CN209231895U - 触控盖板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种触控盖板，包含：一遮挡层；以及一基板；其中该基板覆盖于该遮挡层，该基板与该遮挡层形成一共平面。

Description

触控盖板

技术领域

本实用新型是关于一种触控盖板。

背景技术

由于可挠性的需求，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。

然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺将纳米线层涂布在盖板上，盖板上通常先印刷出遮蔽层以定义显示区及周边区，而遮蔽层必须具有一定的厚度才能达到足够的光密度以遮蔽周边区的周边引线或电子零件。因此涂布纳米线层时就会出现爬坡的结构，由于遮蔽层的厚度对于纳米线层而言相当厚实，使得纳米线层印刷烘烤后具有大角度的坡度角(TaperAngle)，因而导致纳米线层在爬坡时容易产生裂痕、缺陷甚至断裂，使产品可靠度下降；在上述传统结构中，触控感应电极与周边引线的电阻差异在15％-20％之间，故电极的电特性差异大，产品特性(如触控灵敏度)也未能符合需求。另一方面，大角度的坡度角对于纳米线层的图案化步骤所需的光阻造成黄光工艺难以控制的问题。

另外，由于传统结构是将遮蔽层印刷于盖板上，两者之间的结合强度不足，因此无法满足可挠性的需求。传统结构的触控面板无法通过弯折半径为R2.5条件下100000次的弯折测试。

因此必须重新设计可解决上述问题的方案。

实用新型内容

本实用新型的部分实施方式，可制作具有内嵌式的遮挡层的触控盖板，且将触控盖板应用于触控面板，可以解决因爬坡所造成的断线问题，并可藉由本实用新型实施例的触控盖板制作出具有高均一性的电特性与光学特性的电极。

本实用新型的部分实施方式提出一种触控盖板，包含：一遮挡层；以及一基板；其中该基板覆盖于该遮挡层，该基板与该遮挡层形成一共平面。

于本实用新型的部分实施方式中，基板整体地覆盖于该遮挡层并填充于该遮挡层所界定的一空间中。

于本实用新型的部分实施方式中，遮挡层包括一第一遮挡层与一第二遮挡层。

于本实用新型的部分实施方式中，遮挡层包括一第一遮挡层、一第二遮挡层与一第三遮挡层。

根据本实用新型的部分实施方式，第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层形成阶梯状遮挡结构。

于本实用新型的部分实施方式中，第一遮挡层及该第三遮挡层具有一第一图样，该第二遮挡层具有一第二图样，该第二图样不同于该第一图样。

于本实用新型的部分实施方式中，该第一遮挡层与该第二遮挡层的迭合区域与仅具有该第一遮挡层的区域之间的色容差值是介于1.3至12之间。

于本实用新型的部分实施方式中，该触控盖板具有相对于该共平面的一第二表面，该第三遮挡层为该第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层中最接近该第二表面，该第一遮挡层与该基板形成该共平面，该第三遮挡层为该第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层中具有最长的宽度，而该第二遮挡层的宽度与该第一遮挡层的宽度则依序递减。

于本实用新型的部分实施方式中，遮挡层包括一镂空部。

于本实用新型的部分实施方式中，该共平面是由一载板上通过离型作业所制作。

附图说明

图1为根据本实用新型实施方式的触控盖板的制作方法的第一步骤示意图。

图1A为沿图1的线A-A的剖面示意图。

图2为根据本实用新型实施方式的触控盖板的制作方法的第二步骤示意图。

图2A为沿图2的线A-A的剖面示意图。

图3为根据本实用新型实施方式的触控盖板的示意图。

图3A为沿图3的线A-A的剖面示意图。

图4A为根据本实用新型另一实施方式的触控盖板的示意图。

图4B为根据本实用新型再一实施方式的触控盖板的示意图。

图4C为根据本实用新型又一实施方式的触控盖板的示意图。

图4D为根据本实用新型再另一实施方式的触控盖板的示意图。

图5为根据本实用新型实施方式的触控面板的示意图。

图6A至图6F为根据本实用新型实施方式的触控面板的制作方法的示意图。

图7A至图7B为根据本实用新型另一实施方式的触控面板的制作方法的示意图。

图8为本实用新型另一实施方式的触控面板的示意图。

图8A为沿图8的线A-A的剖面示意图。

图8B为沿图8的线B-B的剖面示意图。

图9为本实用新型又一实施方式的触控面板的示意图。

图10为本实用新型实施例的盖板的母材的示意图。

其中，附图标记

10：载板 TE：触控感应电极

110：基板 D1：第一方向

110A：第一表面 D2：第二方向

110B：第二表面 140A：金属纳米线层

120：周边线路 130A：保留区

122：第一曝光侧面 130B：去除区

TE1：第一触控感应电极 BM：遮挡层

TE2：第二触控感应电极 BM1：第一遮挡层

CE：连接电极 BM2：第二遮挡层

136：非导电区域 BM3：第三遮挡层

140：金属纳米线 BS：空间

150：金属层 B10：第一基板

160：镂空部 L10：第一离型层

20：可挠性触控感测组件 B20：第二基板

VA：显示区 L20：第二离型层

PA：周边区 162：桥接导线

164：绝缘块

具体实施方式

以下将以图式揭露本实用新型的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说，在本实用新型部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。

