CN209352771U - 用于压延机的唇砖组件和供料装置 - Google Patents

Abstract

提供了一种用于压延机的唇砖组件和供料装置。该唇砖组件包括：唇砖基体，与压延机的上压延辊和下压延辊平行地布置，并具有下表面、用于限定流体通道并与下表面相对的上表面以及将上表面和下表面彼此连接的侧表面；以及加热板，设置在唇砖基体的上表面处并靠近上压延辊与下压延辊之间的间隙。

Description

用于压延机的唇砖组件和供料装置

技术领域

本实用新型涉及熔融物料的压延成型，尤其涉及一种用于压延机的唇砖组件和供料装置。

背景技术

现今，压延技术在工业上已经得到广泛应用。所谓的“压延”可以是这样一种工艺：经加热的高温流料经由压延口通过压延机的相对旋转、水平设置的多个辊筒之间的辊隙，制成板材等半成品(压延品)。辊筒(压延辊)的外表面形状决定了压延品的形状，因此可根据期望的压延品的形状设计压延辊的外表面形状。可将在炼钢、炼铁等过程中产生的废弃矿渣在窑炉中进行高温熔融而形成高温流料，这样可有效利用矿渣等工业废弃物。

在玻璃压延工艺中，玻璃液与供料装置之间存在温度差异，且玻璃液的温度沿朝向压延辊的方向逐渐降低，这会造成其在供料装置处出现析晶的问题。例如，在供料装置的靠近压延辊的部分处(诸如，唇砖处)易出现析晶。析晶会影响压延工艺的实施和产品质量。在使用压延法来成型微晶玻璃或微晶石材的情况下，由于微晶玻璃或微晶石材比普通玻璃的析晶上限高、料性短，更容易造成析晶。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种防止或减少熔融物料的析晶的用于压延机的唇砖组件和供料装置。

本实用新型的目的在于提供一种保证压延工艺的顺利实施并改善产品品质的用于压延机的唇砖组件和供料装置。

压延机可以包括上压延辊和下压延辊，上压延辊与下压延辊平行且分开地布置以用于接收通过流体通道供应到上压延辊与下压延辊之间的间隙的熔融物料并将熔融物料压延成固态的产品，所述唇砖组件在熔融物料流动的方向上设置在上压延辊与下压延辊的上游以用于向上压延辊与下压延辊之间的间隙供应熔融物料。根据本实用新型的唇砖组件可以包括：唇砖基体，与上压延辊和下压延辊的轴向平行地布置并在与所述轴向平行的方向上具有第一长度，唇砖基体具有下表面、用于限定流体通道并与下表面相对的上表面以及将上表面和下表面彼此连接的侧表面；以及加热板，设置在唇砖基体的上表面处并靠近上压延辊与下压延辊之间的间隙。

唇砖基体可以包括：唇砖主体部，具有从靠近下压延辊的一侧到远离下压延辊的一侧的第一宽度；唇砖突出部，位于唇砖主体部与下压延辊之间，并从唇砖主体部的靠近下压延辊的一侧向下压延辊延伸以与下压延辊的侧表面的形状相匹配，其中，唇砖突出部具有从靠近下压延辊的一侧到远离下压延辊的一侧的第二宽度。在唇砖基体的上表面处可以具有凹进，凹进从唇砖突出部的靠近下压延辊的一侧朝向唇砖主体部的远离压延辊的一侧延伸，其中，凹进具有在与所述轴向平行的方向上的第二长度，并具有在从唇砖突出部的靠近下压延辊的一侧朝向唇砖主体部的远离压延辊的一侧的方向上的第三宽度，其中，加热板设置在凹进中。

