CN209631513U - 一种涂胶装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供了一种涂胶装置,涉及建筑技术领域,解决了瓷砖人工刷胶不均匀,等待时间长的技术问题。该涂胶装置包括输送组件、淋胶组件和烘干组件,待喷胶瓷砖通过输送组件依次水平输送,淋胶组件和烘干组件依次设置,且均位于输送组件上方,分别对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干;或者是,待喷胶瓷砖放置在淋胶组件和烘干组件下方,淋胶组件和烘干组件依次设置且均与输送组件连接能在水平方向移动对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干。本实用新型通过淋胶组件对瓷砖进行淋胶式刷胶,通过烘干组件对刷胶后的瓷砖进行烘干,不仅解决了人工刷胶不均匀的问题,而且还可缩短晾干时间,提高工作效率,降低劳动强度,提高瓷砖粘贴的牢固度。

Description

一种涂胶装置
技术领域
本实用新型涉及建筑技术领域,尤其是涉及一种涂胶装置。
背景技术
瓷砖,又称磁砖,是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物,经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程,而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等,建筑或装饰材料,称之为瓷砖。其原材料多由粘土、石英砂等等混合而成。瓷砖上墙是现在流行的铺贴方式,尤其是自建房或别墅,可以让装饰大气、美观、有档次一些。
现有的瓷砖铺贴时,先要采用人工涂刷的方式在瓷砖背部涂抹粘结剂,然后等粘结剂晾干后再铺到墙上去。
本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题:
这种人工涂抹粘结剂的方式存在涂刷不均匀的问题,而且由于涂胶不均匀,为了能够使胶充分晾干,需等待较长时间,造成瓷砖放置时间久粘结剂表面灰尘较多,这些都会影响到胶的粘结性,造成瓷砖铺贴牢固度下降。而本发明要解决的问题就是人工涂刷不均匀同时需要长时间等待的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种涂胶装置,以解决现有技术中存在的瓷砖人工刷胶不均匀,等待时间长的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提供了以下技术方案:
本实用新型提供的一种涂胶装置,包括输送组件、淋胶组件和烘干组件,其中:
待喷胶瓷砖通过所述输送组件依次水平输送,所述淋胶组件和所述烘干组件依次设置,且均位于所述输送组件上方,分别对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干;
或者是,待喷胶瓷砖放置在所述淋胶组件和所述烘干组件下方,所述淋胶组件和所述烘干组件依次设置且均与所述输送组件连接能在水平方向移动对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干。
作为本实用新型的进一步改进,所述涂胶装置还包括机架和机盖,所述输送组件设置在所述机架上,所述机盖设置在所述机架顶部且盖设在所述输送组件上方,所述机盖、所述机架和所述输送组件之间围合成处理腔,所述机盖相对的两侧分别设置有供瓷砖进出的入口和出口,所述淋胶组件和所述烘干组件位于所述处理腔内且沿所述输送组件的输送方向设置。