关于本文中所使用的「约」、「大约」或「大致」，一般是指数值的误差或范围于百分之二十以内，较好地是于百分之十以内，更佳地是于百分之五以内。文中若无明确说明，所提及的数值皆视为近似值，即具有如「约」、「大约」或「大致」所表示的误差或范围。另外，本文所使用的「金属纳米线」与「金属纳米线层」为相同或相似的元件，下文中会交互使用，特此说明。

本实用新型的部分实施方式提出盖板的制作方法，其包括：提供一载板10；成型一遮挡层BM于载板10上；成型基板110于载板10上，基板110覆盖于遮挡层BM；将基板110与遮挡层BM所形成的复合结构由载板10上取下，基板110与遮挡层BM形成共平面。本实施方式的制作方法的具体工艺为：首先，参考图1与图1A，提供一载板10，并于载板10上成型遮挡层BM。载板10为用于承载，其较佳具有机械刚性，且载板10表面较佳具有低粗糙度(例如表面粗糙度Ra为约0.05μm至0.5μm)，于本实用新型的部分实施方式中，可选用钢带、钢板或环烯烃聚合物(Cyclo olefin polymer；COP)制作载板10。于本实用新型的部分实施方式中，可利用印刷，如网印、棒式涂布(Bar coating)、微凹版涂布(Micro Gravure Coating)等或黄光方式制作遮挡层BM。遮挡层BM的材料可为有色光阻、油墨或其组合，其可以掺杂染料而具有特定颜色，较佳地，上述材料具有可变形或可流动的特性，且可经照光或加热而固化；换言之，将遮挡层BM的材料印刷于载板10后，可采用曝光方式将遮挡层BM的材料固化，例如照射UV光；或者采用加热方式将遮挡层BM的材料固化，例如以加热板或高温炉予以加热。于本实用新型的部分实施方式中，遮挡层BM可选用光密度(optical density；OD)较高的材料(例如光密度大于等于4.0，即透光性较低)，可包括油墨、光阻、或其组合，例如是黑色油墨、黑色光阻、或黑色油墨与黑色光阻的组合。遮挡层BM又可称作遮光层、装饰层或遮蔽层，其可具有预定的图形，如多边形、圆形、L形、U形等等，其可用于定义后文所述的周边区PA与显示区VA。如图1与图1A所示，遮挡层BM为封闭的框状结构，其中成型有空间BS。

可藉由调整遮挡层BM的厚度来控制遮挡层BM的光密度，例如制作厚度大于等于6μm的遮挡层BM，以使遮挡层BM可符合遮挡周边金属走线或控制器等元件的效果。

接着，参考图2与图2A，将基板110成形于载板10，并覆盖遮挡层BM。于本实用新型的部分实施方式中，可以选自压克力(polymethylmethacrylate；PMMA)、聚氯乙烯(polyvinyl Chloride；PVC)、聚丙烯(polypropylene；PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、聚苯乙烯(polystyrene；PS)、CPI(colorlesspolyimide)等透明材料制作基板110。具体做法可采用涂布方法将上述材料的浆料成形于载板10，并覆盖于遮挡层BM；接着进行固化/干燥，即可形成基板110。在一实施例中，所述浆料会整体性的包覆于遮挡层BM，并填充于遮挡层BM所界定的空间BS中，也就是说，如图2A所示的剖视图，在固化之后，基板110的厚度较佳的大于遮挡层BM的厚度，以将遮挡层BM包覆于基板110中，而空间BS中会形成有基板110的第一部分，在遮挡层BM外侧则形成基板110的第二部分；藉此，基板110与遮挡层BM形成一种复合结构，其中遮挡层BM内嵌于基板110。

接着，将基板110与遮挡层BM所形成的复合结构由载板10上取下，即可制作出本实施例的盖板；在一具体作法中，可利用离型或脱模等方式将载板10与复合结构进行分离。换言之，载板10仅用于支撑、乘载上述基板110与遮挡层BM的成形步骤，其在离型之后可重复使用，以节省成本。在另一实施例中，载板10可用于保护基板110与遮挡层BM所形成的复合结构，例如在工作站台之间运送时或在进行后续组装作业之前，可藉由载板10可用于保护前述的复合结构，以免基板110与遮挡层BM受到刮伤等。

图3与图3A显示由载板10上离型后的复合结构，其即为本实施例的盖板，所述盖板是将遮挡层BM内嵌于基板110之中，并形成第一表面110A，或可称工作表面或内表面；更详细的说，当载板10离型后，遮挡层BM会形成一个裸露表面(即遮挡层BM与载板10的接触面)；相似的，基板110也形成两个裸露表面(即在遮挡层BM内，基板110的第一部分与载板10的接触面，以及在遮挡层BM外，基板110的第二部分与载板10的接触面)，三个接触面可形成共平面，其即为第一表面110A。由于第一表面110A(即共平面)是上述的离型作业所制作，故其表面粗糙度会实质的相同于或近似于载板10的表面粗糙度；换言之，本实施例的载板10优选为低表面粗糙度的板材，所制作的盖板就可以同样具有低表面粗糙度。再者，基于前述的共平面结构与低表面粗糙度特性，当后续在第一表面110A上形成电极等工艺时，就可以解决传统结构中的走线爬坡问题，且电极特性(例如阻抗、透光性等)可具有高均匀性。本实施例的第一表面110A可用于后续工艺，例如但不限于涂布导电层、涂布金属层、蚀刻、黄光工艺等。再者，盖板具有相对于第一表面110A的第二表面110B(或可称作外表面或接触表面)，在本实施例的盖板组装形成触控面板后，第二表面110B即为使用者进行触控的操作接口，但不以此为限。

