CN209657275U - 触控偏光结构及其应用之触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种触控偏光结构及其应用之触控显示装置，包含第一基板、一第二基板、偏光层以及触控感应层。偏光层设置于第一基板与第二基板之间，其中偏光层允许具有第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第二偏振方向的光线，第一偏振方向垂直第二偏振方向。触控感应层设置于第一基板、第二基板以及偏光层之至少一者。藉此，可以实现触控显示装置的轻薄化。

Description

触控偏光结构及其应用之触控显示装置

技术领域

本实用新型涉及一种触控偏光结构及其应用之触控显示装置。

背景技术

近年来随着触控面板的技术发展，触控面板已广泛地运用于各类电子装置中，例如手机、手提电脑以及掌上电脑等。触控面板一般会与显示面板相整合为触控显示屏幕，以作为电子装置的输入输出接口，达到触控显示功能。据此，用户可透过手指或触控对象(如触控笔)触碰触控显示屏幕来控制电子装置，以对应操控电子装置。

为了提升使用便利程度，触控显示屏幕的轻薄设计日渐重要。然而，因触控显示屏幕通常是分别制作触控面板与显示面板后再进行组装贴合，此种制作方式会使触控式液晶显示器较为厚重，不利于整体的轻薄化发展。

实用新型内容

于本实用新型之多个实施方式中，藉由将至少部分的触控感应层设置于偏光结构内，可实现触控显示装置的轻薄化。触控感应层可以为单层结构，设置于偏光结构的一表面。或者，触控感应层可以为双层结构，具有触控传输层以及触控接收层，可设置于偏光结构的二表面。或者，触控感应层的触控接收层可设置于偏光结构的一表面，而液晶模块内可以配置有触控传输层，以与偏光结构内的触控接收层搭配，而侦测触控讯号。

根据本实用新型之部分实施方式，触控偏光结构包含第一基板、第二基板、偏光层以及触控感应层。偏光层设置于该第一基板与该第二基板之间，其中偏光层允许具有第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第二偏振方向的光线，第一偏振方向垂直第二偏振方向。触控感应层设置于第一基板、第二基板以及偏光层之至少一者。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含多个触控电极，触控电极直接接触第一基板。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含多个触控电极，触控电极直接接触第二基板。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含多个触控电极，触控电极直接接触偏光层。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含多个触控电极，触控电极包含奈米银线。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含第一触控感应层以及第二触控感应层。第一触控感应层与第二触控感应层设置于第一基板之二相对表面、第二基板之二相对表面以及偏光层之二相对表面之任二者。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含第一触控感应层以及第二触控感应层。第一触控感应层与第二触控感应层设置于第一基板、第二基板以及偏光层之任一者之二相对表面。

于本实用新型之部分实施方式中，触控偏光结构更包含离型膜，设置于第一基板相对偏光层之一侧。

于本实用新型之部分实施方式中，触控偏光结构更包含保护膜，设置于第二基板相对偏光层之一侧。

根据本实用新型之部分实施方式，触控显示装置包含上偏光结构、下偏光结构、液晶模块以及触控感应层。上偏光结构包含第一基板、第二基板以及偏光层，偏光层设置于第一基板与第二基板之间。偏光层允许具有第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第二偏振方向的光线，第一偏振方向垂直于第二偏振方向。液晶模块设置于上偏光结构与下偏光结构之间。触控感应层至少设置于第一基板、第二基板或偏光层。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含第一触控感应层以及第二触控感应层。第一触控感应层设置于第一基板、第二基板或偏光层。第二触控感应层设置于主动组件数组基板内。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层包含第一触控感应层以及第二触控感应层。第一触控感应层与第二触控感应层设置于第一基板之二相对表面、第二基板之二相对表面以及偏光层之二相对表面之任二者。