第二长度可以等于第一长度。

第三宽度可以小于第二宽度。

第三宽度可以等于第二宽度。

第三宽度可以大于第二宽度且小于第一宽度与第二宽度的总和。

凹进可以从唇砖突出部的上表面延伸到唇砖主体部的上表面的至少一部分处。

设置在凹进中的加热板的上表面可以与唇砖基体的除了凹进之外的部分的上表面处于同一水平处。

唇砖基体可以包括：唇砖主体部；唇砖突出部，位于唇砖主体部与压延机之间，并从唇砖主体部的一侧向下压延辊延伸以与下压延辊的侧表面的形状相匹配。唇砖主体部的上表面与唇砖突出部的上表面可以处于同一水平处，加热板可以至少设置在唇砖突出部的上表面上。

加热板可以是金属板。

根据本实用新型的用于压延机的供料装置可以包括：上述的唇砖组件，其中，唇砖组件在上压延辊和下压延辊的轴向上具有第一端和第二端；以及第一挡边砖和第二挡边砖，用于与唇砖组件一起限定流体通道，第一挡边砖设置在唇砖组件的第一端上，第一挡边砖具有限定流体通道的内侧，第二挡边砖设置在唇砖组件的第二端上，第二挡边砖具有限定的流体通道的内侧。

第一挡边砖和第二挡边砖的内侧上可以分别设置有加热板。

根据本实用新型的用于压延机的唇砖组件和供料装置可防止或减少熔融物料的析晶。

附图说明

通过结合附图，从下面的实施例的描述中，本实用新型的这些和/或其他方面及优点将会变得清楚，并且更易于理解，其中：

图1是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的唇砖组件和供料装置沿着熔融物料的流动方向截取的示意性剖视图；

图2是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的唇砖组件的平面图；以及

图3是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的包括唇砖组件的供料装置沿着垂直于熔融物料的流动方向的方向截取的剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图来详细描述本实用新型的实施例。

图1是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的唇砖组件和供料装置沿着熔融物料的流动方向截取的示意性剖视图。图2是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的唇砖组件的平面图。图3是示出根据本实用新型示例性实施例的用于压延机的包括唇砖组件的供料装置沿着垂直于熔融物料的流动方向的方向截取的剖视图。

参照图1，根据本实用新型示例性实施例的用于压延机300的唇砖组件100包括唇砖基体和位于唇砖基体上表面上的加热板130，并且唇砖基体可包括唇砖主体部110和唇砖突出部120。另外，虽然图1中未示出，但在唇砖基体的上表面(即，唇砖主体部110和唇砖突出部120的上表面)上还可以设置随后将描述的挡边砖(参见图3中的210和220)，以共同限定流体通道。

压延机300相对于唇砖组件100设置在沿着熔融物料M的流动方向上的下游。压延机300包括上压延辊310和与上压延辊310平行且分开地布置在上压延辊310下方的下压延辊320。

上压延辊310和下压延辊320中的至少一个可包括冷却装置，使得熔融物料M在经过上压延辊310和下压延辊320之间的间隙的同时被压延成型为基本固态的产品P。上压延辊310和下压延辊320中的每个可包括各自的冷却装置。

上压延辊310和下压延辊320可具有基本相同的形状和尺寸，如图1所示。然而，本实用新型不限于此。上压延辊和下压延辊可具有不同的形状和尺寸。将上压延辊310和下压延辊320的轴心连接的线可与竖直方向成一定角度，即，上压延辊310可以相对于下压延辊320的正上方在水平方向上偏移。然而，本实用新型不限于此。将上压延辊310和下压延辊320的轴心连接的线可与竖直方向平行，即，上压延辊310可以设置在下压延辊320的正上方。

支撑装置400可设置在上压延辊310与下压延辊320之间的间隙的下游，以用于接收并传送基本固态的产品P。支撑装置400还可以进一步冷却基本固态的产品P。支撑装置400可以是托板水箱或辊单元。