请参考图3A，本实施例的盖板可应用于触控面板的最外层盖板(故又称触控盖板)，其中可利用遮挡层BM大致区分出周边区PA与显示区VA，前述位于空间BS中的基板110的第一部分位于显示区VA，以利显示器的影像输出；而基板110的第二部分与遮挡层BM则位于周边区PA，以遮挡周边金属走线或控制器等元件，使操作者无法观察到上述元件。图3A中基板110的第二部分可由外部的机壳件(图未示)所遮挡，故不虞显露出上述元件。

于部分实施方式中，可以在遮挡层BM中形成一个或多个镂空部160(请参阅图4A)，如各种孔洞、开口，并可于其内填入不同的材料，例如银漆、IR油墨(即能让红外线通过而遮挡可视光和紫外线的油墨)等等。举例而言，电子装置可包含红外线发射器，遮挡层BM可包含对应于红外线发射器的孔洞，其内可填入IR油墨，以使红外线发射器可以通过IR油墨发射光线。遮挡层BM中的镂空部160也可不填入材料，而仅为中空的穿透空间。在另一实施例中，上述的镂空部可由遮挡层BM延伸至基板110，亦即由第一表面110A延伸至第二表面110B。

图4A则显示另一实施例的盖板，其中遮挡层BM的宽度可延伸至基板110的端面，故遮挡层BM的宽度可大致等同于周边区PA的宽度；也就是说，当载板10离型后，本实施例的遮挡层BM会形成一个裸露表面(即遮挡层BM与载板10的接触面)；相似的，基板110也形成一个裸露表面(即在遮挡层BM内，基板110的第一部分与载板10的接触面)，两者可形成共平面以作为前述的第一表面110A。

图4B则显示另一实施例的盖板，其中遮挡层BM为多层结构。本实施方式的制作方法的具体工艺为：于载板10上成型第一遮挡层BM1，再于第一遮挡层BM1上成型第二遮挡层BM2，第一遮挡层BM1与第二遮挡层BM2即可构成双层结构的遮挡层BM；接着再形成基板110。第一遮挡层BM1会与基板110形成共平面以作为前述的第一表面110A。本实施方式可参照前述内容，在此不再赘述。第一遮挡层BM1与第二遮挡层BM2可具有相同或不同的光密度系数，故可依实际产品需求来调整遮挡层BM的光密度系数，以降低遮挡层BM的光穿透率或调整遮挡层BM所显示的颜色进而增加美观性。

图4C则显示另一实施例的盖板，其中遮挡层BM为多层结构，且各层具有不同的宽度，而形成阶梯状遮挡结构，例如最接近使用者所触摸的第二表面110B的第三遮挡层BM3具有最长的宽度，而第二遮挡层BM2的宽度与第一遮挡层BM1的宽度则依序递减，而形成阶梯状遮挡结构。本实施方式的制作方法的具体工艺为：于载板10上成型第一遮挡层BM1，再于第一遮挡层BM1上成型第二遮挡层BM2，再于第二遮挡层BM2上成型第三遮挡层BM3，第一、第二与第三遮挡层BM1～BM3即可构成遮挡层BM；接着再形成基板110。第三遮挡层BM3的宽度可用于定义周边区PA，第一遮挡层BM1会与基板110形成共平面以作为前述的第一表面110A；另外，在印刷基板110的过程中，基板110的材料可沿着阶梯状结构朝向载板10流动，故可挤出空气以防止气泡在基板110与遮挡层BM的接触面产生。本实施方式可参照前述内容，在此不再赘述。

再者，图4C中的结构更可有以下变化：可利用第一遮挡层BM1与第二遮挡层BM2的组合达到边框的色彩变化效果。例如首先选用光密度介于0.3至0.67之间的材料(例如是白色、黄色等浅色的油墨)制作具有第一图样的第一遮挡层BM1(例如前述的框状图样)；接着，选用光密度大于第一遮挡层BM1的材料(例如是红色等的油墨)制作第二遮挡层BM2于第一遮挡层BM1上，而第二遮挡层BM2具有特定图案，例如标志(LOGO)、功能键图标、或造型图案，也就是说本实施例的第二遮挡层BM2具有第二图样，其不同于第一图样(亦即非框状结构)，而是将具有图案的第二遮挡层BM2设置于第一遮挡层BM1上的特定位置，故第二遮挡层BM2又可称作图案层；更详细来说，上述的标志可例如但不限于产品品牌的标志；上述的功能键图标可例如但不限于智能型手机常用的返回键或Home键；上述的造型图案可例如但不限于条纹、网格等美观性的视觉图案。接着，再选用光密度较第一遮挡层BM1、第二遮挡层BM2为高的材料(如前述的黑色油墨)制作第一图样的第三遮挡层BM3(例如前述的框状图样)，即可形成图案层(即具有图案的第二遮挡层BM2)夹设于第一遮挡层BM1与第三遮挡层BM3的遮挡结构；最后再依前述内容制作基板110，以完成本实施例的盖板结构。藉由第一遮挡层BM1的光密度较低(即透光性较高)的特性，使第二遮挡层BM2的图案与颜色可透过第一遮挡层BM1而呈现出来。举例而言，第一遮挡层BM1选用白色油墨，第二遮挡层BM2选用红色油墨，使用者可看见第二遮挡层BM2所呈现的红色图案，且由于所述红色图案穿透白色油墨而呈现略带粉色的效果，使得第二遮挡层BM2所形成的标志、功能键图标、或造型图案的颜色较为柔和，使周边区PA整体的颜色呈现较为协调且一致。较佳地，为达周边区PA所呈现的颜色一致性，第一遮挡层BM1与第二遮挡层BM2的迭合区域与仅具有第一遮挡层BM1的区域之间的色容差值是介于0.5至15之间，较佳是介于1.3至12之间(在不考虑第三遮挡层BM3的情况下)。另外，第三遮挡层BM3则为三者中光密度最高的材质，以遮挡周边金属走线(如后文所述的周边线路120)或控制器等元件。