于本实用新型之部分实施方式中，触控显示装置更包含透明盖板，设置于上偏光结构相对液晶模块的一侧。

于本实用新型之部分实施方式中，触控显示装置更包含背光模块，设置于下偏光结构相对液晶模块的一侧。

附图说明

本揭露的目标可以实务形式存在于某些部分以及安排的部分，其实施方式将详述于此说明书及于此提到的对应的图式中，其中：

图1A为依据本实用新型之部分实施方式之触控显示装置的剖面示意图。

图1B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构的示意图。

图2A至图2C为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构的制作过程的示意图。

图3A与图3B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图4A与图4B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图5A与图5B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图6A与图6B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图7A与图7B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图8A与图8B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图9A与图9B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图10A与图10B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图11A与图11B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图12A与图12B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图13A与图13B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图14A与图14B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图15A与图15B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构与其触控显示装置的剖面示意图。

图16为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层的上视示意图。

图17为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层的上视示意图。

图18A与图18B为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层的上视示意图。

图19A与图19B为依据本实用新型之部分实施方式之触控电极的上视示意图。

图20为两种触控显示装置的色度量测值之比较表。

附图标记说明：

100：触控显示装置 TE：触控电极

110：背光模块 TE1：触控电极

120：下偏光结构 TE2：触控电极

130：液晶模块 TEL：导线

132：主动组件数组基板 SS1：基材

132TS：表面 SA：表面

132BS：表面 SB：表面

134：相对基板 CD1：涂布装置

134TS：表面 CD2：涂布装置

134BS：表面 PR：光阻材料

136：液晶层 PL：光阻层

140：上偏光结构 PL1：第一部分

140’：偏光结构 PL2：第二部分

142：第一基板 CM：导电材料

142TS：表面 CL：导电层

142BS：表面 CL1：部分

144：第二基板 CL2：部分

144TS：表面 WL：走线

144BS：表面 BA：接合区

146：偏光层 CW：连接线

146TS：表面 BL：桥接导线

146BS：表面 IB：绝缘块

147：保护膜 DL：显影液

148：压敏胶 WS：清水

149：离型膜 BK1：烘烤机台

150：框体 BK2：烘烤机台

160：透明盖板 A1：光学胶

500：曝光机台 A2：光学胶

510：光源 A3：光学胶

520：光罩 OL：有机层

530：光学组件 OL1：导电部分

TL：触控感应层 OL2：非导电部分

TL1：触控传输层 NW：奈米导线

TL2：触控接收层

具体实施方式

以下将以图式揭露本实用新型之多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说，在本实用新型部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式为之。

图1A为依据本实用新型之部分实施方式之触控显示装置100的剖面示意图。触控显示装置100包含背光模块110、下偏光结构120、液晶模块130、上偏光结构140以及背板或框体150。液晶模块130设置于上偏光结构140与下偏光结构120之间。背光模块110设置于下偏光结构120相对液晶模块130的一侧，用以提供光线至液晶模块130。框体150用以承载液晶模块130与背光模块110。框体150的材料可以是刚性较佳的材料，例如金属、塑料。

图1B为依据本实用新型之部分实施方式之上偏光结构140的示意图。上偏光结构140包含第一基板142、第二基板144以及偏光层146。第一基板142与第二基板144彼此相互间隔，两者将偏光层146夹设其中，能对偏光层146提供保护功能，且能限制偏光层146的收缩、形变程度，以确保偏光层146能够维持稳定的光学特性。

于部分实施方式中，第一基板142与第二基板144是可挠式基材，其材料可为三醋酸纤维素(triacetate cellulose；TAC)。然而，在其他实施方式中，第一基板142与第二基板144可以采用其他介电材料制作，而不以三醋酸纤维素为限。第一基板142与第二基板144的材料可以是相同或不同的。于部分实施方式中，偏光层146可通过含碘分子的聚合物或染料聚合物进行制作，为控制上偏光结构140的偏光特性的主要结构。举例而言，偏光层146的材料为聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)、或其他适当材料。于部分实施方式中，偏光层146允许具有第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第二偏振方向的光线，第一偏振方向垂直于第二偏振方向。

