CN209471942U - 一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具 - Google Patents
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Abstract
一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，属于蚀刻装置周转治具领域。包括挡板、底板、支撑板、可视孔、排出管和集液槽；所述底板上焊接多个挡板，相邻两个挡板的边缘焊接固定，底板与多个挡板构成箱体，挡板上设置有可视孔，底板下部设有与箱体连通的排出管；箱体内顶部设有支撑板，支撑板上设有多个漏孔，支撑板下方为集液槽，集液槽底部有溢流孔。本实用新型的有益效果是降低了直插式组件运输过程中的损坏风险，排除了人工搬运的滑落风险，同时对流出的酸碱成分进行收集，避免腐蚀情况的发生。
Description
技术领域
本实用新型涉及蚀刻装置周转治具领域，尤其涉及一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具。
背景技术
目前在对半导体设备蚀刻装置直插式组件再生工艺中，需要将直插式组件从酸碱浸泡房间搬运到纯水溢流房间对组件进行溢流，以便更彻底的去除组件上的残余酸碱成分，由于组件的材质采用铝、不锈钢或者陶瓷并且结构复杂，所以经过酸碱浸泡后容易残留有的酸碱成分，因此在搬运组件的过程中容易有酸碱成分的流出，易造成工伤，也容易导致地面被酸碱腐蚀，并且直插式组件重量较重，如果不注意容易将直插式组件从手中滑落，从而造成直插式组件的损坏。
实用新型内容
为解决现有导体设备蚀刻装置直插式组件再生工艺中人工搬运直插式组件容易有酸碱成分的流出导致工伤或腐蚀情况以及人工搬运易滑落的问题，本实用新型提供了一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，包括挡板、底板、支撑板、可视孔、排出管和集液槽；所述底板上焊接多个挡板，相邻两个挡板的边缘焊接固定，底板与多个挡板构成箱体，挡板上设置有可视孔，底板下部设有与箱体连通的排出管；箱体内顶部设有支撑板，支撑板上设有多个漏孔，支撑板下方为集液槽，集液槽底部有溢流孔。
进一步的，所述集液槽由多个梯形的集液板构成，集液板一侧焊接在挡板上，相邻的集液板边缘焊接固定。
进一步的，所述可视孔为挡板上的矩形通孔。
进一步的，所述挡板分为板A和板B，板A的内壁上焊接有多个三棱柱形的支撑架，多个支撑架的顶面位于同一水平面，支撑板放置在多个支撑架上。
进一步的，所述排出管上设置有阀门。
进一步的，所述箱体底面设置有支脚，支脚上安装有周转轮。
进一步的，所述溢流孔的高度位于可视孔的最高边缘与最低边缘之间。
本实用新型的有益效果是：降低了直插式组件运输过程中的损坏风险，排除了人工搬运的滑落风险，同时对流出的酸碱成分进行收集，避免腐蚀情况的发生。
附图说明
图1为本实用新型的主视图；
图2为本实用新型主视方向的剖视图；
图3为本实用新型左视方向的剖视图；
图4为本实用新型的俯视图；
图5为本实用新型的结构示意图A；
图6为本实用新型的结构示意图B。
图中1.挡板，2.底板，3.支撑板，4.可视孔，5.排出管，6.集液槽，7.支撑架，8.周转轮。
具体实施方式
一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，包括挡板1、底板2、支撑板3、可视孔4、排出管5和集液槽6；所述底板2上焊接多个挡板1，相邻两个挡板1的边缘焊接固定，底板2与多个挡板1构成箱体，挡板1上设置有可视孔4，底板2下部设有与箱体连通的排出管5；箱体内顶部设有支撑板3，支撑板3上设有多个漏孔，支撑板3下方为集液槽6，集液槽6底部有溢流孔；优选的挡板1的数量为4个。
所述集液槽6由多个梯形的集液板构成，集液板一侧焊接在挡板1上，相邻的集液板边缘焊接固定；优选的集液板的数量为4个。
所述可视孔4为挡板1上的矩形通孔。
所述挡板1分为板A和板B，板A的内壁上焊接有多个三棱柱形的支撑架7，多个支撑架7的顶面位于同一水平面，支撑板3放置在多个支撑架7上；挡板可以采用板A和板B，也可以全部采用板A。
所述排出管5上设置有开关阀门。
所述箱体底面设置有支脚，支脚上安装有周转轮8，优选的周转轮8采用万向轮。
所述溢流孔的高度位于可视孔4的最高边缘与最低边缘之间。
使用时操作者戴有防酸碱手套，推动挡板1使本实施例运动至酸碱槽旁边，将直插式组件取出放置在支撑板3上，酸碱液通过漏孔滴入集液槽6，集液槽6的侧面带有斜度，酸碱液从溢流孔滑出落入存储槽中，存储槽为可视孔4下方由挡板1和底板2组成的箱体的一部分，之后推动挡板1使本实施例运动至纯水溢流房间的溢流槽旁，将直插式组件取出放置在溢流槽内；使用过程中，由于支撑板3位于箱体内，所以挡板1高出支撑板3的部位可以防止直插式组件掉落，此外还可以通过可视孔4随时观察存储槽内的情况，存储槽内的酸碱液可以通过开启阀门从排出管5排出；优选的半导体设备蚀刻装置为金属蚀刻机。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，包括挡板(1)、底板(2)、支撑板(3)、可视孔(4)、排出管(5)和集液槽(6)；所述底板(2)上焊接多个挡板(1)，相邻两个挡板(1)的边缘焊接固定，底板(2)与多个挡板(1)构成箱体，挡板(1)上设置有可视孔(4)，底板(2)下部设有与箱体连通的排出管(5)；箱体内顶部设有支撑板(3)，支撑板(3)上设有多个漏孔，支撑板(3)下方为集液槽(6)，集液槽(6)底部有溢流孔。
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述集液槽(6)由多个梯形的集液板构成，集液板一侧焊接在挡板(1)上，相邻的集液板边缘焊接固定。
3.根据权利要求1所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述可视孔(4)为挡板(1)上的矩形通孔。
4.根据权利要求1所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述挡板(1)分为板A和板B，板A的内壁上焊接有多个三棱柱形的支撑架(7)，多个支撑架(7)的顶面位于同一水平面，支撑板(3)放置在多个支撑架(7)上。
5.根据权利要求1所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述排出管(5)上设置有阀门。
6.根据权利要求1所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述箱体底面设置有支脚，支脚上安装有周转轮(8)。
7.根据权利要求3所述的一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具，其特征在于，所述溢流孔的高度位于可视孔(4)的最高边缘与最低边缘之间。
Priority Applications (1)
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| CN201920539981.5U CN209471942U (zh) | 2019-04-19 | 2019-04-19 | 一种半导体设备蚀刻装置直插式组件周转治具 |
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Publications (1)
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2019
- 2019-04-19 CN CN201920539981.5U patent/CN209471942U/zh active Active
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