参照图1至图3，在平面图(俯视图)中观看时，唇砖组件100可具有大体上长方形形状。唇砖组件100可以沿着上压延辊310和下压延辊320的轴向从上压延辊310和下压延辊320的一端延伸到上压延辊310和下压延辊320的另一端，即，平行于上压延辊310和下压延辊320延伸。唇砖组件100的长度(即，在与上压延辊310和下压延辊320的轴向平行的方向上的长度)可大于其高度(或厚度)和宽度。

唇砖组件100的唇砖基体可包括唇砖主体部110和唇砖突出部120。唇砖突出部120相对于唇砖主体部110更靠近下压延辊320。换言之，唇砖突出部120可以从唇砖主体部110的一侧向下压延辊320延伸。另外，唇砖突出部120的面对下压延辊320的侧表面可以与下压延辊320的侧表面的形状相匹配，即，唇砖突出部120的面对下压延辊320的侧表面可以是与下压延辊320的侧表面相匹配的曲面。如图1中所示，可以通过假想线K来将唇砖组件100划分唇砖主体部110和唇砖突出部120。

唇砖主体部110可具有大体上长方体的形状，并具有上表面、下表面、靠近下压延辊320的一侧和远离下压延辊320的另一侧。唇砖主体部110的上表面和下表面可具有相同的面积。

唇砖突出部120可以具有上表面、下表面以及将上表面和下表面连接并面对下压延辊320的侧表面。唇砖突出部120可具有大体上楔形的形状。如上所述，唇砖突出部120的侧表面可与下压延辊320的侧表面相匹配，即，唇砖突出部120的侧表面可以是曲面。

在根据本实用新型的示例性实施例中，为了解决上述在压延工艺中出现的析晶问题，唇砖组件100还包括位于唇砖基体的上表面上的加热板130。具体地，在根据本实用新型的实施例中，唇砖基体的上表面可以具有凹进，并且加热板130可以设置在凹进中。

如图1至图3中所示，在唇砖突出部120的上表面中的与压延机300相邻的一部分中可以具有凹进，即，唇砖突出部120的上表面的所述一部分与其它部分可以处于不同的水平处。

具体地，如图1和图2中所示，凹进可以沿与压延辊的轴向平行的方向(即，唇砖组件的长度方向)从唇砖突出部120的一端延伸到另一端。换言之，凹进可以具有与唇砖组件的长度相同的长度。在这种情况下，当加热板130设置在凹进中时，可以通过在加热板130的位于唇砖突出部120的长度方向上的两端施加电压而使电流流过，使得加热板130发热，以控制位于唇砖突出部120处的熔融物料M的温度。

此外，凹进可以从唇砖基体的靠近压延辊的一侧朝向唇砖基体的远离压延辊的一侧延伸。具体地，凹进可以从唇砖突出部120的与压延辊相邻的一侧朝向唇砖突出部120的远离压延辊的一侧延伸。即，凹进的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，凹进的宽度)可以小于唇砖突出部120的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，唇砖突出部120的宽度)。在这种情况下，加热板130可以位于唇砖突出部120的上表面的一部分处。换言之，加热板130可以嵌入唇砖突出部120的上表面的一部分中。

在这种情况下，加热板130的上表面、唇砖突出部120的除了凹进之外的其它部分的上表面以及唇砖主体部110的上表面可以处于同一水平处，即，加热板130的上表面、唇砖突出部120的除了凹进之外的其它部分的上表面以及唇砖主体部110的上表面可以共同构成唇砖组件100的平坦的上表面。

然而，根据本实用新型的实施例不限于此。例如，凹进可以位于唇砖突出部120的整个上表面处，即，唇砖突出部120的整个上表面与唇砖主体部110的上表面可以处于不同的水平处。具体地，凹进的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，凹进的宽度)可以等于唇砖突出部120的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，唇砖突出部120的宽度)。在这种情况下，加热板130可以位于唇砖突出部120的整个上表面处。换言之，加热板130可以嵌入唇砖突出部120的整个上表面中。