于部分实施方式中，上偏光结构140包含至少部分的触控感应层TL，而于文中亦称为触控偏光结构140。触控感应层TL至少设置于第一基板142、第二基板144以及偏光层146。举例而言，于此，触控感应层TL设置于第二基板144上。触控感应层TL可采用奈米银、金属网格、铟锡氧化物、石墨烯、奈米碳管、导电高分子等材质制作。触控感应层TL具有多个触控电极，请待后续图16至图18B详述触控电极的配置。

于部分实施方式中，上偏光结构140包含压敏胶(pressure sensitive adhesive；PSA)148，设置于第一基板142相对偏光层146的一侧，其可用以黏接液晶模块130(参照图1A)。压敏胶148是一类具有对压力有敏感性的胶粘剂，其材料可包含适当橡胶和适当树脂。

同时参照图1A与图1B，于部分实施方式中，在将上偏光结构140黏贴至液晶模块130之前，上偏光结构140的下表面还设有离型膜149，上偏光结构140的上表面还设有保护膜147。在将上偏光结构140贴合至液晶模块130的过程中，可以移除离型膜149，而使压敏胶148外露，进而接触液晶模块130。保护膜147可保护上偏光结构140免于在制程中刮伤，并且在适当时机可移除保护膜147，以免其降低偏光结构140的穿透率。于此，为便于说明起见，将偏光结构140、离型膜149以及保护膜147的组合统称为偏光结构140’，但应了解，偏光结构并不以离型膜149以及保护膜147为必要结构。

再回到图1A，根据触控显示装置100的运作机制，下偏光结构120可搭配上偏光结构140，而允许特定偏振方向的光线穿透，且阻挡具有另一偏振方向的光线。举例而言，下偏光结构120的穿透轴可与上偏光结构140的穿透轴互相正交，例如：下偏光结构120可允许具有第二偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第一偏振方向的光线。或者，于部分实施方式中，下偏光结构120的穿透轴可与上偏光结构140的穿透轴互相平行，例如：下偏光结构120可允许具有第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有第二偏振方向的光线。

以下先描述触控偏光结构140中触控感应层TL的制作方法。

图2A至图2C为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140的制作过程的示意图。同时参照图1B与图2A至图2C。于图2A至图2C中，仅描述将触控感应层TL设置于软性基材上的实施方式。该技术领域具有通常知识者，应可了解，于其他实施方式中，亦可透过其他方法将触控感应层TL设置于硬质基材上，而不限定于可挠性基材。

参照图2A，提供一卷基材SS1，卷动该基材SS1使其经过涂布装置CD1、CD2。涂布装置CD1内装有导电材料CM，涂布装置CD2内装有光阻材料PR。透过涂布装置CD1将导电材料CM涂布于基材SS1上后，可选择性地进行烘烤以使导电材料CM定型，而形成导电层CL。其后，透过涂布装置CD2将光阻材料PR涂布于导电层CL上，光阻材料PR包含有机光敏材料以及适当溶剂。接着，经过烘烤机台BK1进行一次或多次的烘烤而移除光阻材料PR内溶剂使光阻材料PR定型，而形成光阻层PL，最后收卷成卷。

于本实施方式中，涂布装置CD1与涂布装置CD2可以采用各种湿式涂布方式设置导电层CL与光阻层PL，例如刮刀式涂布(Comma Coating)、或滚筒式涂布(Roll Coating)或挤压式涂布(Extrusion Coating)。于其他实施方式中，可以采用干式涂布方式设置导电层CL，例如化学气相沉积法等。

于此，导电材料CM可由奈米导线混和适当有机材料而形成成，其中奈米导线可为奈米银线、等，而使导电层CL为聚合物/奈米导线复合材料。或者，于其他实施方式中，导电材料CM或导电层CL可为具有较高导电系数的材料层，例如金属层或透明金属氧化物层，例如银、铜、氧化铟锡等。导电材料CM或导电层CL可以透过其他方式设置于基材SS1上，而不以图中所绘湿式涂布为限。举例而言，导电材料CM或导电层CL(例如金属层或透明金属氧化物层)可藉由干式涂布方式(例如沉积方式)设置于基材SS1上。