图4D则显示另一实施例的盖板，其中，基板110的厚度约相同于遮挡层BM的厚度，以剖视图观之，遮挡层BM会内嵌于基板110之中，并裸露出两个表面，藉此遮挡层BM与基板110组成复合型态的盖板，且构成前述的第二表面110B与第一表面110A。

本实用新型实施例的盖板可优选的应用于触控面板，故又可称作触控盖板或触控外盖。以下说明本实用新型实施例的盖板于触控面板的应用。

本实用新型实施例的盖板上可直接成型有可挠性触控感测组件20，如薄膜式触控传感器(film-type touch sensor)，藉此形成具触控感应功能的外盖(即触控面板)，其可与显示模块(图未示)相互组装，进而制作为触控显示器；而为方便说明起见，本实施例仅以单一结构层表示可挠性触控感测组件20(如图5)，并未实际绘出电极结构。具体而言，可挠性触控感测组件20为一另行制作的触控传感器，其以薄膜为主体，薄膜上具有电极结构(图未示)，可挠性触控感测组件20可直接贴合于第一表面110A；可挠性触控感测组件20大致位于显示区VA，而周边线路120则大致位于周边区PA，周边线路120可电性连接于可挠性触控感测组件20的电极结构。当使用者在第二表面110B进行点选、手势等控制动作，可挠性触控感测组件20可用于感测前述的动作，并透过周边线路120将触控感测讯号传送至外部控制器(图未示)。

由于本实用新型实施例的盖板为柔性(即具可挠性)材料所制成，配合可挠性触控感测组件20的可挠性，两者所组装成型的具有触控感应功能之外盖(即触控面板)则可贴附到任何平面或非平面(例如具有曲率的表面)的目标载板上，例如贴附于2.5D、3D显示器上，使其具有触控感应功能；上述外盖(即触控面板)亦可贴附到可挠性显示器上，使其具有触控感应功能。以下说明利用多次离型的工艺将本实用新型实施例的盖板应用于具触控感应功能的外盖：请先参照图6A，首先，提供第一基板B10，并形成第一离型层L10于第一基板B10上。第一基板B10可作为后续步骤中所形成的结构的机械性支撑，其能够作为后续工艺的临时平台且待工艺结束后可将产品自该第一基板B10上移除。第一基板B10可为一透明或不透明绝缘材料，例如一玻璃基板，或者第一基板B10可为可挠性基板。由于第一基板B10不构成最终产品的一部分，所以第一基板B10可采用成本相对较低的材料，只要其可提供必要的机械性支撑即可。例如，第一基板B10可采用素玻璃而非化学强化玻璃，以降低触控面板的制作成本，也可以采用塑料或树脂等柔性材料形成，如聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯材料，以及聚醚砜(PES)、聚酰亚胺(PI)、纤维素酯、苯环丁烯(Benzocyclobutene，BCB)、聚氯乙烯(PVC)及丙烯酸树脂等材料。另外，第一基板B10在后续自触控传感器10上移除后，还可以再重复回收利用，如此，可进一步降低制作成本。第一离型层L10由具有离型能力的材料所构成的薄膜层。此处及下文中所述的离型是指将第一基板B10可与第一离型层L10相互贴合，并在需要时将两者分离；或者将第一基板B10与第一离型层L10可贴合后再一并贴合于目标物，并在需要时将第一基板B10与第一离型层L10一起从目标物上移除。

第一离型层L10的材料可为有机材料，例如聚酰亚胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯(PTFE)、环烯烃共聚物(COP、Arton)或前述的组合。第一离型层L10可使用溶液涂布再加热烘烤方法形成于第一基板B10上，还可采用气相沉积法、卷对卷工艺(roll-to-roll，RTR)或其它合适的方法形成或直接将第一离型层L10的干膜压合于第一基板B10上。在一实施中，可通过可移除式黏合剂将第一离型层L10黏附于第一基板B10上。该可移除式黏合剂可包括非水溶性胶或能够将两层材料临时黏附在一起，且在需要时被溶解或以其它方式移除的任何其它合适材料。本实施例可以藉由将可移除式黏合剂溶解，从而实现将第一基板B10从第一离型层L10上离型的工艺。