在这种情况下，加热板130的上表面与唇砖主体部110的上表面可以处于同一水平处，即，加热板130的上表面与唇砖主体部110的上表面可以共同构成唇砖组件100的平坦的上表面。

然而，根据本实用新型的实施例不限于此。例如，位于唇砖突出部120的上表面处的凹进还可以进一步延伸到唇砖主体部110的上表面的一部分。在这种情况，凹进的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，凹进的宽度)可以大于唇砖突出部120的从靠近压延辊的一侧到远离压延辊的一侧的距离(即，唇砖突出部120的宽度)。在这种情况下，加热板130可以设置在位于唇砖基体的上表面上的凹进中，即，设置在位于唇砖主体部110的上表面的一部分和唇砖突出部120的整个上表面处的凹进中。

在这种情况下，加热板130的上表面以及唇砖主体部110的除了凹进之外的其它部分的上表面可以处于同一水平处，即，加热板130的上表面以及唇砖主体部110的除了凹进之外的其它部分的上表面可以共同构成唇砖组件100的平坦的上表面。

在根据本实用新型的实施例中，当加热板130设置在唇砖基体上表面的凹进中时，不论凹进的形成位置如何，加热板130的上表面可以与唇砖基体的上表面(除凹进之外的上表面)处于同一水平处。然而，根据本实用新型的示例性实施例不限于此，例如，加热板130的上表面与唇砖基体的上表面(除凹进之外的上表面)可以位于不同的水平处。

另外，虽然未示出，但唇砖基体的上表面可以不具有凹进，即，唇砖主体部110与唇砖突出部120的上表面可以处于相同的水平处。在这种情况下，加热板130可以设置在唇砖基体的上表面上，例如，唇砖突出部120的一部分上表面上，或唇砖突出部120的整个上表面上，或唇砖突出部120的整个上表面和唇砖主体部110的一部分上表面上，或唇砖突出部120的一部分上表面和唇砖主体部110的一部分上表面上，或唇砖基体的整个上表面上。

在根据本实用新型的实施例中，加热板130可以是金属板。所述金属板适于通过在其中流过电流而发热。在压延工艺中，可以通过对加热板130施加电压而使电流流过加热板130进而发热，来控制在唇砖组件100处的熔融物料M温度，从而防止或减少析晶。

参照图1和图2，加热板130设置在唇砖组件100的在熔融物料M流动方向上的最靠近压延机300的一端。也就是说，加热板130设置在唇砖突出部120的上表面的最靠近压延机300的一部分处，加热板130的端部构成唇砖组件100的端部。然而，本实用新型不限于此。加热板130可以设置在唇砖突出部120的上表面的并非最靠近压延机300的一部分处，在加热板130和上压延辊310和下压延辊320之间的间隙之间留有唇砖突出部120的一部分，只要加热板130设置在唇砖突出部120的至少一部分上表面处即可。

加热板130的厚度不受具体限制。加热板130的厚度可以是唇砖突出部120的厚度的2％至50％。

如图3中所示，包括唇砖组件100的供料装置还可以包括挡边砖200。挡边砖200可以包括分别设置在唇砖组件100的两端上的第一挡边砖210和第二挡边砖220，所述两端是在上压延辊310和下压延辊320的轴向(即，唇砖组件100的长度方向)上的两端。第一挡边砖210和第二挡边砖220可具有相同的形状。第一挡边砖210和第二挡边砖220分别放置在唇砖组件100的两端上，从而在第一挡边砖210和第二挡边砖220之间并在唇砖组件100上方限定用于熔融物料M的流动的流体通道。

第一挡边砖210可具有限定熔融物料M的流体通道的内侧(即，与熔融物料M接触的内侧)和与内侧相反的外侧。第二挡边砖220可具有限定熔融物料M的流体通道的内侧(即，与熔融物料M接触的内侧)和与内侧相反的外侧。虽然未示出，但是还可以分别在第一挡边砖210和第二挡边砖220的与熔融物料M接触的内侧处设置加热板。