于本实施方式中，基材SS1可以是单一基板，例如单个第一基板142、单个第二基板144或单个偏光层146(参照图1B)。或者，于部分实施方式中，基材SS1可以是复合基板，例如第一及第二基板142及144内夹偏光层146的结构(参照图1B)。当基材SS1为可挠性基材时，第一基板142、第二基板144以及/或偏光层146(参照图1B)为可挠性基材。于其他实施方式中，当基材SS1为硬质基材时，第一基板142、第二基板144以及/或偏光层146(参照图1B)可为硬质基材。

参照图2B，以一曝光机台500针对基材SS1上的光阻层PL进行一曝光步骤。于此，曝光机台500内含有光源510、光罩520以及适当光学组件530。光源510能发出适当光线以使光阻层PL反应。具体而言，光源510的光线波长搭配光阻层PL，例如为光源510为紫外光光源。光罩520用以提供来自光源510的光线适当的图样。光学组件530用以调整光线，例如用以吸收光线以降低反射光强度，或例如为透镜用以聚集光线至特定区域，光学组件530的位置不以图中为限。藉此，光阻层PL的第一部分PL1受到光线曝光而反应，而光阻层PL的第二部分PL2未受到光线曝光而维持实质未变的。

参照图2C，以显影液DL对光阻层PL进行显影。于本实施方式中，光阻层PL可由正型光阻所组成，光阻层PL的第一部分PL1(参照图2B)会经由化学显影(chemicaldevelopment)被显影液DL溶解，而光阻层PL的第二部分PL2不会被显影液DL溶解。然而，显影液DL可经由扩散方式通过光阻层PL的第二部分PL2，而经由物理显影(physicaldevelopment)分解导电层CL的部分CL2。举例而言，导电层CL的部分CL2内的奈米导线可能被分解而离开导电层CL的部分CL2，进而降低导电层CL的部分CL2的导电性。导电层CL的部分CL1内的奈米导线仍维持在内，而仍具有适当导电性而能作为导体。藉此，导电层CL的部分CL1可以形成触控感应层TL的触控电极，而导电层CL的部分CL2可作为绝缘体隔绝两个相邻的触控电极。

接着，以清水WS(例如去离子水(De-ionized water))进行清洗步骤，以移除显影液DL。其后，经由烘烤机台BK2进行一次或多次的烘烤而移除清水WS，最后收卷成卷。

藉由上述方法，可将触控感应层TL的触控电极形成于基材SS1上。其后，可以选择性透过适当贴合方式，形成本实用新型之各实施方式的偏光结构140’。

同时参照图1B与图2A至图2C。详细而言，在部分实施方式中，当基材SS1为第一基板142或第二基板144时，先将具有触控感应层TL(例如导电层CL)的第一基板142或第二基板144与偏光层146贴合，其后将保护膜147贴于第二基板144相对偏光层146的一侧。接着，再涂布压敏胶148于离型膜149上，并使离型膜149以设有压敏胶148的一侧贴于第一基板142相对偏光层146的一侧。如此，可得到偏光结构140’。

或者，于部分实施方式中，当基材SS1为偏光层146时，先将具有触控感应层TL(例如导电层CL)的偏光层146与第一基板142及第二基板144贴合，其后将保护膜147贴于第二基板144相对偏光层146的一侧。接着，再涂布压敏胶148于离型膜149上，并使离型膜149以设有压敏胶148的一侧贴于第一基板142相对偏光层146的一侧。如此，可得到偏光结构140’。于其他实施方式中，可以透过其他种方法而设置触控感应层TL于基材SS1上，并不以本实施方式列举为限。

于本实用新型之部分实施方式中，触控感应层TL可为单层式或双层式的触控结构。单层式触控感应层TL的详细配置可参考图16以及图17，双层式触控感应层TL的详细配置可参考图18A以及图18B，在此先不赘言。以下图3A至图8B以单层式触控感应层TL为例，图9A至图15B以双层式触控感应层TL为例，来说明本实用新型的各种实施方式。