较佳的，第一离型层L10也可以是由上层具有离型能力的材料与下层不具有离型能力的材料所构成的薄膜层。这里第一离型层L10的上层可指与远离该第一基板B10的表面，第一离型层L10的下层是指与靠近该第一基板B10的表面。因此藉由第一基板B10贴合于第一离型层L10的下层，而前述的目标物贴合于第一离型层L10的上层，当目标物完成所需的工艺后，即可进行离型作业，也就是可以透过第一离型层L10的上层将第一基板B10与第一离型层L10一并从目标物上移除。在目标物为触控面板的实施例中，将第一基板B10与第一离型层L10同时移除(即离型)，可以避免前述的第一基板B10与第一离型层L10残留于产品上造成产品重量或厚度的增加，也可避免残留的第一离型层L10影响产品的光学特性，例如穿透率及雾度等。

接着，请参照图6B，形成可挠性触控感测组件20于第一离型层L10上，且第一离型层L10位于第一基板B10与可挠性触控感测组件20之间。如同前述，可挠性触控感测组件20为薄膜式触控传感器，在一实施例中，薄膜式触控传感器可以包括一薄膜及一贴附于该薄膜的可转印透明导电膜；而薄膜式触控传感器是可挠性或可变形的，即薄膜传感器(filmsensor)可动态地或永久地形成为弯曲的形状。

接着，请参照图6C，形成第二基板B20于可挠性触控感测组件20上，且可挠性触控感测组件20与第二基板B20之间具有第二离型层L20。第二离型层L20可参照前述针对第一离型层L10的说明，其与第一离型层L10的材料是具有离型能力的材料所构成的薄膜层，但两者的化学组分可以相同或不同。第二基板B20可参照前述针对第一基板B10的说明，其与第一基板B10的材料可以相同或不同。在此实施例中，第二基板B20亦作为承载之用，故可以称第二基板B20为承载基板，在材料的选择上可选用支撑强度较佳的薄膜材，因此也可称作承载膜(carrier film)。图6C同时绘制出利用第一离型层L10将第一基板B10由可挠性触控感测组件20上移除的离型步骤示意图。在所述的离型步骤中，可使用氟化氢等化学品以化学蚀刻方法来移除第一基板B10；或者，可借助于机械方法或组合化学-机械方法来移除第一基板B10。较佳的，可以将第一基板B10与第一离型层L10同时移除，可以使得触控面板产品具轻薄特性，同时可维持有良好的光学特性。在一变化实施例中，在所述的离型步骤中，第一离型层L10可残留于可挠性触控感测组件20上，所述残留的第一离型层L10可提供所需的黏着性，以利后续工艺的进行。

接着，请参照图6D，其显示利用第一离型层L10移除该第一基板B10之后，可挠性触控感测组件20则由第二基板B20所支撑，以为将可挠性触控感测组件20转移至目标物上作准备，例如非平面的目标基板，目标基板可以是曲面盖板，该曲面盖板可为刚性、半刚性、可挠性或可变形的。可挠性触控感测组件20则藉由第二离型层L20可移除地贴附于第二基板B20上。

接着，请参照图6E，其显示本实用新型实施例的盖板可贴合于可挠性触控感测组件20上，换句话说，藉由第二基板B20的支撑，可挠性触控感测组件20可进行一贴合组装作业，将其贴附于本实用新型实施例的遮挡层BM与基板110所形成的第一表面110A。在一实施例中，可采用接合层(图未示)将本实用新型实施例的盖板贴附于可挠性触控感测组件20上；接合层的材料可以为具有黏性的活性墨水层(Reactive ink)，也可以是普通光学胶层或水胶层。

接着，请参照图6F，其显示利用第二次离型步骤，即利用第二离型层L20将第二基板B20自可挠性触控感测组件20上所移除。而离型后，本实用新型实施例的盖板与可挠性触控感测组件20即可组成具触控感应功能的外盖，并可组装贴合于前述的显示器上形成触控显示器。

在另一实施例中，本实用新型实施例的盖板可进行以下步骤，藉此形成具触控感应功能的外盖。首先，如图7A所示，在本实用新型实施例的盖板上制作一金属纳米线层140A，金属纳米线层140A可至少由金属纳米线140所组成；在本实施例的具体作法为：将具有金属纳米线140的分散液或浆料(ink)以涂布方法成型于第一表面110A上，并加以干燥使金属纳米线140覆着于第一表面110A；换言之，金属纳米线140会因上述的干燥固化步骤而成型为一设置于第一表面110A上的金属纳米线层140A。由于第一表面110A的共平面结构，金属纳米线140不需爬坡，故可以解决传统结构的电阻上升、甚至走线断裂的问题；而由于第一表面110A的低表面粗糙度特性，金属纳米线层140A的涂布质量具有优良的均匀性。同于前述，盖板可根据内嵌于基板110中的遮挡层BM而定义有显示区VA与周边区PA，而所述的金属纳米线层140A可包括成型于显示区VA的第一部分与成型于周边区PA的第二部分。

