CN209588569U - 半导体器件的烤箱治具 - Google Patents

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施森荣
陈彦良
大藤彻
谢明达
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Guoga Semiconductor Wuxi Co ltd
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Jet Technology And Technology Co Ltd
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Abstract

一种半导体器件的烤箱治具，其特征在于，包含:多个支撑架，支撑架围绕构成矩形形状；多个层板，各层板分别设置在支撑架的顶端以及底端之间的位置，及于各层板上具有多个贯穿层板的孔洞；垫高架，设置于各层板上的第一侧边且相邻于层板的最外侧的孔洞；挡片，设置于层板上的第二侧边；以及抵持件，抵持件设置于远离挡片的另一端且位于垫高架的下方，用以调整垫高架升高的角度以及固定垫高架，据此以提高操作便利性，并使水份快速蒸发减少烘干时间，达到提高效率之目的。

Description

半导体器件的烤箱治具
技术领域
本实用新型关于一种半导体器件的烤箱治具，特别是关于一种具多孔气体流向功能设计的半导体器件烤箱治具。
背景技术
半导体设备零料件清洗后烘干存放近年来使用低温氮气烤箱(oven)最为广泛,因零料件清洗大致上使用纯水,化学药液清洁均为湿式清洗,清洗完后需要一定的时间烘干。相对于半导体设备零料件清洗后,所需烘干时间为数小时或天才能确保水分完全蒸发,因放置方法水平放置时,零料件向下面接触于治具表面水分较难烘干,以至于需要更多的零料件备用品来完成生产设备更换保养的需求，使生产周转率难以提高且库存成本的费用居高不下。
实用新型内容
根据现有技术中所揭露的问题，本实用新型半导体器件的烤箱治具的设计，可以提高操作便利性，并且可以实现缩短设备零料件烘烤时间，同时减少备品数量降低库存成本。
本实用新型的主要目的在于提供一种使水份快速蒸发减少烘干时间，可提高烘干效率的半导体器件的烤箱治具。
根据上述目的，本实用新型提供一种半导体器件的烤箱治具，其特征在于，包含:多个支撑架，支撑架围绕构成矩形形状；多个层板，各层板分别设置在支撑架的顶端以及底端之间的位置，且各层板之间具有一定的间隔距离，以及于各层板上具有多个贯穿层板的孔洞，当半导体零件清洗后需要烘干时，层板上的孔洞有助于水汽的对流，据此可以提高烘干的效率。
本实用新型的另一目的在于提供一种人员操作便利的半导体器件的烤箱治具。
根据上述目的，本实用新型提供一种半导体器件的烤箱治具，其特征在于，包含:多个支撑架，支撑架围绕构成矩形形状；多个层板，各层板分别设置在支撑架的顶端以及底端之间的位置，及于各层板上具有多个贯穿层板的孔洞；垫高架，设置于各层板上的第一侧边且相邻于层板的最外侧的孔洞；挡片，设置于层板上的第二侧边；以及抵持件，抵持件设置于远离挡片的另一端且位于垫高架的下方，用以调整垫高架升高的角度以及固定垫高架，也利于操作人员的取放，提高操作人员的效率。
附图说明
图1是根据本实用新型所揭露的技术，表示半导体器件的烤箱治具之俯视图；
图2是根据本实用新型所揭露的技术，表示半导体器件的烤箱治具之恻视图；
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术特征及优点，能更为相关技术领域人员所了解，并得以实施本实用新型，在此配合所附的图式、具体阐明本实用新型的技术特征与实施方式，并列举较佳实施例进一步说明。以下文中所对照的图式，为表达与本实用新型特征有关的示意，并未亦不需要依据实际情形完整绘制。而关于本案实施方式的说明中涉及本领域技术人员所熟知的技术内容，亦不再加以陈述。
请参阅图1，系为本实用新型之半导体器件的烤箱治具之俯视图。首先，如图1所示，本实用新型之半导体器件的烤箱治具包括：多个支撑架10，支撑架10围绕构成矩形形状，另外，支撑架10与支撑架10之间所构成的矩形形状可以是长方形或是正方形；多个层板20，各层板20以分层方式分别设置在支撑架10的顶端以及支撑架10的底端之间的位置，且各层板20之间具有一定的间隔距离，及于各层板20上具有多个贯穿层板20的孔洞30，另外，层板20上的孔洞30以数组方式排列；
在一实施例中，支撑架10与支撑架10之间两两互相平行并围绕构成矩形形状，而各层板20以分层方式分别设置在支撑架10的顶端以及支撑架10 的底端之间的位置，且各层板20之间具有一定的间隔距离，以及于各层板 20上具有多个贯穿层板20的孔洞30，当半导体零件清洗后需要烘干时，层板20上的孔洞30有助于水汽的对流，据此可以提高烘干的效率，另外，层板20上的孔洞30排列方式可以是数组方式排列或是任意形式排列；
请继续参阅图1，如图1所示，本实用新型之半导体器件的烤箱治具还包括：垫高架40，设置于各层板20上的第一侧边且相邻于层板20的最外侧的孔洞30，且垫高架40以一角度远离层板20的上表面；挡片50，设置于层板20上的第二侧边，且第一侧边与第二侧边相互垂直，设置于层板20上的挡片50可用以抵持半导体零件并固定半导体零件设置在垫高架40上，也利于操作人员的取放，提高操作人员的效率。以及抵持件60(未在图中标示)，抵持件60设置于远离挡片50的另一端且位于垫高架40的下方。
接着，请参阅图2，系为本实用新型之半导体器件的烤箱治具之恻视图。首先，如图2所示，本实用新型之半导体器件的烤箱治具包含：多个支撑架 10，支撑架10围绕构成矩形形状；多个层板20，各层板20以分层方式分别设置在支撑架10的顶端以及支撑架10的底端之间的位置，且各层板20之间具有一定的间隔距离，同时各层板20之间的间隔距离范围是10～50cm，及于各层板20上具有多个贯穿层板20的孔洞30，另外，层板20上的孔洞30 以数组方式排列或是任意形式排列；垫高架40，设置于各层板20上的第一侧边且相邻于层板20的最外侧的孔洞30，且垫高架40以一角度远离层板20 的上表面，以及垫高架40与层板20之间的角度范围是为1～30°；挡片50(未在图中标示)，设置于层板20上的第二侧边，且第一侧边与第二侧边相互垂直；以及抵持件60，抵持件60设置于远离挡片50的另一端且位于垫高架40 的下方，用以调整垫高架40升高的角度以及固定垫高架40，据此，由设置在垫高架40上的半导体零件不与层板20的上表面直接接触，以及层板20 上多个孔洞30的设计可使半导体零件上下表面同时烘烤,使水份快速蒸发减少烘干时间，达到提高效率之目的。
虽然本实用新型以前述之较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟习本领域技艺者，在不脱离本实用新型之精神和范围内，当可作些许之更动与润饰，因此本实用新型之专利保护范围须视本说明书所附之申请专利范围所界定者为准。