图3A与图3B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140的触控感应层TL为单层式的触控结构，设置于触控偏光结构140的第二基板144相对偏光层146的一侧，例如位于第二基板144的上表面144TS。

于本实施方式中，图1B中，触控显示装置100包含透明盖板160以及光学胶A3。透明盖板160透过光学胶A3设置于偏光结构140相对液晶模块130的一侧，以保护偏光结构140的触控感应层TL。于本实施方式中，光学胶A3黏接触控感应层TL与透明盖板160。触控显示装置100的制造方法可以是：将图3A的偏光结构140’中的离型膜149移除后，将其贴于液晶模块130的上表面。接着，将图3A的偏光结构140’中的保护膜147移除后，将透明盖板160透过光学胶A3贴于触控感应层TL上。

于此，在偏光结构140’中，还可设有光学胶A1与A2，用以在前述制程中黏接偏光层146至第一基板142、第二基板144。于各实施方式中，光学胶A1、A2、A3是指具有高穿透率的适当黏着剂。举例而言，光学胶A1、A2、A3的穿透率大于60％，甚至大于80％。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图4A与图4B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与前述实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控偏光结构140的单层式触控感应层TL设置于触控偏光结构140的第二基板144朝向偏光层146的一侧，例如位于第二基板144的下表面144BS。于本实施方式中，光学胶A2黏接触控感应层TL与偏光层146。于本实施方式中，触控感应层TL受到第二基板144的保护而可避免遭外力损伤，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图5A与图5B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与前述实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控偏光结构140的单层式触控感应层TL设置于触控偏光结构140的第一基板142相对偏光层146的一侧，例如位于第一基板142的下表面142BS。于本实施方式中，压敏胶148黏接触控感应层TL与液晶模块130。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图6A与图6B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与前述实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控偏光结构140的单层式触控感应层TL设置于触控偏光结构140的第一基板142朝向偏光层146的一侧，例如位于第一基板142的上表面142TS。于本实施方式中，光学胶A1黏接触控感应层TL与偏光层146。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图7A与图7B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与前述实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控偏光结构140的单层式触控感应层TL设置于触控偏光结构140的偏光层146朝向第一基板142的一侧，例如位于偏光层146的上表面146TS。于本实施方式中，光学胶A2黏接触控感应层TL与第二基板144。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图8A与图8B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与前述实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控偏光结构140的单层式触控感应层TL设置于触控偏光结构140的偏光层146朝向第二基板144的一侧，例如位于偏光层146的下表面146BS。于本实施方式中，光学胶A1黏接触控感应层TL与第一基板142。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘述。

图9A与图9B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140的触控感应层TL为双层式的触控结构，触控感应层TL包含触控传输层TL1以及触控接收层TL2，分别设置于触控偏光结构140的第二基板144的相对二表面144BS、144TS。于本实施方式中，光学胶A2黏接触控传输层TL1与偏光层146，光学胶A3黏接触控接收层TL2与透明盖板160。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图10A与图10B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控感应层TL的触控传输层TL1以及触控接收层TL2，分别设置于触控偏光结构140的第一基板142的相对二表面142BS、144TS。于本实施方式中，压敏胶148黏接触控传输层TL1与液晶模块130，光学胶A1黏接触控接收层TL2与偏光层146。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图11A与图11B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140包含触控感应层TL的触控传输层TL1与触控接收层TL2。触控传输层TL1设置于触控偏光结构140的第一基板142相对偏光层146的表面142BS，触控接收层TL2设置于触控偏光结构140的第二基板144相对偏光层146的表面144TS。于本实施方式中，压敏胶148黏接触控传输层TL1与液晶模块130，光学胶A3黏接触控接收层TL2与透明盖板160。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图12A与图12B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140包含触控感应层TL的触控传输层TL1与触控接收层TL2。触控传输层TL1设置于触控偏光结构140的第一基板142朝向偏光层146的表面142TS，触控接收层TL2设置于触控偏光结构140的第二基板144相对偏光层146的表面144TS。于本实施方式中，光学胶A1黏接触控传输层TL1与偏光层146，光学胶A3黏接触控接收层TL2与透明盖板160。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图13A与图13B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140包含触控感应层TL的触控传输层TL1与触控接收层TL2。触控传输层TL1以及触控接收层TL2分别设置于偏光层146的相对两表面146BS与146TS。于本实施方式中，光学胶A1黏接触控传输层TL1与第一基板142，光学胶A2黏接触控接收层TL2与第二基板144。于部分其他实施方式中，可以省略透明盖板160以及光学胶A3的配置，以达到轻薄效果。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图14A与图14B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式中，触控偏光结构140包含触控感应层TL的触控接收层TL2，而不包含触控传输层TL1。触控接收层TL2设置于第二基板144相对偏光层146的表面144TS。