在本实用新型的实施例中，上述分散液可为水、醇、酮、醚、烃或芳族溶剂(苯、甲苯、二甲苯等等)；上述分散液亦可包含添加剂、接口活性剂或黏合剂，例如羧甲基纤维素(carboxymethyl cellulose；CMC)、2-羟乙基纤维素(hydroxyethyl Cellulose；HEC)、羟基丙基甲基纤维素(hydroxypropyl methylcellulose；HPMC)、磺酸酯、硫酸酯、二磺酸盐、磺基琥珀酸酯、磷酸酯或含氟界面活性剂等等。而所述的金属纳米线(metal nanowires)层，例如可为纳米银线(silver nanowires)层、纳米金线(gold nanowires)层或纳米铜线(copper nanowires)层所构成；更详细的说，本文所用的「金属纳米线(metal nanowires)」系为一集合名词，其指包含多个元素金属、金属合金或金属化合物(包括金属氧化物)的金属线的集合，其中所含金属纳米线的数量，并不影响本实用新型所主张的保护范围；且单一金属纳米线的至少一个截面尺寸(即截面的直径)小于500nm，较佳小于100nm，且更佳小于50nm；而本实用新型所称之为”线(wire)”的金属纳米结构，主要具有高的纵横比，例如介于10至100,000之间，更详细的说，金属纳米线的纵横比(长度：截面的直径)可大于10，较佳大于50，且更佳大于100；金属纳米线可以为任何金属，包括(但不限于)银、金、铜、镍及镀金之银。而其他用语，诸如丝(silk)、纤维(fiber)、管(tube)等若同样具有上述的尺寸及高纵横比，亦为本实用新型所涵盖的范畴。

而所述的含有金属纳米线140的分散液或浆料可以用任何方式成型于基板110的表面，例如但不限于：网版印刷、喷头涂布、滚轮涂布、狭缝式涂布(Slot die coating)等工艺；在一种实施例中，可采用卷对卷(roll to roll)工艺将含有金属纳米线140的分散液或浆料涂布于连续供应的盖板的表面。

于本实用新型的部分实施方式中，金属纳米线140可以是纳米银线(Silver nano-wires)或纳米银纤维(Silver nano-fibers)，其可以具有平均约20至100纳米的直径，平均约20至100微米的长度，较佳为平均约20至70纳米的直径，平均约20至70微米的长度(即纵横比为1000)。于部分实施方式中，金属纳米线140的直径可介于70纳米至80纳米，而长度约8微米。

接着，参考图7B，设置金属层150于周边区PA。如图所示，金属层150设置于金属纳米线层140A上，金属层150大致位于周边区PA，但也可视需求突出周边区PA而延伸至显示区VA。

在一实施例中，金属层150是由导电材料所形成，其可应用曝光显影的方式将金属层150进行图案化；具体而言，金属层150为银浆(Ag paste)材料所涂布成型，但不以此为限。

在一实施例中，设置金属层150于周边区PA的具体方式可为但不限于：将银浆材料涂布于周边区PA，接着将银浆材料固化形成金属层150。在一具体实施例中，银浆材料固化步骤的温度为约90℃～110℃，固化时间为约10～20分钟。

接着，进行图案化步骤以在盖板上制作触控感应电极TE与周边线路120。图8显示经过图案化后，本实用新型实施例的盖板上所成型的触控感应电极TE与周边线路120的示意图。在一实施例中，可利用黄光微影、蚀刻等工艺进行图案化步骤。具体可包括以下步骤：将光阻进行黄光微影定义出金属纳米线层140A与金属层150的保留区130A与去除区130B(请配合参考图8A、图8B)；接着，将位于去除区130B的材料(包含金属纳米线140、光阻材料或银浆材料)以蚀刻方式去除以形成非导电区域136，进而达成金属纳米线层140A与金属层150的图案化。

藉此，即可留下位于保留区130A的金属纳米线层140A以制作出触控感应电极TE(即触控感应电极TE由位于显示区VA的金属纳米线层140A经图案化步骤所制成)，并留下位于保留区130A的金属层150以制作出周边线路120(即周边线路120由位于周边区PA的金属层150经图案化步骤所制成)，且周边线路120藉由其下的金属纳米线层140A与触控感应电极TE形成电性连接以传输讯号。

请再参阅图8，其显示本实用新型的实施例所完成的触控面板(即本实用新型实施例的盖板、触控感应电极TE与周边线路120的组合)，图8A、图8B分别为图8中的A-A、B-B剖面的态样，A-A剖面可看出位于周边区PA的保留区130A与去除区130B的态样，而B-B剖面则可看出位于周边区PA与显示区VA的保留区130A与去除区130B的态样；为了简洁，图8中并未绘制出内嵌于基板110中的遮挡层BM，而从前述说明亦可清楚了解遮挡层BM的位置大致与周边区PA相同。

如图8A、图8B所示，位于周边区PA的金属纳米线层140A与金属层150经过曝光显影、蚀刻之后可定义出去除区130B与保留区130A，位于去除区130B的金属层150与金属纳米线层140A会被移除而形成空隙(即非导电区域136)，位于保留区130A的金属层150则被图样化而形成周边线路120，周边线路120下具有同样被图案化的金属纳米线层140A，相邻周边线路120具有非导电区域136；再者，周边线路120与金属纳米线层140A均被内嵌于基板110中的遮挡层BM所遮蔽，且周边线路120与金属纳米线层140A并无传统的爬坡结构，故可解决传统结构中的断线等制作质量问题。由于周边区PA的两结构层是在同一步骤中进行图案化，故可省略传统的对位步骤，进而达到减少或避免在工艺中设置对位误差区域的需求，藉以降低周边区PA的宽度，进而达到触控面板/触控显示器的窄边框需求。较佳的，周边线路120的侧面与金属纳米线层140A的侧面相互对齐；换言之，周边区PA的两结构层在图案化步骤之后会具有相似或相同的图案。在另一实施例中，周边区PA的两结构层是在不同步骤中(例如采用两道次的蚀刻)依序进行图案化。