作为本实用新型的进一步改进,所述淋胶组件包括淋胶器、淋胶孔、胶泵、胶箱和胶管,所述胶箱固定在所述机架上且位于所述输送组件下方,所述胶泵设置在所述胶箱内,所述胶管一端与所述胶泵连接,另一端与所述淋胶器连接,所述淋胶器沿所述处理腔宽度方向设置且位于所述胶箱上方,所述淋胶器下方与所述输送组件之间留有供瓷砖通过的空间,所述淋胶孔设置在所述淋胶器底部,用以使胶在重力作用下流到瓷砖上。
作为本实用新型的进一步改进,所述淋胶器为顶部敞口的长方形盒体结构,所述淋胶器两端通过支座固定在所述机架上,所述淋胶孔为条形孔,沿所述淋胶器的长度方向设置,所述胶管与所述淋胶器侧壁上的进胶孔连通。
作为本实用新型的进一步改进,所述淋胶孔长度大于瓷砖宽度。
作为本实用新型的进一步改进,所述胶箱为顶部敞口的长方体形结构,所述胶箱前后方向的宽度不小于所述处理腔宽度。
作为本实用新型的进一步改进,所述淋胶器位于所述胶箱左右方向长度的中部位置。
作为本实用新型的进一步改进,所述烘干组件为沿所述输送组件的输送方向设置的一排发热管。
作为本实用新型的进一步改进,所述输送组件为滚轴式输送线,所述输送组件包括第一输送组件和第二输送组件,所述第一输送组件转动设置在位于所述入口和所述淋胶器之间的所述机架上,所述第二输送组件转动设置在位于所述淋胶器和所述出口之间的所述机架上,所述第一输送组件和所述第二输送组件之间具有宽度大于所述淋胶器宽度的间隔。
作为本实用新型的进一步改进,所述机架为框架式结构,包括相对设置的第一横梁和第二横梁,以及设置在所述第一横梁和所述第二横梁下方的机脚,所述输送组件设置在所述第一横梁和所述第二横梁之间,所述机盖底端与所述第一横梁和所述第二横梁顶部连接。
本实用新型与现有技术相比具有如下有益效果:
本实用新型提供的涂胶装置,通过淋胶组件对瓷砖进行淋胶式刷胶,通过烘干组件对刷胶后的瓷砖进行烘干,淋胶组件中胶泵将胶箱中的胶抽取出来并泵送到管道中,由管道输送到淋胶器中,由胶的自重从缝隙形淋胶孔中流出,形成一个均匀的胶幕;瓷砖从入口通过滚轴输送到到淋胶器下方,匀速向前运动,胶幕均匀的附着在瓷砖的需刷胶面上,完成刷胶工作;淋完胶后再由输送带输送到烘干位置,由高温进行烘干;烘干完成后,由输送带从出口输送出去,完成加工,通过涂胶装置,不仅解决了人工刷胶不均匀的问题,而且还可缩短晾干时间,提高工作效率,降低劳动强度,提高瓷砖粘贴的牢固度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型涂胶装置的立体结构示意图;
图2是本实用新型涂胶装置将机盖打开后的立体结构示意图;
图3是本实用新型涂胶装置的主视剖面图;
图4是本实用新型涂胶装置中淋胶器的俯视图。
图中1、机架;11、第一横梁;12、第二横梁;13、机脚;2、机盖;21、入口;22、出口;3、输送组件;31、第一输送组件;32、第二输送组件;4、淋胶组件;41、淋胶器;42、淋胶孔;43、胶泵;44、胶箱;45、胶管;46、支座;5、烘干组件;100、处理腔。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式,都属于本实用新型所保护的范围。
如图1所示,本实用新型提供了一种涂胶装置,包括输送组件3、淋胶组件4和烘干组件5,其中:
待喷胶瓷砖通过输送组件3依次水平输送,淋胶组件4和烘干组件5依次设置,且均位于输送组件3上方,分别对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干;即瓷砖移动,淋胶组件4和烘干组件5固定的淋胶方式,该种方式的涂胶装置在使用时,将待喷胶的瓷砖放置到输送组件3上,瓷砖首先被传送到淋胶组件4下方被淋胶,然后再输送到烘干组件5下方被烘干;
