CN209486438U - 一种显示面板以及显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种显示面板以及显示装置。所述的显示面板包括基板、模糊区域和多个支撑柱；模糊区域为在光罩制程中由两次光罩曝光在所述基板上形成的交叠区域；多个支撑柱设于所述基板上；支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱；第一支撑柱由第一次曝光制成；第二支撑柱由第二次曝光制成；模糊区域内的第一支撑柱和第二支撑柱交错排列。通过曝光交错于另一边，形成模糊区域，在模糊区域内交错设有第一支撑柱和第二支撑柱，降低了支撑柱的高度差异，解决了因为两次曝光在进行拼图时而造成第一支撑柱与第二支撑柱的高度差异,导致显示区的亮暗会有差异，而使人眼发现两个区块亮度不一样,而形成显示不均匀。

Description

一种显示面板以及显示装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板以及显示装置。

背景技术

随着显示屏幕的逐渐大型化，而接近式曝光机曝光的有效曝光范围却无法随着扩大(原因为掩模板翘曲度影响)。目前接近式曝光机的掩模板面积为W920*800&W1200*850，其有效曝光面积约W880*730&W1100*780(曝光厂家不同其掩模板的利用率也不同)，而47英寸以上的液晶屏幕接近式曝光机无法实现一次曝光需要拼接曝光，各世代面板厂设备当要进行超出该世代曝光机最大尺寸限制生产,则必须以拼接曝光方式进行产品设计来达成,而各层拼接最为困难的即为支撑柱制程,

该制程影响盒厚的变异,支撑柱高度变异就会使品味上出现显示不均的现象。

实用新型内容

本实用新型所要解决的是提供一种显示面板以及显示装置，以解决显示不均匀的问题。

本实用新型公开了一种显示面板，所述的显示面板包括基板、模糊区域和多个支撑柱；模糊区域为在光罩制程中由两次光罩曝光在所述基板上形成的交叠区域；多个支撑柱设于所述基板上；所述支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱；所述第一支撑柱由第一次曝光制成；所述第二支撑柱由第二次曝光制成；所述模糊区域内的所述第一支撑柱和所述第二支撑柱交错排列。

可选的，所述模糊区域的形状为长条形状。

可选的，所述模糊区域设有多排所述支撑柱，每一排的所述支撑柱包括所述第一支撑柱和第二支撑柱。

可选的，每一排的所述第一支撑柱和第二支撑柱交替排列。

可选的，每一排的所述第一支撑柱每两个为一组，所述第二支撑柱每两个为一组，每一组的所述第一支撑柱与每一组的所述第二支撑柱交替排列。

可选的，相邻两列支撑柱错位设置。

可选的，所述模糊区域设有多排所述支撑柱，相邻两排的支撑柱不同，同一排的支撑柱相同。

可选的，所述模糊区域里的支撑柱的间隔尺寸范围为1微米-3微米。

本实用新型还公开了一种显示面板，包括基板、模糊区域和多个支撑柱；在光罩制程中由两次光罩曝光在所述基板上形成的交叠区域为模糊区域；多个支撑柱设于所述基板上；所述支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱；所述第一支撑柱由第一次曝光制成；所述第二支撑柱由第二次曝光制成；所述模糊区域设有多排所述支撑柱，每一排的所述第一支撑柱和所述第二支撑柱交替排列，所述模糊区域里的所述支撑柱的间隔尺寸范围为1微米至3微米，所述模糊区域的形状为长条形状。

本实用新型还公开了一种显示装置，包括上述所述的显示面板。

本申请通过两次曝光交错于另一边，形成模糊区域，在模糊区域内交错设有第一支撑柱和第二支撑柱，降低了支撑柱的高度差异，解决了因为两次曝光在进行拼图时而造成第一支撑柱与第二支撑柱的高度差异，导致显示区的亮暗会有差异，而使人眼发现两个区块亮度不一样,而形成显示不均匀的问题。

