匀的陶瓷或氟树脂封闭层。

与现有技术的不粘器皿相比，本实用新型采用的技术方案具有以下有益效果：

(1)通过对器皿基材内表面的铝或铝合金层进行氧化处理，在基材的内表面生成一层氧化处理层，该氧化处理层中所包含的氧化铝硬度高，从而能够提高硬度，防止由于基材变形而破坏不粘层。

(2)在不粘层中采用了具有核壳结构的黑色二氧化钛陶瓷，其中核层是高度结晶的晶态，而壳层中含有非晶结构的氧空位、三价钛等缺陷，原子在三维空间的排列呈现为近程有序而远程无序的状态，具有较小的表面能，不粘性能好。

(3)可使用铁铲爆炒、耐高温、使用寿命长。

附图说明

图1是本实用新型的不粘器皿的器皿壁的结构示意图；和

图2是本实用新型所采用的黑色二氧化钛陶瓷的核壳结构中的晶态结构和非晶态结构的示意图。

附图标记：

1－器皿基材

2－氧化处理层

3－不粘层

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

应该注意的是，本实用新型中所采用的黑色二氧化钛陶瓷具有核壳结构，其中，核层是高度结晶的晶态(如图2所示)，而壳层是晶格紊乱的非晶态(如图2所示)，这种壳层结构中存在非晶结构的氧空位、三价钛等缺陷，原子在三维空间的排列呈现为近程有序而远程无序的状态，具有较小的表面能，可以达到不粘的效果。

本实用新型中器皿基材1的内表面是指在烹饪时，器皿基材1的两个表面中与待烹饪食材更近的表面。在其他的各层中的内表面具有类似的含义。

如图1所示，图1是本实用新型的不粘器皿的器皿壁的结构示意图。根据本实用新型的一个实施方式，提供了一种不粘器皿，该不粘器皿包括器皿基材1，所述器皿基材1的内表面为铝和/或铝合金层；氧化处理层2，所述氧化处理层2覆盖该铝和/或铝合金层；和不粘层3，所述不粘层3厚度均匀地覆盖于所述氧化处理层2，并且该不粘层3为黑色二氧化钛陶瓷层。本实用新型的不粘器皿通过对器皿基材铝或铝合金进行氧化处理，在基材的内表面生成一层氧化处理层，该氧化处理层中所包含的氧化铝硬度很高，从而能够提高硬度，防止由于基材变形而破坏不粘层。在不粘层中采用了具有核壳结构的黑色二氧化钛陶瓷，其中核层是高度结晶的晶态，而壳层中含有非晶结构的氧空位、三价钛等缺陷，原子在三维空间的排列呈现为近程有序而远程无序的状态，具有较小的表面能，不粘性能好。本实用新型的不粘器皿可使用铁铲爆炒、耐高温、使用寿命长。

根据本实用新型的一个实施方式，所述氧化处理层2为阳极氧化膜层或微弧氧化膜层。

根据本实用新型的一个实施方式，该氧化处理层2可以为氧化铝膜层。

根据本实用新型的一个实施方式，该氧化铝膜层的厚度可以为30μm至50μm；且该氧化铝膜层的硬度可以为350HV至1000HV。具体地，该氧化铝膜层的厚度可以为30μm、35μm、40μm、45μm或50μm；以及该氧化铝膜层的硬度可以为350HV、450HV、550HV、650HV、750HV、850HV、950HV或1000HV。氧化铝膜层的这样的厚度和硬度的配置可以提高不粘器皿的硬度，防止因基材变形而破坏不粘层；增强耐蚀性；以及方便提供表面凹凸的结构。

根据本实用新型的一个实施方式，该氧化处理层2的硬度可以为350HV至1000HV。具体地，该氧化处理层2的硬度可以为350HV、450HV、550HV、650HV、750HV、850HV、950HV或1000HV。该氧化铝膜层的这样的硬度的配置可以提高不粘器皿的硬度，防止因基材变形而破坏不粘层；增强耐蚀性；以及方便提供表面凹凸的结构。