根据本实用新型的示例性实施例，通过上述唇砖组件或包括唇砖组件的供料装置，可以有效地防止或减少析晶的出现，进而可以保证压延工艺的顺利实施并改善产品品质。

虽然本实用新型是参照其示例性的实施例被具体描述和说明的，但是本领域的普通技术人员应该理解，在不脱离由权利要求限定的本实用新型的精神和范围的情况下，可以对其进行形式和细节的各种改变。

Claims (10)

1.一种用于压延机的唇砖组件，所述压延机包括上压延辊和下压延辊，上压延辊与下压延辊平行且分开地布置以用于接收通过流体通道供应到上压延辊与下压延辊之间的间隙的熔融物料并将熔融物料压延成固态的产品，所述唇砖组件在熔融物料流动的方向上设置在上压延辊与下压延辊的上游以用于向上压延辊与下压延辊之间的间隙供应熔融物料，其特征在于，所述唇砖组件包括：

唇砖基体，与上压延辊和下压延辊的轴向平行地布置并在与所述轴向平行的方向上具有第一长度，唇砖基体具有下表面、用于限定流体通道并与下表面相对的上表面以及将上表面和下表面彼此连接的侧表面；以及

加热板，设置在唇砖基体的上表面处并靠近上压延辊与下压延辊之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的唇砖组件，其特征在于，唇砖基体包括：

唇砖主体部，具有从靠近下压延辊的一侧到远离下压延辊的一侧的第一宽度；

唇砖突出部，位于唇砖主体部与下压延辊之间，并从唇砖主体部的靠近下压延辊的一侧向下压延辊延伸以与下压延辊的侧表面的形状相匹配，其中，唇砖突出部具有从靠近下压延辊的一侧到远离下压延辊的一侧的第二宽度，

其中，在唇砖基体的上表面处具有凹进，凹进从唇砖突出部的靠近下压延辊的一侧朝向唇砖主体部的远离压延辊的一侧延伸，其中，凹进具有在与所述轴向平行的方向上的第二长度，并具有在从唇砖突出部的靠近下压延辊的一侧朝向唇砖主体部的远离压延辊的一侧的方向上的第三宽度，

其中，加热板设置在凹进中。

3.根据权利要求2所述的唇砖组件，其特征在于，第二长度等于第一长度。

4.根据权利要求2所述的唇砖组件，其特征在于，第三宽度小于第二宽度。

5.根据权利要求2所述的唇砖组件，其特征在于，第三宽度等于第二宽度。

6.根据权利要求2所述的唇砖组件，其特征在于，第三宽度大于第二宽度且小于第一宽度与第二宽度的总和。

7.根据权利要求2所述的唇砖组件，其特征在于，设置在凹进中的加热的上表面与唇砖基体的除了凹进之外的部分的上表面处于同一水平处。

8.根据权利要求1所述的唇砖组件，其特征在于，唇砖基体包括：

唇砖主体部；

唇砖突出部，位于唇砖主体部与压延机之间，并从唇砖主体部的一侧向下压延辊延伸以与下压延辊的侧表面的形状相匹配，

其中，唇砖主体部的上表面与唇砖突出部的上表面处于同一水平处，

其中，加热板至少设置在唇砖突出部的上表面上。

9.根据权利要求1所述的唇砖组件，其特征在于，加热板是金属板。

10.一种用于压延机的供料装置，其特征在于，所述供料装置包括：

根据权利要求1至权利要求9中任一项权利要求所述的用于压延机的唇砖组件，其中，唇砖组件在所述轴向方向上具有第一端和第二端；以及

第一挡边砖和第二挡边砖，用于与唇砖组件一起限定流体通道，

其中，第一挡边砖设置在唇砖组件的第一端上，第一挡边砖具有限定流体通道的内侧，

其中，第二挡边砖设置在唇砖组件的第二端上，第二挡边砖具有限定流体通道的内侧。