CN209465827U - 带磨平装置的激光刻蚀机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种带磨平装置的激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F‑θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F‑θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，其特征在于：还包括磨平装置，磨平装置安装在XY轴二维运动平台上。本实用新型带磨平装置的激光刻蚀机，能使吸附平台的上表面的平面度达到设计要求，而且，吸附平台的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

Description

带磨平装置的激光刻蚀机

技术领域

本实用新型涉及一种激光刻蚀设备，特别是带磨平装置的激光刻蚀机。

背景技术

激光刻蚀机是用于刻蚀显示触摸屏ITO薄膜、玻璃基底或PET基底银浆的激光设备。其光路多采用二维振镜头和F-θ透镜组组合，二维振镜头安装在机架、升降机构或XY轴二维运动平台上，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部，被刻蚀的ITO薄膜或银浆薄膜放置在F-θ透镜下方的工作台上，工作台是一个吸附平台。为了使激光刻蚀的图形精确而不变形，就要求吸附平台的上表面的平面度在一定的精度范围内，并且要求吸附平台的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

由于吸附平台的上表面有很多个小的吸气孔（直径多为1mm以下），考虑到吸附平台对激光的吸收性和吸附平台材料的加工工艺，吸附平台上部的材料多为非金属材料的合成材料，而且，吸附平台的尺寸也越来越大（已有生产商提供上表面长和宽尺寸超过2500mm和1800mm的吸附平台），吸附平台在加工完成到安装至激光刻蚀机的机架上后，由于材料变形和受力情况的变化，吸附平台的上表面的平面度很难以达到设计要求（例如，要求吸附平台上表面的平面度在0.1mm的范围内），并且，吸附平台的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行的调试困难。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种带磨平装置的激光刻蚀机，此带磨平装置的激光刻蚀机能使吸附平台的上表面的平面度达到设计要求，而且，能确保吸附平台的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

为了达到上述目的，本实用新型的带磨平装置的激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F-θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，其特征在于：还包括磨平装置，磨平装置安装在XY轴二维运动平台上。

因为本实用新型的带磨平装置的激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F-θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统、计算机系统和磨平装置，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，磨平装置安装在XY轴二维运动平台上，如果吸附平台在加工完成到安装到激光刻蚀机的机架上后，由于材料变形和受力情况的变化，吸附平台的上表面的平面度达不到设计要求，这时可以使用安装在XY轴二维运动平台上磨平装置对吸附平台的上表面进行磨削加工，因为，磨削加工是在吸附平台安装完成后进行的，磨削后的吸附平台不会有受力情况的变化，也就不会产生变形，这样既能够使吸附平台的上表面的平面度达到设计要求；而且，磨平装置是安装在XY轴二维运动平台上的，随XY轴二维运动平台运动的磨平装置磨削出的吸附平台上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

磨平装置对吸附平台的上表面进行磨削加工时，XY轴二维运动平台带动磨平装置沿吸附平台的长和宽两个方向来回运动，磨平装置对吸附平台的上表面进行接触磨削，直到吸附平台的上表面的最低处被磨削到为止。

所述的带磨平装置的激光刻蚀机，其特征在于：磨平装置由电动机、砂轮和固定架组成，电动机安装在固定架上，砂轮安装在电动机的输出轴上，磨平装置的固定架安装在XY轴二维运动平台上。

所述的带磨平装置的激光刻蚀机，其特征在于：还包括冷却系统，冷却系统由油泵、喷嘴和集液槽组成，喷嘴的出口朝向磨平装置与吸附平台的接触处，集液槽安装在吸附平台的四周的下方。这样，在磨削吸附平台过程中产生的热量就被冷却液带走，以避免磨削过程产生的热量大而使吸附平台变形。

本实用新型带磨平装置的激光刻蚀机，能使吸附平台的上表面的平面度达到设计要求，而且，吸附平台的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