根据本实用新型的一个实施方式，该铝和/或铝合金层的表面粗糙度可以为2μm至6μm，该氧化处理层2可均匀覆盖于该铝和/或铝合金层的粗糙内表面。具体地，该铝和/或铝合金层的粗糙内表面可具有2μm、3μm、4μm、5μm或6μm的粗糙度。通过进行以上粗糙度范围的粗化处理，可以增强打底中间层2与不粘层3之间的结合力。此处提到的粗化处理通常指采用喷砂处理或打砂处理。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。具体地，该黑色二氧化钛陶瓷层的粗糙度为10μm、20μm、30μm、40μm或50μm。如果该黑色二氧化钛陶瓷层具有的粗糙度小于10μm，工艺较难实现；如果该黑色二氧化钛陶瓷层具有的表面粗糙度大于50μm，炒器皿内表面粗糙度较大，翻炒过程中阻力较大，不粘性差，最终影响消费者使用体验。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷层的厚度为50μm至300μm，且该黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。具体地，该黑色二氧化钛陶瓷层可具有50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm、170μm、180μm、190μm、210μm、220μm、230μm、240μm、250μm、260μm、270μm、280μm、290μm、或300μm等的厚度。如果该黑色二氧化钛陶瓷层的厚度小于50μm，工艺较难实现；如果该黑色二氧化钛陶瓷层的厚度大于300μm，对粗糙度的影响不大，但是内应力过大，会带来崩裂的风险，而且成本会增加。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷层为热喷涂层。该热喷涂层可以用火焰喷涂或等离子喷涂等工艺制成。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷层的内表面还覆盖有厚度均匀的陶瓷或氟树脂封闭层。通过陶瓷或氟树脂封闭层进行封闭处理，可以进一步增强不粘器皿的防腐性能、不粘性能等。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷粉末状，具有25μm至50μm的粒径，该黑色二氧化钛陶瓷具有核壳结构。具体地，该黑色二氧化钛陶瓷粉末具有25μm、35μm、45μm、50μm的粒径。如果不粘层3采用的黑色二氧化钛陶瓷粉末的粒径小于25μm，该尺寸的粒径粉末较难制备，成本高；微观上的粗糙结构可减小食材与器皿的接触面积，如果不粘层3采用的黑色二氧化钛陶瓷粉末的粒径大于50μm，无法形成微观上的粗糙结构。

根据本实用新型的一个实施方式，阳极氧化膜层采用阳极氧化方式制成，微弧氧化膜层采用微弧氧化方式制成。

根据本实用新型的一个实施方式，该黑色二氧化钛陶瓷层可以为热喷涂层。该热喷涂层可以用火焰喷涂或等离子喷涂等工艺制成。

根据本实用新型的一个实施方式，对黑色二氧化钛陶瓷层进行打磨处理。通过该打磨处理，一方面使表面光滑，减少铁铲在使用时的阻力，增强使用体验，另一方面提高光泽度，增强外观效果。

本申请虽然以较佳实施例公开如上，但并不是用来限定权利要求，任何本领域技术人员在不脱离本申请构思的前提下，都可以做出若干可能的变动和修改，因此本申请的保护范围应当以本申请权利要求所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种不粘器皿，其特征在于，所述不粘器皿包括：

器皿基材(1)，所述器皿基材(1)的内表面为铝和/或铝合金层；

氧化处理层(2)，所述氧化处理层(2)覆盖所述铝和/或铝合金层；和

不粘层(3)，所述不粘层(3)厚度均匀地覆盖于所述氧化处理层(2)，并且所述不粘层(3)为黑色二氧化钛陶瓷层。

2.根据权利要求1所述的不粘器皿，其特征在于，所述氧化处理层(2)为阳极氧化膜层或微弧氧化膜层。

3.根据权利要求1所述的不粘器皿，其特征在于，所述氧化处理层(2)为氧化铝膜层。

4.根据权利要求3所述的不粘器皿，其特征在于，所述氧化铝膜层的厚度为30μm至50μm；且所述氧化铝膜层的硬度为350HV至1000HV。

5.根据权利要求2或3所述的不粘器皿，其特征在于，所述氧化处理层的硬度为350HV至1000HV。

6.根据权利要求2或3所述的不粘器皿，其特征在于，所述铝和/或铝合金层的表面粗糙度为2μm至6μm，所述氧化处理层(2)均匀覆盖于所述铝和/或铝合金层的粗糙内表面。

7.根据权利要求1至4任一项所述的不粘器皿，其特征在于，所述黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。

8.根据权利要求1至4任一项所述的不粘器皿，其特征在于，所述黑色二氧化钛陶瓷层的厚度为50μm至300μm，且所述黑色二氧化钛陶瓷层的表面粗糙度为10μm至50μm。

9.根据权利要求1至4任一项所述的不粘器皿，其特征在于，所述黑色二氧化钛陶瓷层为热喷涂层。

10.根据权利要求1至4任一项所述的不粘器皿，其特征在于，所述黑色二氧化钛陶瓷层的内表面还覆盖有厚度均匀的陶瓷或氟树脂封闭层。