CN209508401U - 超导带材缓冲层双面镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种超导带材缓冲层双面镀膜装置。主要解决二次镀膜二次绕带存在的生产效率低下以及会对金属基带及膜层表面产生摩擦留下划痕的技术问题。本实用新型装置包括水平间隔设置的放卷盘和收卷盘,在放卷盘的一侧设置导向轮a和导向轮b,在放卷盘的左侧设有导向轮c,该导向轮c与放卷盘下方的导向轮b在同一水平线上,在导向轮c的上方设有导向轮d,在导向轮d的水平方向设有导向轮e,导向轮e下方同一轴线上设有导向轮f,导向轮f与收卷盘外侧的导向轮g在同一水平线上,基带从放卷盘输出经过上述各个导向轮进入收卷盘,在导向轮c和导向轮d上的基带左侧设有正面镀膜装置,在导向轮e和导向轮f上的基带左侧设有反面镀膜装置。
Description
技术领域
本实用新型涉及带材的镀膜装置,特别涉及一种超导带材缓冲层双面镀膜装置。
背景技术
目前超导镀膜工艺是在抛光后的金属基带上进行缓冲层镀膜,镀上几层氧化物膜层,完善下道工艺超导层的生长条件。从正常的生产来说,我们先进行金属带材的抛光处理,这是双面的电化学抛光技术。但到后续工序时,缓冲层的镀膜和超导层的制备都是单面生产,包括最终的产品也是只有单面的性能。
如果能够从基带的背面进行同步制备,那么同一厚度的产品拥有双面缓冲层及超导层后,性能上也会有双倍的提升。如果要对抛光之后的金属基带进行双面镀膜,那么按现在的设备势必只有一种方法:就是正常先镀一面,完成之后进行反向绕带,把膜面绕在内部,背面朝外,完成之后再进行第二次镀膜。在我们目前的工艺流程里,多次的绕带会对金属基带及膜层表面产生摩擦留下划痕等不可逆的破坏,而且多次制备对于生产来说效率非常低下。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种超导带材缓冲层双面镀膜装置,主要解决二次镀膜二次绕带存在的生产效率低下以及会对金属基带及膜层表面产生摩擦留下划痕的技术问题。
本实用新型技术方案为:一种超导带材缓冲层双面镀膜装置,包括水平间隔设置的放卷盘和收卷盘,在放卷盘的一侧设置导向轮a和导向轮b,导向轮a和导向轮b上下设置且在同一轴线,在放卷盘的左侧设有导向轮c,该导向轮c与放卷盘下方的导向轮b在同一水平线上,在导向轮c的上方设有导向轮d,导向轮c和导向轮d在同一轴线上,在导向轮d的水平方向设有导向轮e,导向轮e下方同一轴线上设有导向轮f,导向轮f与收卷盘外侧的导向轮g在同一水平线上,基带从放卷盘输出经过上述各个导向轮进入收卷盘,在导向轮c和导向轮d上的基带左侧设有正面镀膜装置,在导向轮e和导向轮f上的基带左侧设有反面镀膜装置。
导向轮c和导向轮d设置在溅射腔a内,正面镀膜装置固定在溅射腔a内壁上,导向轮e和导向轮f设置在溅射腔b内,反面镀膜装置固定在溅射腔b内壁上,溅射腔a和溅射腔b上端通过过渡腔联通,经过导向轮d和导向轮e的基带位于过渡腔内。
本实用新型的有益效果是:采用一次制备双面镀膜的方式,分两个腔室先后进行基带两面的镀膜。大大提高了双面镀膜的效率,且降低了多次绕卷带来的风险,一个单位成本的超导带材就有拥有了双倍的超导性能。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图2为本实用新型镀膜基带头尾XRD测试结果图。
图3为本实用新型镀膜基带粗糙度结果图。
图中:1-放卷盘,2-收卷盘,3-导向轮a,4-导向轮b,5-导向轮c,6-导向轮d,7-导向轮e,8-导向轮f,9-导向轮g,10-基带,11-正面镀膜装置,12-反面镀膜装置,13-溅射腔a,14-溅射腔b,15-过渡腔。
具体实施方式
参照图1,一种超导带材缓冲层双面镀膜装置,包括水平间隔设置的放卷盘1和收卷盘2,在放卷盘1的一侧设置导向轮a3和导向轮b4,导向轮a3和导向轮b4上下设置且在同一轴线,在放卷盘1的左侧设有导向轮c5,该导向轮c5与放卷盘下方的导向轮b4在同一水平线上,在导向轮c5的上方设有导向轮d6,导向轮c5和导向轮d6在同一轴线上,在导向轮d6的水平方向设有导向轮e7,导向轮e7下方同一轴线上设有导向轮f8,导向轮f8与收卷盘2外侧的导向轮g9在同一水平线上,基带10从放卷盘1输出经过上述各个导向轮进入收卷盘2,在导向轮c5和导向轮d6上的基带10左侧设有正面镀膜装置11(中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司),在导向轮e7和导向轮f8上的基带10左侧设有反面镀膜装置12(中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司)。
导向轮c5和导向轮d6设置在溅射腔a13内,正面镀膜装置11固定在溅射腔a13内壁上,导向轮e7和导向轮f8设置在溅射腔b14内,反面镀膜装置12固定在溅射腔b14内壁上,溅射腔a13和溅射腔b14上端通过过渡腔15联通,经过导向轮d6和导向轮e7的基带10位于过渡腔15内。
工作时,基带10从放卷盘1出发,途径溅射腔a13进行第一次正面镀膜,再经过过渡腔15达到溅射腔b14,进行第二次背面镀膜,最终回到收卷盘2中。一次就完成了正反两面镀膜。
获得的1000长带镀膜基带头尾XRD测试结果见图2,测试条件:LMO(46.10)-omg,FWHM=3.3。粗糙度1.7nm,见图3,测试条件:9.5*9.5μm。
Claims (2)
1.一种超导带材缓冲层双面镀膜装置,包括水平间隔设置的放卷盘和收卷盘,其特征是:在放卷盘的一侧设置导向轮a和导向轮b,导向轮a和导向轮b上下设置且在同一轴线,在放卷盘的左侧设有导向轮c,该导向轮c与放卷盘下方的导向轮b在同一水平线上,在导向轮c的上方设有导向轮d,导向轮c和导向轮d在同一轴线上,在导向轮d的水平方向设有导向轮e,导向轮e下方同一轴线上设有导向轮f,导向轮f与收卷盘外侧的导向轮g在同一水平线上,基带从放卷盘输出经过上述各个导向轮进入收卷盘,在导向轮c和导向轮d上的基带左侧设有正面镀膜装置,在导向轮e和导向轮f上的基带左侧设有反面镀膜装置。
2.根据权利要求1所述的超导带材缓冲层双面镀膜装置,其特征是:导向轮c和导向轮d设置在溅射腔a内,正面镀膜装置固定在溅射腔a内壁上,导向轮e和导向轮f设置在溅射腔b内,反面镀膜装置固定在溅射腔b内壁上,溅射腔a和溅射腔b上端通过过渡腔联通,经过导向轮d和导向轮e的基带位于过渡腔内。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN109518154A (zh) * | 2019-01-16 | 2019-03-26 | 上海上创超导科技有限公司 | 超导带材缓冲层双面镀膜装置 |
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