附图说明

所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：

图1是本实用新型的其中一个实施例的一种显示面板的示意图；

图2是本实用新型的其中一个实施例的支撑柱拼接的俯视图；

图3是本实用新型的另一个实施例的支撑柱拼接的俯视图；

图4是本实用新型的另一个实施例的支撑柱拼接的俯视图；

图5是本实用新型的其中一个实施例的一种显示面板的方法图；

图6是本实用新型的其中一个实施例的支撑柱曝光的示意图；

图7是本实用新型的其中一个实施例的支撑柱曝光的示意图；

图8是本实用新型的其中一个实施例的显示装置的示意图。

其中，100、显示面板；110、基板；111、支撑柱；112、第一支撑柱；113、第二支撑柱；130、模糊区域；200、显示装置。

具体实施方式

需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本申请的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面参考附图和可选的实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1至图5所示，其中图1为显示面板的剖面示意图，图2至4为模糊区130中支撑柱的排列方式。从图1至图2中可以看出，显示面板100包括基板110、模糊区域130和多个支撑柱111；在光罩制程中由两次光罩曝光在基板100上形成的交叠区域为模糊区域130；多个支撑柱设于基板110上；支撑柱111包括第一支撑柱112和第二支撑柱113；第一支撑柱112由第一次曝光制成；第二支撑柱113由第二次曝光制成；模糊区域130内的第一支撑柱112和第二支撑柱113交错排列。

支撑柱111通过曝光显影交错于另一边，形成模糊区域130，在模糊区域130内交错排列设有第一支撑柱112和第二支撑柱113，中和了二者高度差异，降低了支撑柱111的高度差，解决了因为两次曝光在进行拼图时而造成第一支撑柱112与第二支撑柱113的高度差异,导致显示区的亮暗会有差异，而使人眼发现两个区块亮度不一样,而形成显示不均匀。

基板110包括彩膜基板和阵列基板，支撑柱111既可以在彩膜基板形成，也可以在彩膜基板上形成。

在一实施例中，模糊区域130的形状为长条形状。长条形的模糊区域在最小成本化的情况下中和在拼图时的高度差异，长条的模糊区域130，第一支撑柱112的边缘和第二支撑柱113的边缘交错，中和高度差，提高显示画质。

在一实施例中，模糊区域130里的支撑柱的间隔尺寸范围为1-3μm。支撑柱111与支撑柱111的之间的间隔为W1,需要足够大的宽度范围才能随机排列,间隔范围在1-3μm较为合适，而使高度差异模糊化。

如图2为一种第一支撑柱112和第二支撑柱113的排列方式，模糊区域130设有多排支撑柱，每一排的支撑柱111包括第一支撑柱112和第二支撑柱113。

第一支撑柱112和第二支撑柱113，交错排列在模糊区域130内，对于模糊区域130由于范例性的高度差异大来讲，支撑柱在模糊区域130的支撑基板110的力度更加均匀。

在一实施例中，每一排的第一支撑柱112和第二支撑柱113交替排列。

每排的支撑柱111，第一支撑柱112与第二支撑柱113交替出现，若二者有高度差，就可以交替支撑，支撑力均匀，模糊区域130里的支撑力就会支撑均匀，模糊区里就不会出现漏光导致的显示不均，造成视觉上的两个区块亮度不一样。

在一实施例中，相邻两列支撑柱错位设置。

模糊区里为3排支撑柱，相邻的支撑柱错位排列，一排的支撑柱111错对应于另一排的间隙设置，错位可以提高均匀性，模糊区的支撑柱111错位支撑，增加模糊区域130里支撑柱111支撑的均匀性，不会造成由于不均匀导致的高度落差变大，进而导致显示不均匀。

如图3为另一种第一支撑柱112和第二支撑柱113的排列方式，跟上述实施方式的区别在于：每一排的第一支撑柱112每两个为一组，第二支撑柱113每两个为一组，每一组的第一支撑柱112与每一组的第二支撑柱113交替排列。

两个第一支撑柱112为一组，两个第二支撑柱113为一组，一组作为一个整体，交替出现，使模糊区里的高度差异趋于均匀状态，两个在一起支撑，由于第一支撑柱112与第二支撑柱113的高度不同，高得支撑柱111支撑时有两个支撑柱111一起支撑没加强支撑强度。

如图4为另一种第一支撑柱112和第二支撑柱113的排列方式，跟上述实施方式的区别在于：模糊区域130设有多排支撑柱，相邻两排的支撑柱111不同，同一排的支撑柱111相同。