或者是,待喷胶瓷砖放置在淋胶组件和烘干组件下方,淋胶组件和烘干组件依次设置且均与输送组件连接能在水平方向移动对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干,即瓷砖不动,淋胶组件4和烘干组件5移动的淋胶方式,该种方式的涂胶装置在使用时,待喷胶的瓷砖放置好,然后淋胶组件5和烘干组件5移动,当淋胶组件5位于瓷砖上方时进行边移动边淋胶,当烘干组件5移动到被喷过胶的瓷砖上方时,在移动过程中对瓷砖上的胶进行烘干。
通过淋胶组件对瓷砖进行淋胶式刷胶,通过烘干组件对刷胶后的瓷砖进行烘干,不仅解决了人工刷胶不均匀的问题,而且还可缩短晾干时间,提高工作效率,降低劳动强度,提高瓷砖粘贴的牢固度。
如图2所示,作为一种可选的实施方式,当采用第一种结构形式即瓷砖移动,淋胶组件4和烘干组件5固定的淋胶方式时,涂胶装置还包括机架1和机盖2,输送组件3设置在机架1上,机盖2设置在机架1顶部且盖设在输送组件3上方,机盖2、机架1和输送组件3之间围合成处理腔100,机盖2相对的两侧分别设置有供瓷砖进出的入口21和出口22,淋胶组件4和烘干组件5位于处理腔100内且沿输送组件3的输送方向设置。
作为一种可选的实施方式,淋胶组件4包括淋胶器41、淋胶孔42、胶泵43、胶箱44和胶管45,胶箱44固定在机架1上且位于输送组件3下方,胶泵43设置在胶箱44内,胶管45一端与胶泵43连接,另一端与淋胶器41连接,淋胶器41沿处理腔100宽度方向(与输送方向相垂直的方向)设置且位于胶箱44上方,淋胶器41下方与输送组件3之间留有供瓷砖通过的空间,淋胶孔42设置在淋胶器41底部,用以使胶在重力作用下流到瓷砖上。
如图4所示,具体的,淋胶器41为顶部敞口的长方形盒体结构,淋胶器41两端通过支座46固定在机架1上,淋胶孔42为条形孔,沿淋胶器41的长度方向设置,胶管45与淋胶器41侧壁上的进胶孔连通。淋胶孔42长度小于淋胶器41长度。通过设置条形淋胶孔42,使淋胶器41下方形成胶幕,当瓷砖通过淋胶孔42下方时,胶幕会均匀的涂覆在瓷砖上。
需要说明的是,淋胶孔42长度大于瓷砖宽度。该处的瓷砖宽度是指垂直于输送方向一侧的规格。从淋胶孔42内流出的超过瓷砖宽度的胶会通过第一输送组件31和第二输送组件32之间的间隔处直接流回到胶箱44内。
作为一种可选的实施方式,胶箱44为顶部敞口的长方体形结构,胶箱44前后方向的宽度不小于处理腔100宽度。该处的前后方向的宽度是指胶箱44垂直于输送方向的规格,处理腔100宽度也是指垂直于输送方向的规格。
需要说明的是,在本实用新型中,淋胶器41位于胶箱44左右方向长度的中部位置。该处的左右方向长度是指平行于输送方向的规格。
如图3所示,作为一种可选的实施方式,烘干组件5为沿输送组件3的输送方向设置的一排发热管。发热管采用现有技术中的产品实现,可为电发热管。
作为一种可选的实施方式,输送组件3为滚轴式输送线,输送组件3包括第一输送组件31和第二输送组件32,第一输送组件31转动设置在位于入口21和淋胶器41之间的机架1上,第二输送组件32转动设置在位于淋胶器41和出口22之间的机架1上,第一输送组件31和第二输送组件32之间具有宽度大于淋胶器41宽度的间隔。
作为一种可选的实施方式,机架1为框架式结构,包括相对设置的第一横梁11和第二横梁12,以及设置在第一横梁11和第二横梁12下方的机脚13,输送组件3设置在第一横梁11和第二横梁12之间,机盖2底端与第一横梁11和第二横梁12顶部连接,胶箱44固定在机脚13上。
