CN209785967U - 一种刻蚀槽 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种刻蚀槽，其属于太阳能电池技术领域，包括具有容置腔的槽体，所述容置腔的顶部具有开口，所述开口处盖设有盖板，所述盖板朝向所述容置腔的表面为盖板内表面，所述槽体内设有擦拭装置，所述擦拭装置能够沿第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。本实用新型使得盖板内表面的水珠不会滴落到刻蚀槽内的硅片上，保证硅片的刻蚀质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池技术领域，尤其涉及一种刻蚀槽。
背景技术
太阳能电池作为最清洁的可再生资源，应用领域日益广泛。硅太阳能电池是太阳能电池中的一种，基于硅无毒、廉价和地壳中储量大的优势，目前，绝大多数商业化的太阳能电池都是用硅制作的。
刻蚀作为太阳能电池生产中的一道重要工序，一般有干法和湿法两种刻蚀方法。湿法刻蚀的工序一般在刻蚀槽内进行，通过化学反应对硅片进行刻蚀。
但是是湿法刻蚀的过程中，尤其是夏季，车间湿度较大，温度较低，硅片在刻蚀槽内进行刻蚀工序时，刻蚀槽内的化学反应会放出大量的热量，热量上升的过程中，导致刻蚀槽内的水蒸气遇到低温的刻蚀槽盖板会冷凝液化为水珠，附着在盖板内表面。一方面，附着在盖板内表面的水珠长时间积聚后会由于重力滴落到刻蚀槽内的硅片上，影响硅片的刻蚀质量；另一方面，大面积的水珠附着在盖板上，使得操作人员无法通过盖板观察刻蚀槽内的反应情况。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种刻蚀槽，以解决现有技术中存在的对硅片采用湿法刻蚀时，刻蚀槽的盖板内表面容易附着水珠，水珠滴落到硅片上时影响硅片刻蚀质量的技术问题。
如上构思，本实用新型所采用的技术方案是：
一种刻蚀槽，包括具有容置腔的槽体，所述容置腔的顶部具有开口，所述开口处盖设有盖板，所述盖板朝向所述容置腔的表面为盖板内表面，所述槽体内设有擦拭装置，所述擦拭装置能够沿第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中，所述擦拭装置包括驱动机构和沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸的擦拭刷，所述擦拭刷与所述盖板内表面抵接，所述驱动机构能够驱动所述擦拭刷沿所述第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中，所述驱动机构为无杆气缸，所述无杆气缸包括固设于所述容置腔内的活塞杆和能够沿所述活塞杆运动的活塞，所述擦拭刷与所述活塞固定连接，所述擦拭刷能够随所述活塞运动以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中，所述擦拭刷包括固定部和设于所述固定部上的擦拭部，所述固定部与所述活塞固定连接，所述擦拭部能够抵接于所述盖板内表面以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中，所述盖板沿所述第一方向延伸且倾斜于水平面设置。
其中，所述盖板内表面设有导流凹槽，所述导流凹槽沿所述第一方向延伸。
其中，还包括废液收集槽，所述导流凹槽内的液体能够流入所述废液收集槽内。
其中，所述废液收集槽设于所述槽体上，且位于所述盖板较低的一端。
其中，所述废液收集槽上设有废液排出口，以将所述废液收集槽内的液体排出。
其中，所述盖板包括第一板和第二板，所述第一板和所述第二板上均设有循环凹槽，所述第一板和所述第二板紧密贴合后所述第一板和所述第二板的所述循环凹槽能够对合形成两端具有开口的循环空洞，所述循环空洞能够允许热气流通过。
本实用新型提出的刻蚀槽，在槽体内设置擦拭装置，由擦拭装置对盖板内表面进行擦拭，防止过多的水珠附着在盖板内表面积聚、因重力滴落到刻蚀槽内的硅片上后影响硅片质量，从而有效保证硅片的刻蚀质量。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的刻蚀槽的外部结构示意图；