Claims (7)

1.一种半导体器件的烤箱治具，其特征在于，包含:
多个支撑架，所述支撑架围绕构成矩形形状；
多个层板，各所述层板以分层方式分别设置在所述支撑架的顶端以及所述支撑架的底端之间的位置，且各所述层板之间具有一定的间隔距离，及于各所述层板上具有多个贯穿所述层板的孔洞；
垫高架，设置于各所述层板上的第一侧边且相邻于所述层板的最外侧的所述孔洞，且所述垫高架以一角度远离所述层板的上表面；
挡片，设置于所述层板上的第二侧边，且所述第一侧边与所述第二侧边相互垂直；以及
抵持件，所述抵持件设置于远离所述挡片的另一端且位于所述垫高架的下方，用以调整所述垫高架升高的所述角度以及固定所述垫高架，
据此，设置在所述垫高架上的半导体零件不与所述层板的所述上表面直接接触。
2.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，所述矩形形状可以是长方形或是正方形。
3.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，所述层板上的所述孔洞以数组方式排列。
4.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，所述层板上的所述孔洞以任意形式排列。
5.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，所述垫高架与所述层板之间的所述角度范围为1～30°。
6.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，所述挡片用以抵持所述半导体零件并固定所述半导体零件设置在所述垫高架上。
7.如权利要求1所述的半导体器件的烤箱治具，其特征在于，各所述层板之间的所述间隔距离范围为10～50cm。
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