于部分实施方式中，液晶模块130包含有主动组件数组基板132、相对基板134以及夹设于其中的液晶层136。触控传输层TL1可嵌于液晶模块130中，例如为内嵌式(In cell)或外嵌式(On cell)的配置。具体而言，于本实施方式中，触控传输层TL1可设置于液晶模块130的相对基板134之上表面134TS或下表面134BS。亦即，于部分实施方式中，触控传输层TL1可设置于液晶模块130的相对基板134与液晶层136之间。于本实施方式中，光学胶A3黏接触控接收层TL2与透明盖板160，透明盖板160可保护触控接收层TL2免于刮伤。

于此，主动组件数组基板132包含有透明基板以及设置于其上的数据线、扫描线、主动组件、画素电极等。透明基板可为硬质基板或可挠式基板，例如玻璃、强化玻璃、聚碳酸脂(polycarbonate；PC)、聚对苯二甲酸乙二脂(polyethylene terephthalate；PET)、或其他环烯共聚物(cyclic olefin copolymer)等。主动组件可例如为薄膜晶体管，其可具有源极、汲极以与门极。主动组件的闸极连接扫描线，主动组件的源极连接数据线，主动组件的汲极连接画素电极。藉此，经由控制扫描线的讯号，可以使主动组件开启，而将显示讯号传递至画素电极，进而控制液晶层136。

于部分实施方式中，相对基板134可为彩色滤光基板，其在透明基板上有多个彩色滤光单元分别对应主动组件数组基板132的各个画素电极，以提供画素各种颜色。或者，于其他实施方式中，相对基板134可不具有彩色滤光单元。于部分实施方式中，彩色滤光单元可直接设置于主动组件数组基板132。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图15A与图15B为依据本实用新型之部分实施方式之触控偏光结构140’与其触控显示装置100的剖面示意图。本实施方式与图14A及14B的实施方式相似，差别在于：本实施方式中，触控接收层TL2设置于液晶模块130的主动组件数组基板132的上表面132TS或下表面132BS。亦即，于部分实施方式中，触控传输层TL1可设置于液晶模块130的主动组件数组基板132与液晶层136之间。触控传输层TL1可以主动组件数组基板132上的薄膜晶体管、扫描线、数据线等一同制作。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图16为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层TL的上视示意图。本实施方式之触控感应层TL包含单层的触控电极。具体而言，触控感应层TL包含多个触控电极TE以及走线WL。触控电极TE设置于基材SS1(例如前述的第一基板142、第二基板144或偏光层146)的表面SA(例如前述的表面142TS、142BS、144TS、144BS、146TS或146BS)上。走线WL分别将触控电极TE连接至接合区BA。走线WL可包含适当导电材料，例如铜。在前述卷对卷制程后，接合区BA可连接一软性电路板(未绘示)，软性电路板上可以设有处理芯片(未绘示)，以处理触控讯号。