图2是图1中的刻蚀槽隐去槽体前侧板的内部结构示意图；
图3是图2的另一个视角的示意图；
图4是图2中A处的放大图；
图5是本实用新型实施例提供的盖板的截面示意图。
图中：
1、槽体；
2、盖板；21、第一板；22、第二板；23、循环空洞；
3、擦拭装置；31、驱动机构；32、擦拭刷；321、固定部；322、擦拭部；
4、废液收集槽；41、废液排出口；42、废液排出管。
具体实施方式
为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部。
为了防止对硅片进行湿法刻蚀时，刻蚀槽的盖板内表面附着的水珠积聚后滴落到硅片上影响硅片的刻蚀质量，本实施例提供一种刻蚀槽。
参见图1和图2，本实施例中，刻蚀槽包括具有容置腔的槽体1，容置腔的顶部具有开口，开口处盖设有盖板2，盖板2朝向容置腔的表面为盖板内表面，槽体1内设有擦拭装置3，擦拭装置3能够沿第一方向往复运动，以对盖板内表面进行擦拭，防止水珠长时间附着在盖板内表面长时间积聚后，因重力滴落到刻蚀槽内的硅片上，影响硅片的刻蚀质量。
具体地，参见图3和图4，擦拭装置3包括驱动机构31和沿垂直于第一方向的第二方向延伸的擦拭刷32，擦拭刷32与盖板内表面抵接，驱动机构31能够驱动擦拭刷32沿第一方向往复运动，以对盖板内表面进行擦拭，避免水珠长时间附着在盖板内表面上。擦拭刷32自身沿第二方向延伸，并沿第一方向往复运动，这样擦拭刷32在一次运动行程中就能完成对盖板内表面的整体擦拭，擦拭效率高。
具体地，驱动机构31为无杆气缸，无杆气缸包括固设于容置腔内的活塞杆和能够沿活塞杆运动的活塞，擦拭刷32与无杆气缸的活塞固定连接，擦拭刷32 能够随活塞运动以对盖板内表面进行擦拭。具体地，擦拭刷32包括固定部321 和设于固定部321上的擦拭部322，固定部321与活塞固定连接，擦拭部322能够抵接于盖板内表面以对盖板内表面进行擦拭。可选地，擦拭部322为设于固定部321上的吸液棉或者海绵。可选地，吸液棉或者海绵胶接于固定部321上。
无杆气缸的活塞杆沿第一方向延伸设置，活塞杆的两端分别固定于槽体1 相对的两个侧壁上。固定部321上设有与活塞配合的安装孔，安装孔套设于活塞上并将活塞与固定部321固定连接，从而在活塞往复运动时能够带动擦拭刷 32往复移动。
可选地，本实施例中，无杆气缸选用型号为CY3B32-370-XB6的SMC磁偶式无杆气缸。当然，其他的实施例中，无杆气缸的型号由设计人员根据需要，自行选择。
进一步地，盖板2沿第一方向延伸且倾斜于水平面设置，盖板内表面设有导流凹槽，导流凹槽也沿第一方向延伸，导流凹槽能够对附着在盖板内表面的水珠进行导流。
刻蚀槽还包括废液收集槽4，导流凹槽内的液体能够流入废液收集槽4内。这样当附着在导流凹槽内的水珠达到一定重量后，水珠能沿导流凹槽流入废液收集槽4内，避免水珠直接滴落到硅片上。
因为盖板2沿第一方向延伸且倾斜设置，所以导流凹槽也沿第一方向倾斜延伸，其导流效果良好。在擦拭部322的擦拭过程中，擦拭部322能吸收部分水珠，其余的水珠能够沿着倾斜延伸的导流凹槽流入废液收集槽4内。
具体地，本实施例中，废液收集槽4槽体1上，且位于盖板2较低的一端。废液收集槽4内设有一端具有开口的容置空间，导流凹槽与废液收集槽4的开口连通，从导流凹槽内导流处的液体直接滴入废液收集槽4中的容置空间内。当然，在其他的实施例中，废液收集槽4还可以设置在盖板2上，且位于盖板2 较低的一端。
进一步地，废液收集槽4上设有废液排出口41，以将废液收集槽4内的液体排出。废液排出口41处连通有废液排出管42，将废液收集槽4内的废液及时排出。
参见图5，可选的，盖板2包括第一板21和第二板22，第一板21和第二板22上均设有循环凹槽，第一板21和第二板22紧密贴合后第一板21和第二板22的循环凹槽能够对合形成两端具有开口的循环空洞23，循环空洞23能够允许热气流通过。
优选地，盖板2选为透明材质，方便操作人员直接观察槽体1内的反应情况。
