CN209652413U - 一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，包括底板，所述底板的上表面开设有固定孔，所述固定孔的内部与底板的下表面相连通，底板的中部活动插接有固定块，固定块的底端延伸至底板的下表面，底板的下表面与固定块的下表面通过第一螺钉固定连接，固定块的下表面通过第二螺钉固定连接有放置块。该真空镀膜设备磁场强度可调节机构，通过设置了正反电机、螺纹杆、滑动腔和活动套，使得正反电机带动螺纹杆转动，螺纹杆带动活动套在滑动腔内部上下移动，还通过设置了顶板、靶材、横板和磁铁，活动套通过横板带动磁铁上下移动，调节磁铁与靶材之间的距离，从而改变靶材表面的磁场结构以及磁场强弱。

Description

一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构。

背景技术

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。在真空镀膜设备中，普遍都使用的磁控镀膜，现有的绝大多数磁控镀膜设备中，均常用磁场固定的结构，因此导致靶材表面与磁铁之间的距离不能调节，从而导致磁场强度不便于调节，使用不方便。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，解决了真空镀膜磁场强度不可调节的问题。

（二）技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，包括底板，所述底板的上表面开设有固定孔，所述固定孔的内部与底板的下表面相连通，所述底板的中部活动插接有固定块，所述固定块的底端延伸至底板的下表面，所述底板的下表面与固定块的下表面通过第一螺钉固定连接，所述固定块的下表面通过第二螺钉固定连接有放置块，所述放置块的中部固定连接有正反电机，所述正反电机的输出轴固定连接有螺纹杆，所述固定块的中部开设有滑动腔，所述底板上表面的中部固定连接有真空室，所述固定块的顶端贯穿并延伸至真空室的内部，所述螺纹杆的顶端贯穿滑动腔的内部并延伸至真空室的内部，所述螺纹杆的表面活动套接有活动套，所述活动套底端的表面与滑动腔的内壁滑动连接，所述滑动腔的内壁开设有移动槽，所述活动套底端的表面固定连接有移动杆，所述移动杆远离活动套一端的表面与移动槽的内壁滑动连接，所述真空室的上表面活动插接有连接杆，所述连接杆的上表面延伸至真空室的上表面并固定连接有顶板，所述顶板上表面的中部固定连接有靶材，所述活动套顶端的两侧面均固定连接有横板，所述横板的上表面固定连接有磁铁。

优选的，所述固定孔的数量为八个，且八个固定孔等距离的均匀设置在底板上表面。

优选的，所述滑动腔的内部与固定块的上表面和下表面均连通，所述滑动腔内部的横截面与活动套底端的横截面相适配。

优选的，所述活动套内壁的螺纹与螺纹杆表面的螺纹相适配，所述活动套的内壁与螺纹杆的表面螺纹连接。

优选的，所述移动槽和移动杆的数量均为两个，且两个移动杆以活动套的垂直中线为对称轴对称设置在活动套底端的两侧面。

优选的，所述固定块的上表面至活动套位于滑动腔外部一端的下表面之间的距离与移动槽的高度相等。

（三）有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，具备以下有益效果：

1、该真空镀膜设备磁场强度可调节机构，通过设置了正反电机、螺纹杆、滑动腔和活动套，使得正反电机带动螺纹杆转动，螺纹杆带动活动套在滑动腔内部上下移动，还通过设置了顶板、靶材、横板和磁铁，活动套通过横板带动磁铁上下移动，调节磁铁与靶材之间的距离，从而改变靶材表面的磁场结构以及磁场强弱。

2、该真空镀膜设备磁场强度可调节机构，通过设置了第一螺钉、第二螺钉和放置块，方便对正反电机和固定块进行固定，还通过设置了移动槽和移动杆，使得移动槽对移动杆进行限位，从而对活动套进行限位，保证活动套随着螺纹杆的转动而上下移动。