图17为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层TL的上视示意图。本实施方式与图16的实施方式差异在于：本实施方式包含两个轴向的触控电极TE1、TE2。具体而言，触控感应层TL包含多个触控电极TE1、TE2。如图所示，触控电极TE1呈第一轴向排列，触控电极TE2呈第二轴向排列，触控电极TE1与触控电极TE2相互交叉且绝缘地设置于基材SS1(例如前述的第一基板142、第二基板144或偏光层146)的同一表面SA(例如前述的表面142TS、142BS、144TS、144BS、146TS或146BS)。

于本实施方式中，触控感应层TL还包含连接线CW、桥接导线BL以及绝缘块IB。连接线CW与触控电极TE1、TE2可由同一层体形成。连接线CW连接相邻的触控电极TE2。桥接导线BL连接相邻的触控电极TE1。桥接导线BL可由透明或不透明的导电材料所形成，例如银、铜、氧化铟锡等。绝缘块IB设置与连接线CW与桥接导线BL之间且将连接线CW与桥接导线BL分隔，而使触控电极TE1、TE2电性隔绝。

图18A与图18B为依据本实用新型之部分实施方式之触控感应层TL的上视示意图。本实施方式与图16的实施方式差异在于：本实施方式中，触控感应层TL为双层式，其包含触控传输层TL1以及触控接收层TL2，分别设置于表面SA以及表面SB。具体而言，触控传输层TL1包含触控电极TE1，触控接收层TL2包含触控电极TE2。触控电极TE1与触控电极TE2分别连接于周边区域的导电线路，藉由周边区域的导电线路将触摸信号传输至控制器进行运算，从而确定触碰位置的坐标。于此，触控电极TE1、TE2所设置的表面SA、SB可属于同一基材(例如前述的第一基板142、第二基板144或偏光层146)或不同基材(例如前述的第一基板142、第二基板144以及偏光层146之任二者)。举例而言，表面SA、SB可以是任二个前述的表面142TS、142BS、144TS、144BS、146TS或146BS。

上述的触控电极TE、TE1以及TE2可为聚合物/奈米导线(或其他导电粒子)复合材料。于其他实施方式中，触控电极TE、TE1以及TE2可采用透明导电材料制成，该透明导电材料可以选自下列群组的其中之一或其组合：氧化铟锡(ITO)、氧化锑锡(ΑΤO)、氧化锌(ZnO)、二氧化锌(ZnO2)、二氧化锡(SnO2)、三氧化二铟(In2O3)。或者，上述的触控电极TE1以及TE2可以是金属网格，其材料可以是金属，例如银、铜。于其他实施方式中，上述的触控电极TE1以及TE2可包含石墨烯、奈米碳管等。

图19A为根据本实用新型之部分实施方式之触控电极TE(例如前述触控电极TE1以及TE2)的上视图。于本实施方式中，触控电极TE包含导电网格，其由复数条导线TEL构成。导线TEL可由高导电性材料组成，其可为透光或不透光。举例而言，导线TEL由金属形成，例如铜。或者，于其他实施方式中，导线TEL由导电氧化物形成，例如氧化铟锡。导线TEL还可构成前述的连接线CW以及走线WL。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图19B为根据本实用新型之部分实施方式之触控电极TE(例如前述触控电极TE1以及TE2)的上视图。于本实施方式中，触控电极TE包含奈米导线NW，设置于有机层OL中。具体而言，有机层OL可设置于前述基材SS1上，且其具有导电部分OL1与非导电部分OL2。奈米导线NW在导电部分OL1的浓度较高，奈米导线NW纵横交错且相互交迭，形成高导电网络。相较之下，奈米导线NW在导电部分OL1的浓度较低，而使非导电部分OL2为实质绝缘的。藉此，可以形成触控电极TE。此外，奈米导线NW具有相当高之长宽比，而构成的网络则相当稀松，如此一来可产生极高透光效果，高导电性与高透射率。导电部分OL1(包含奈米导线NW者)还可构成前述的连接线CW以及走线WL。本实施方式的其他细节大致如前所述，在此不再赘言。