本实用新型提供的涂胶装置,通过淋胶组件对瓷砖进行淋胶式刷胶,通过烘干组件对刷胶后的瓷砖进行烘干,淋胶组件中胶泵将胶箱中的胶抽取出来并泵送到管道中,由管道输送到淋胶器中,由胶的自重从缝隙形淋胶孔中流出,形成一个均匀的胶幕;瓷砖从入口通过滚轴输送到到淋胶器下方,匀速向前运动,胶幕均匀的附着在瓷砖的需刷胶面上,完成刷胶工作;淋完胶后再由输送带输送到烘干位置,由高温进行烘干;烘干完成后,由输送带从出口输送出去,完成加工,通过涂胶装置,不仅解决了人工刷胶不均匀的问题,而且还可缩短晾干时间,提高工作效率,降低劳动强度,提高瓷砖粘贴的牢固度。
这里首选需要说明的是,“向内”是朝向容置空间中央的方向,“向外”是远离容置空间中央的方向。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种涂胶装置,其特征在于,包括输送组件、淋胶组件和烘干组件,其中:
待喷胶瓷砖通过所述输送组件依次水平输送,所述淋胶组件和所述烘干组件依次设置,且均位于所述输送组件上方,分别对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干;
或者是,待喷胶瓷砖放置在所述淋胶组件和所述烘干组件下方,所述淋胶组件和所述烘干组件依次设置且均与所述输送组件连接能在水平方向移动对待喷胶瓷砖进行淋胶和烘干。
2.根据权利要求1所述的涂胶装置,其特征在于,所述涂胶装置还包括机架和机盖,所述输送组件设置在所述机架上,所述机盖设置在所述机架顶部且盖设在所述输送组件上方,所述机盖、所述机架和所述输送组件之间围合成处理腔,所述机盖相对的两侧分别设置有供瓷砖进出的入口和出口,所述淋胶组件和所述烘干组件位于所述处理腔内且沿所述输送组件的输送方向设置。
3.根据权利要求2所述的涂胶装置,其特征在于,所述淋胶组件包括淋胶器、淋胶孔、胶泵、胶箱和胶管,所述胶箱固定在所述机架上且位于所述输送组件下方,所述胶泵设置在所述胶箱内,所述胶管一端与所述胶泵连接,另一端与所述淋胶器连接,所述淋胶器沿所述处理腔宽度方向设置且位于所述胶箱上方,所述淋胶器下方与所述输送组件之间留有供瓷砖通过的空间,所述淋胶孔设置在所述淋胶器底部,用以使胶在重力作用下流到瓷砖上。
4.根据权利要求3所述的涂胶装置,其特征在于,所述淋胶器为顶部敞口的长方形盒体结构,所述淋胶器两端通过支座固定在所述机架上,所述淋胶孔为条形孔,沿所述淋胶器的长度方向设置,所述胶管与所述淋胶器侧壁上的进胶孔连通。
5.根据权利要求4所述的涂胶装置,其特征在于,所述淋胶孔长度大于瓷砖宽度。
6.根据权利要求4所述的涂胶装置,其特征在于,所述胶箱为顶部敞口的长方体形结构,所述胶箱前后方向的宽度不小于所述处理腔宽度。
7.根据权利要求4所述的涂胶装置,其特征在于,所述淋胶器位于所述胶箱左右方向长度的中部位置。
8.根据权利要求2所述的涂胶装置,其特征在于,所述烘干组件为沿所述输送组件的输送方向设置的一排发热管。
9.根据权利要求7所述的涂胶装置,其特征在于,所述输送组件为滚轴式输送线,所述输送组件包括第一输送组件和第二输送组件,所述第一输送组件转动设置在位于所述入口和所述淋胶器之间的所述机架上,所述第二输送组件转动设置在位于所述淋胶器和所述出口之间的所述机架上,所述第一输送组件和所述第二输送组件之间具有宽度大于所述淋胶器宽度的间隔。
10.根据权利要求2所述的涂胶装置,其特征在于,所述机架为框架式结构,包括相对设置的第一横梁和第二横梁,以及设置在所述第一横梁和所述第二横梁下方的机脚,所述输送组件设置在所述第一横梁和所述第二横梁之间,所述机盖底端与所述第一横梁和所述第二横梁顶部连接。
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