附图说明

图1为本实用新型结构正视图；

图2为本实用新型结构正剖图；

图3为本实用新型底板结构俯剖图。

图中：1底板、2固定孔、3固定块、4第一螺钉、5第二螺钉、6放置块、7正反电机、8螺纹杆、9滑动腔、10真空室、11活动套、12移动槽、13移动杆、14连接杆、15顶板、16靶材、17横板、18磁铁。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，包括底板1，底板1的上表面开设有固定孔2，固定孔2的数量为八个，且八个固定孔2等距离的均匀设置在底板1上表面，方便对底板1进行固定，且保证底板1固定稳固，固定孔2的内部与底板1的下表面相连通，底板1的中部活动插接有固定块3，固定块3的底端延伸至底板1的下表面，底板1的下表面与固定块3的下表面通过第一螺钉4固定连接，固定块3的下表面通过第二螺钉5固定连接有放置块6，放置块6的中部固定连接有正反电机7，设置了第一螺钉4、第二螺钉5和放置块6，方便对正反电机7和固定块3进行固定，正反电机7的输出轴固定连接有螺纹杆8，固定块3的中部开设有滑动腔9，底板1上表面的中部固定连接有真空室10，固定块3的顶端贯穿并延伸至真空室10的内部，螺纹杆8的顶端贯穿滑动腔9的内部并延伸至真空室10的内部，螺纹杆8的表面活动套接有活动套11，活动套11内壁的螺纹与螺纹杆8表面的螺纹相适配，活动套11的内壁与螺纹杆8的表面螺纹连接，使得螺纹杆8转动带动活动套11上下移动，活动套11底端的表面与滑动腔9的内壁滑动连接，设置了正反电机7、螺纹杆8、滑动腔9和活动套11，使得正反电机7带动螺纹杆8转动，螺纹杆8带动活动套11在滑动腔9内部上下移动，滑动腔9的内部与固定块3的上表面和下表面均连通，滑动腔9内部的横截面与活动套11底端的横截面相适配，使得活动套11的底端可以在滑动腔9内部上下滑动，滑动腔9的内壁开设有移动槽12，固定块3的上表面至活动套11位于滑动腔9外部一端的下表面之间的距离与移动槽12的高度相等，使得活动套11上下移动带动移动杆13在移动槽12内部上下移动，调节磁场强度，活动套11底端的表面固定连接有移动杆13，移动杆13远离活动套11一端的表面与移动槽12的内壁滑动连接，移动槽12和移动杆13的数量均为两个，且两个移动杆13以活动套11的垂直中线为对称轴对称设置在活动套11底端的两侧面，从左右两端对活动套11进行限位固定，使得活动套11无法随螺纹杆8的转动而转动，设置了移动槽12和移动杆13，使得移动槽12对移动杆13进行限位，从而对活动套11进行限位，保证活动套11随着螺纹杆8的转动而上下移动，真空室10的上表面活动插接有连接杆14，连接杆14的上表面延伸至真空室10的上表面并固定连接有顶板15，顶板15上表面的中部固定连接有靶材16，活动套11顶端的两侧面均固定连接有横板17，横板17的上表面固定连接有磁铁18，设置了顶板15、靶材16、横板17和磁铁18，活动套11通过横板17带动磁铁18上下移动，调节磁铁18与靶材16之间的距离，从而改变靶材16表面的磁场结构以及磁场强弱。

该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。

在使用时，当需要对靶材16表面的磁场强度进行调节时，启动正反电机7，正反电机7带动螺纹杆8转动，螺纹杆8表面螺纹套接有活动套11，活动套11表面固定连接的移动杆13在移动槽12的阻隔下，使得活动套11无法随螺纹杆8的转动而转动，螺纹杆8表面的螺纹与活动套11内壁的螺纹发生错位，从而导致活动套11随螺纹杆8的转动而上下移动，活动套11通过横板17带动磁铁18上下移动，调节磁铁18与靶材16之间的距离，从而调节了磁场强度。

综上所述，该真空镀膜设备磁场强度可调节机构，通过设置了正反电机7、螺纹杆8、滑动腔9和活动套11，使得正反电机7带动螺纹杆8转动，螺纹杆8带动活动套11在滑动腔9内部上下移动，还通过设置了顶板15、靶材16、横板17和磁铁18，活动套11通过横板17带动磁铁18上下移动，调节磁铁18与靶材16之间的距离，从而改变靶材16表面的磁场结构以及磁场强弱，通过设置了第一螺钉4、第二螺钉5和放置块6，方便对正反电机7和固定块3进行固定，还通过设置了移动槽12和移动杆13，使得移动槽12对移动杆13进行限位，从而对活动套11进行限位，保证活动套11随着螺纹杆8的转动而上下移动，解决了真空镀膜磁场强度不可调节的问题。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，包括底板（1），其特征在于：所述底板（1）的上表面开设有固定孔（2），所述固定孔（2）的内部与底板（1）的下表面相连通，所述底板（1）的中部活动插接有固定块（3），所述固定块（3）的底端延伸至底板（1）的下表面，所述底板（1）的下表面与固定块（3）的下表面通过第一螺钉（4）固定连接，所述固定块（3）的下表面通过第二螺钉（5）固定连接有放置块（6），所述放置块（6）的中部固定连接有正反电机（7），所述正反电机（7）的输出轴固定连接有螺纹杆（8），所述固定块（3）的中部开设有滑动腔（9），所述底板（1）上表面的中部固定连接有真空室（10），所述固定块（3）的顶端贯穿并延伸至真空室（10）的内部，所述螺纹杆（8）的顶端贯穿滑动腔（9）的内部并延伸至真空室（10）的内部，所述螺纹杆（8）的表面活动套接有活动套（11），所述活动套（11）底端的表面与滑动腔（9）的内壁滑动连接，所述滑动腔（9）的内壁开设有移动槽（12），所述活动套（11）底端的表面固定连接有移动杆（13），所述移动杆（13）远离活动套（11）一端的表面与移动槽（12）的内壁滑动连接，所述真空室（10）的上表面活动插接有连接杆（14），所述连接杆（14）的上表面延伸至真空室（10）的上表面并固定连接有顶板（15），所述顶板（15）上表面的中部固定连接有靶材（16），所述活动套（11）顶端的两侧面均固定连接有横板（17），所述横板（17）的上表面固定连接有磁铁（18）。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，其特征在于：所述固定孔（2）的数量为八个，且八个固定孔（2）等距离的均匀设置在底板（1）上表面。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，其特征在于：所述滑动腔（9）的内部与固定块（3）的上表面和下表面均连通，所述滑动腔（9）内部的横截面与活动套（11）底端的横截面相适配。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，其特征在于：所述活动套（11）内壁的螺纹与螺纹杆（8）表面的螺纹相适配，所述活动套（11）的内壁与螺纹杆（8）的表面螺纹连接。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，其特征在于：所述移动槽（12）和移动杆（13）的数量均为两个，且两个移动杆（13）以活动套（11）的垂直中线为对称轴对称设置在活动套（11）底端的两侧面。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备磁场强度可调节机构，其特征在于：所述固定块（3）的上表面至活动套（11）位于滑动腔（9）外部一端的下表面之间的距离与移动槽（12）的高度相等。