图20为多种触控显示装置的性能参数之比较表。于此图中，比较例为触控面板与显示面板分别制作后再进行组装贴合的触控显示装置，实施例的样品1与样品2是采用前述图3B的结构。在色度、亮度与亮度均匀度的性能项目中，本案实施例的触控显示装置与比较例相比，差异不大。从此图可知，本案实施例的触控显示装置能够达到良好的显示效果，符合用户需求。

于本实用新型之多个实施方式中，藉由将至少部分的触控感应层设置于偏光结构内，可实现触控显示装置的轻薄化。触控感应层可以为单层结构，设置于偏光结构的一表面。或者，触控感应层可以为双层结构，具有触控传输层以及触控接收层，可设置于偏光结构的二表面。或者，触控感应层的触控接收层可设置于偏光结构的一表面，而液晶模块内可以配置有触控传输层，以与偏光结构内的触控接收层搭配，而侦测触控讯号。

于本实用新型之部分实施方式中，虽然本实用新型已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟习此技艺者，在不脱离本实用新型之精神和范围内，当可作各种之更动与润饰，因此本实用新型之保护范围当视后附之申请专利范围所界定者为准。

Claims (14)

1.一种触控偏光结构，其特征在于，包含：

一第一基板；

一第二基板；

一偏光层，设置于该第一基板与该第二基板之间，其中该偏光层允许具有一第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有一第二偏振方向的光线，该第一偏振方向垂直该第二偏振方向；

一压敏胶，设置于该第一基板相对该偏光层的一侧；以及

一触控感应层，设置于该第一基板、该第二基板以及该偏光层之至少一者。

2.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含复数个触控电极，该些触控电极直接接触该第一基板。

3.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含复数个触控电极，该些触控电极直接接触该第二基板。

4.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含复数个触控电极，该些触控电极直接接触该偏光层。

5.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含复数个触控电极，该些触控电极包含奈米银线。

6.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含：

一触控传输层；以及

一触控接收层，位于该触控传输层的上方，其中该触控传输层与该触控接收层设置于该第一基板之二表面、该第二基板之二表面以及该偏光层之二表面之任二者。

7.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，其中该触控感应层包含：

一触控传输层；以及

一触控接收层，位于该触控传输层的上方，其中该触控传输层与该触控接收层设置于该第一基板、该第二基板以及该偏光层之任一者之二相对表面。

8.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，更包含：

一离型膜，设置于该第一基板相对该偏光层之一侧。

9.根据权利要求1所述的触控偏光结构，其特征在于，更包含：

一保护膜，设置于该第二基板相对该偏光层之一侧。

10.一种触控显示装置，其特征在于，包含：

一上偏光结构，包含：

一第一基板；

一第二基板；以及

一偏光层，设置于该第一基板与该第二基板之间，其中该偏光层允许具有一第一偏振方向的光线穿透，且阻挡具有一第二偏振方向的光线，该第一偏振方向垂直于该第二偏振方向；

一下偏光结构；

一液晶模块，设置于该上偏光结构与该下偏光结构之间；以及

一触控感应层，至少设置于该第一基板、该第二基板或该偏光层。

11.根据权利要求10所述的触控显示装置，其特征在于，其中该触控感应层包含：

一触控接收层，设置于该第一基板、该第二基板或该偏光层；以及

一触控传输层，设置于该液晶模块内。

12.根据权利要求10所述的触控显示装置，其特征在于，其中该触控感应层包含：

一触控传输层；以及

一触控接收层，设置于该触控传输层之上方，其中该触控传输层与该触控接收层设置于该第一基板之二表面、该第二基板之二表面以及该偏光层之二表面之任二者。

13.根据权利要求10所述的触控显示装置，其特征在于，更包含：

一透明盖板，设置于该上偏光结构相对该液晶模块的一侧。

14.根据权利要求10所述的触控显示装置，其特征在于，更包含：

一背光模块，设置于该下偏光结构相对该液晶模块的一侧。