而如图8B所示，在位于显示区VA中，保留区130A中的金属纳米线层140A在上述显影、蚀刻工艺中被图案化而形成触控感应电极TE。在本实施例中，位于去除区130B的金属纳米线层140A会被移除而形成空隙，以形成相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136。再者，触控感应电极TE可透过周边区PA的金属纳米线层140A与周边线路120形成电性连接。如图8所示，本实施例的触控面板为一种单面非跨接式(non-cross)的触控面板，触控感应电极TE的数量可为一个或多个。更详细的说，显示区VA中具有多个沿同一方向(如第一方向D1)延伸的触控感应电极TE，而每一触控感应电极TE在第二方向D2的长度则沿第一方向D1产生递增或递减的变化；相邻触控感应电极TE之间为上述工艺中的去除区130B所定义出的非导电区域136；由于金属纳米线层140A具有高均匀性，故图案化之后的触控感应电极TE也可具有一致的特性，例如不同的触控感应电极TE的阻抗差异甚小，进而提高感测触控点及传输讯号的质量；又例如不同的触控感应电极TE的光学特性差异甚小，进而提高输出画面的质量。

在一实施例中，如图8A所示，相邻周边线路120之间的金属纳米线140(即金属纳米线层140A)会被完全去除，换言之，相邻周边线路120之间的金属纳米线140均被上述的图案化步骤完全去除而不复存在，因此可形成绝缘区(即所述的非导电区域136)，非导电区域136并不存在有金属纳米线140(亦即，本实施例的非导电区域136为空隙结构，且金属纳米线140分布于空隙结构的浓度为零)，故相邻周边线路120之间形成电性隔绝，进而达到触控面板的电路配置。在另一实施例中，可不完全移除位于去除区130B中的金属纳米线140，而仅使位于去除区130B中的金属纳米线140的浓度小于低于一渗透临限值(percolationthreshold)。一般而言，当金属纳米线的浓度低于渗透临限值(percolation threshold)，由于相邻金属纳米线间隔太远，因此非导电区域136中的整体导电度低或者为零，意即金属纳米线并未提供连续电流路径，而无法形成一导电网络(conductive network)，也就是说非导电区域136中的金属纳米线所形成的是电绝缘的非导电网络(non-conductivenetwork)。在一实施例中，当一区域或一结构的片电阻高于108欧姆/平方(ohm/square)即可被认定为电绝缘，较佳地是高于104欧姆/平方(ohm/square)，3000欧姆/平方(ohm/square)，1000欧姆/平方(ohm/square)，350欧姆/平方(ohm/square)或100欧姆/平方(ohm/square)的情况。

相似的，如图8B所示，位于显示区VA的去除区130B的位置会对应相邻触控感应电极TE之间的绝缘区(即非导电区域136)，以定义出用于感测不同触控位置的触控感应电极TE，换言之，相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136并不存在有金属纳米线140(亦即，本实施例的相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136为空隙结构，且金属纳米线140分布于空隙结构的浓度为零)。同于上述，在另一实施例中，可不完全移除位于去除区130B中的金属纳米线140，而仅使位于去除区130B中的金属纳米线140的浓度小于低于一渗透临限值(percolation threshold)，使非导电区域136中的整体导电度低或者为零。值得说明的是，非导电区域136中填入低浓度的金属纳米线，可使得非导电区域136与导电区域之间具有更相近的光学特性，例如显示区VA中的非导电区域136与导电区域(如触控感应电极TE)之间的光学特性，如光折射率更为近似，故在使用者通过本实用新型实施例的触控面板观看显示器所显示的画面时，具有更一致性的显示表现，换言之，用户更不容易在视觉上发现非导电区域136与导电区域之间的界线，尤其是针对触控感应电极TE之间的线距较宽(即非导电区域136的宽度较宽)的产品。

较佳地，保留区130A中的金属纳米线140可形成导电网络(conductive network)，金属纳米线层140A也就形成所谓的透明导电层，而此透明导电层在上述图案化之后可在显示区VA中做为触控感应电极TE；为达较佳的显示效果，金属纳米线层140A的光穿透率(Transmission)可大于约80％，且表面电阻率(surface resistance)在约10至1000欧姆/平方(ohm/square)之间；较佳地，金属纳米线层140A的光穿透率(Transmission)大于约85％，且表面电阻率(surface resistance)在约50至500欧姆/平方(ohm/square)之间。