具体地，在加工第一板21和第二板22时，可以采用如下的加工方法：
将两块10mm厚的亚格力板通过加工中心加工出完全相同的蛇形的循环凹槽，循环凹槽的深度为5mm，然后将两块亚格力板对合，两块亚格力板的周围用密封胶密封，从而形成带有循环空洞23的盖板2。在使用时，使用鼓风机从循环空洞23的一端开口处鼓入热气流，热气流在循环空洞23内流动，提升盖板2 的温度，避免槽体1内的反应热气遇到温度较低的盖板2直接冷凝成水珠。
在亚格力板未设有循环凹槽的另一侧设置导流凹槽，可选地，导流凹槽的深度为2mm或者3mm。可选地，在第一板21和第二板22上均设置导流凹槽，这样将盖板2盖合于槽体1的开口时，无需区分盖板2的内外表面，使用方便。
以上实施方式只是阐述了本实用新型的基本原理和特性，本实用新型不受上述实施方式限制，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还有各种变化和改变，这些变化和改变都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (10)
1.一种刻蚀槽，包括具有容置腔的槽体(1)，所述容置腔的顶部具有开口，所述开口处盖设有盖板(2)，所述盖板(2)朝向所述容置腔的表面为盖板内表面，其特征在于，所述槽体(1)内设有擦拭装置(3)，所述擦拭装置(3)能够沿第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。
2.根据权利要求1所述的刻蚀槽，其特征在于，所述擦拭装置(3)包括驱动机构(31)和沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸的擦拭刷(32)，所述擦拭刷(32)与所述盖板内表面抵接，所述驱动机构(31)能够驱动所述擦拭刷(32)沿所述第一方向往复运动，以对所述盖板内表面进行擦拭。
3.根据权利要求2所述的刻蚀槽，其特征在于，所述驱动机构(31)为无杆气缸，所述无杆气缸包括固设于所述容置腔内的活塞杆和能够沿所述活塞杆运动的活塞，所述擦拭刷(32)与所述活塞固定连接，所述擦拭刷(32)能够随所述活塞运动以对所述盖板内表面进行擦拭。
4.根据权利要求3所述的刻蚀槽，其特征在于，所述擦拭刷(32)包括固定部(321)和设于所述固定部(321)上的擦拭部(322)，所述固定部(321)与所述活塞固定连接，所述擦拭部(322)能够抵接于所述盖板内表面以对所述盖板内表面进行擦拭。
5.根据权利要求1所述的刻蚀槽，其特征在于，所述盖板(2)沿所述第一方向延伸且倾斜于水平面设置。
6.根据权利要求5所述的刻蚀槽，其特征在于，所述盖板内表面设有导流凹槽，所述导流凹槽沿所述第一方向延伸。
7.根据权利要求6所述的刻蚀槽，其特征在于，还包括废液收集槽(4)，所述导流凹槽内的液体能够流入所述废液收集槽(4)内。
8.根据权利要求7所述的刻蚀槽，其特征在于，所述废液收集槽(4)设于所述槽体(1)上，且位于所述盖板(2)较低的一端。
9.根据权利要求7所述的刻蚀槽，其特征在于，所述废液收集槽(4)上设有废液排出口(41)，以将所述废液收集槽(4)内的液体排出。
10.根据权利要求1-9任一项所述的刻蚀槽，其特征在于，所述盖板(2)包括第一板(21)和第二板(22)，所述第一板(21)和所述第二板(22)上均设有循环凹槽，所述第一板(21)和所述第二板(22)紧密贴合后所述第一板(21)和所述第二板(22)的所述循环凹槽能够对合形成两端具有开口的循环空洞(23)，所述循环空洞(23)能够允许热气流通过。
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| CN111883467A (zh) * | 2020-08-06 | 2020-11-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 刻蚀槽 |
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