附图说明

图1是本实用新型实施例的结构示意图；

图2是图1自侧后方看的结构示意图。

具体实施方式

图1标记的说明：机架1，Y轴运动平台2，吸附平台3，F-θ透镜组4，二维振镜头5，激光器的激光头6，运动滑板7，磨平装置8，X轴运动平台9。

图2标记的说明：砂轮10，喷嘴11，固定架12，电动机13，集液槽14。

参见图1，本实用新型的带磨平装置的激光刻蚀机的实施例包括机架1、激光器、二维振镜头5、F-θ透镜组4、XY轴二维运动平台、吸附平台3、控制系统、计算机系统和磨平装置8，XY轴二维运动平台、吸附平台3、控制系统和计算机系统都安装在机架1上，激光器的激光头6、二维振镜头5和F-θ透镜组4安装在XY轴二维运动平台上，磨平装置8安装在XY轴二维运动平台上，XY轴二维运动平台由两个相互垂直的运动平台Y轴运动平台2和X轴运动平台9组成，磨平装置8是通过运动滑板7安装在XY轴二维运动平台上的。

因为本实用新型的带磨平装置的激光刻蚀机的实施例包括机架1、激光器、二维振镜头5、F-θ透镜组4、XY轴二维运动平台、吸附平台3、控制系统、计算机系统和磨平装置8，XY轴二维运动平台、吸附平台3、控制系统和计算机系统都安装在机架1上，激光器的激光头6、二维振镜头5和F-θ透镜组4安装在XY轴二维运动平台上，磨平装置8安装在XY轴二维运动平台上，如果吸附平台3在加工完成到安装到激光刻蚀机的机架1上后，由于材料变形和受力情况的变化，吸附平台3的上表面的平面度达不到设计要求，这时可以使用安装在XY轴二维运动平台上磨平装置8对吸附平台3的上表面进行磨削加工，因为，磨削加工是在吸附平台3安装完成后进行的，磨削后的吸附平台3不会有受力情况的变化，也就不会产生变形，这样既能够使吸附平台3的上表面的平面度达到设计要求；而且，磨平装置8是安装在XY轴二维运动平台上的，随XY轴二维运动平台运动的磨平装置8磨削出的吸附平台3上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。

磨平装置8对吸附平台3的上表面进行磨削加工时，XY轴二维运动平台带动磨平装置8沿吸附平台3的长和宽两个方向来回运动，磨平装置8对吸附平台3的上表面进行接触磨削，直到吸附平台3的上表面的最低处被磨削到为止。

参见图2，磨平装置8由电动机13、砂轮10和固定架12组成，电动机13安装在固定架12上，砂轮10安装在电动机13的输出轴上，磨平装置8的固定架12安装在XY轴二维运动平台上，XY轴二维运动平台由两个相互垂直的运动平台Y轴运动平台2和X轴运动平台9组成，磨平装置8是通过运动滑板7安装在XY轴二维运动平台上的。

实施例中，设置了冷却系统，冷却系统由油泵、喷嘴11和集液槽14组成，喷嘴11的出口朝向磨平装置8与吸附平台3的接触处，集液槽14安装在吸附平台3的四周的下方。这样，在磨削吸附平台3过程中产生的热量就被冷却液带走，以避免磨削过程产生的热量大而使吸附平台3变形。

磨平装置8和冷却系统在加工完了吸附平台3的上表面后就失去了作用，便可以将其拆卸下来，以减轻XY轴二维运动平台运行载荷，当然将其保留不拆卸下来。如果在激光刻蚀机的使用过程中吸附平台3损坏而需要更换，有了磨平装置8和冷却系统，吸附平台3的安装调试就方便得多。

本实用新型带磨平装置的激光刻蚀机，能使吸附平台3的上表面的平面度达到设计要求，而且，吸附平台3的上表面与XY轴二维运动平台的运动平面平行。它的推广运用，对提高激光刻蚀机的产品质量及其生产效率有着积极的意义。

Claims (3)

1.带磨平装置的激光刻蚀机，包括机架、激光器、二维振镜头、F-θ透镜组、XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统，XY轴二维运动平台、吸附平台、控制系统和计算机系统都安装在机架上，激光器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在XY轴二维运动平台上，其特征在于：还包括磨平装置，磨平装置安装在XY轴二维运动平台上。

2.根据权利要求1所述的带磨平装置的激光刻蚀机，其特征在于：磨平装置由电动机、砂轮和固定架组成，电动机安装在固定架上，砂轮安装在电动机的输出轴上，磨平装置的固定架安装在XY轴二维运动平台上。

3.根据权利要求1所述的带磨平装置的激光刻蚀机，其特征在于：还包括冷却系统，冷却系统由油泵、喷嘴和集液槽组成，喷嘴的出口朝向磨平装置与吸附平台的接触处，集液槽安装在吸附平台的四周的下方。