相邻两排的支撑柱不同，同一排的支撑柱111相同，整齐的交错排列，对于制程来说，制程简单，只需要对准多个同一排的支撑柱交错曝光，有规律的调节透过率，加快制程。

作为本实用新型的另一实施例，公开了一种显示面板，包括基板110、模糊区域130和多个支撑柱111；模糊区域130，在光罩制程中由两次光罩曝光在基板110上形成的交叠区域；多个支撑柱，设于基板上；支撑柱111包括第一支撑柱112和第二支撑柱113；第一支撑柱112由第一次曝光制成；第二支撑柱113由第二次曝光制成；模糊区域130设有多排支撑柱111，每一排的第一支撑柱112和第二支撑柱113交替排列，模糊区域130里的支撑柱111的间隔尺寸范围为1微米至3微米，模糊区域130的形状包括长条形状。

在拼图时形成的高度差异大，造成显示不均，本申请提供了在模糊区域130内交错排列设有第一支撑柱112和第二支撑柱113，中和了二者高度差异，降低了支撑柱111的高度差，解决了因为两次曝光在进行拼图时而造成第一支撑柱112与第二支撑柱113的高度差异,使其提高显示画质。

如图5所示，作为本实用新型的另一实施例，公开了一种显示面板的制作方法。方法包括：

S51：通过第一光罩制程在基板上形成第一支撑柱，如图6所示；

S52：通过第二光罩制程在基板上形成第二支撑柱，如图7所示；

第一光罩和第二光罩对应基板曝光重叠形成模糊区域；模糊区域内的第一支撑柱和第二支撑柱交错排列。

如图1至8所示，作为本实用新型的另一实施例，公开了一种显示装置200。包括上述的显示面板100。

需要说明的是，本方案中涉及到的各步骤的限定，在不影响具体方案实施的前提下，并不认定为对步骤先后顺序做出限定，写在前面的步骤可以是在先执行的，也可以是在后执行的，甚至也可以是同时执行的，只要能实施本方案，都应当视为属于本实用新型的保护范围。

本实用新型的技术方案可以广泛用于各种显示面板，如扭曲向列型(TwistedNematic，TN)显示面板、平面转换型(In-Plane Switching，IPS)显示面板、垂直配向型(Vertical Alignment，VA)显示面板、多象限垂直配向型(Multi-Domain VerticalAlignment，MVA)显示面板，当然，也可以是其他类型的显示面板，如有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板，均可适用上述方案。

以上内容是结合具体的可选的实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

模糊区域，在光罩制程中由两次光罩曝光在所述基板上形成的交叠区域；

多个支撑柱，设于所述基板上；所述支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱；

所述第一支撑柱由第一次曝光制成；所述第二支撑柱由第二次曝光制成；

所述模糊区域内的所述第一支撑柱和所述第二支撑柱交错排列。

2.如权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述模糊区域的形状为长条形状。

3.如权利要求2所述的一种显示面板，其特征在于，所述模糊区域设有多排所述支撑柱，每一排的所述支撑柱包括所述第一支撑柱和所述第二支撑柱。

4.如权利要求3所述的一种显示面板，其特征在于，每一排的所述第一支撑柱和所述第二支撑柱交替排列。

5.如权利要求3所述的一种显示面板，其特征在于，每一排的所述第一支撑柱每两个为一组，所述第二支撑柱每两个为一组，每一组的所述第一支撑柱与每一组的所述第二支撑柱交替排列。

6.如权利要求3所述的一种显示面板，其特征在于，相邻两列所述支撑柱错位设置。

7.如权利要求2所述的一种显示面板，其特征在于，所述模糊区域设有多排所述支撑柱，相邻两排的所述支撑柱不同，同一排的所述支撑柱相同。

8.如权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述模糊区域里的所述支撑柱的间隔尺寸范围为1微米至3微米。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板；

模糊区域，在光罩制程中由两次光罩曝光在所述基板上形成的交叠区域，

多个支撑柱，设于所述基板上；所述支撑柱包括第一支撑柱和第二支撑柱；

所述第一支撑柱由第一次曝光制成；所述第二支撑柱由第二次曝光制成；

所述模糊区域设有多排所述支撑柱，每一排的所述第一支撑柱和所述第二支撑柱交替排列，所述模糊区域里的所述支撑柱的间隔尺寸范围为1微米至3微米，所述模糊区域的形状为长条形状。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求的1至9任意一项所述的显示面板。