较佳地，所形成的金属纳米线140可进一步进行后处理以提高其导电度，此后处理可为包括如加热、电浆、电晕放电、UV臭氧或压力的过程步骤。例如，在固化形成金属纳米线层140A的步骤后，可利用滚轮施加压力于其上，在一实施例中，可藉由一或多个滚轮向金属纳米线层140A施加50至3400psi的压力，较佳为可施加100至1000psi、200至800psi或300至500psi的压力。于部分实施方式中，可同时进行加热与压力之后处理；详言之，所形成的金属纳米线140可经由如上文所述的一或多个滚轮施加压力，并同时加热，例如由滚轮施加的压力为10至500psi，较佳为40至100psi；同时将滚轮加热至约70℃与200℃之间，较佳至约100℃与175℃之间，其可提高金属纳米线层140A的导电度。于部分实施方式中，金属纳米线140较佳可暴露于还原剂中进行后处理，例如由纳米银线组成的金属纳米线140较佳可暴露于银还原剂中进行后处理，银还原剂包括硼氢化物，如硼氢化钠；硼氮化合物，如二甲基胺基硼烷(DMAB)；或气体还原剂，诸如氢气(H₂₎。而所述的暴露时间约10秒至约30分钟，较佳约1分钟至约10分钟。而上述施加压力的步骤可依实际的需求实施在涂布感光层130的步骤之前或之后。

在一实施例中，上述金属纳米线140可与额外的膜层搭配而形成复合材料层，制作膜层的聚合物实例可包括，但不限于：聚丙烯酸系树脂，诸如聚甲基丙烯酸酯(例如，聚(甲基丙烯酸甲酯))、聚丙烯酸酯及聚丙烯腈；聚乙烯醇；聚酯(例如，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酯萘二甲酸酯及聚碳酸酯)；具有高芳香度的聚合物，诸如酚醛树脂或甲酚-甲醛、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚硫化物、聚砜、聚伸苯基及聚苯基醚；聚胺基甲酸酯(polyurethane；PU)；环氧树脂；聚烯烃(例如聚丙烯、聚甲基戊烯及环烯烃)；纤维素；聚硅氧及其他含硅聚合物(例如聚倍半氧硅烷及聚硅烷)；聚氯乙烯(PVC)；聚乙酸酯；聚降冰片烯；合成橡胶(例如，乙丙橡胶(ethylene-propylene rubber；EPR)、丁苯橡胶(styrene-Butadiene Rubber；SBR)、三元乙丙橡胶(ethylene-Propylene-Diene Monomer；EPDM)；及含氟聚合物(例如，聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯(TFE)或聚六氟丙烯)；氟－烯烃与烃烯烃的共聚物等非导电聚合物，上述聚合物可另行添加感光材料，以满足以曝光显影工艺图案化的需求。在其他实施例中，亦可使用以二氧化硅、富铝红柱石、氧化铝、SiC、碳纤维、MgO-Al₂O₃-SiO₂、Al₂O₃-SiO₂或MgO-Al₂O₃-SiO₂-Li₂O等无机材料用以作为膜层。

此外，上述的聚合物较佳的可赋予膜层与金属纳米线140所组成的复合结构某些特定的化学、机械及光学特性，例如提供复合结构与基板110的黏着性，或是较佳的实体机械强度，故膜层又可被称作基质(matrix)。又一方面，使用某些特定的聚合物制作膜层，使复合结构具有额外的抗刮擦及磨损的表面保护，在此情形下，膜层又可被称作外涂层(overcoat，OC)，采用诸如聚丙烯酸酯、环氧树脂、聚胺基甲酸酯、聚硅烷、聚硅氧、聚(硅-丙烯酸)等可使复合结构具有较高的表面强度以提高耐刮能力。再者，膜层或其聚合物中可添加交联剂、聚合抑制剂、稳定剂(例如但不限于抗氧化剂、紫外光稳定剂(UVstabilizers))、界面活性剂或上述的类似物或混合物以提高复合结构的抗紫外线能力或达成较长保存期限。在其他实施例中，膜层可进一步包含腐蚀抑制剂。然而，上述仅是说明膜层的添加物组成、附加功能/名称的可能性，并非用于限制本实用新型。

除了上述非跨接式的触控面板，本实用新型的工艺亦可适用于跨接式(又称架桥式)的触控面板。请参阅图9，其显示本实用新型的另依实施例所完成的触控面板，其为本实用新型实施例的盖板、触控感应电极TE(包括第一触控感应电极TE1、第二触控感应电极TE2及电性连接两相邻的第一触控感应电极TE1的连接电极CE)与周边线路120的组合。详细作法可例如但不限于：将成形于基板110上的透明导电层(如前述的金属纳米线层140A或ITO层等)经过图案化的步骤后形成的触控感应电极TE包括:沿第一方向D1排列的第一触控感应电极TE1、沿第二方向D2排列的第二触控感应电极TE2及电性连接两相邻的第一触控感应电极TE1的连接电极CE；接着，可将一绝缘块164设置于连接电极CE上，例如以二氧化硅形成绝缘块164；最后桥接导线162更设置于绝缘块164上，例如以铜形成桥接导线162，并使桥接导线162连接于第二方向D2上相邻的两个第二触控感应电极TE2，绝缘块164位于连接电极CE与桥接导线162之间，以将连接电极CE以及桥接导线162电性隔绝，以使第一方向D1与第二方向D2上的触控电极彼此电性隔绝。值得说明的是，周边线路120可与桥接导线162在同一工艺中以金属(如铜或银)制作成型；同于前述，周边线路120会被内嵌于基板110中的遮挡层BM所遮蔽。

在本实施例中，第一触控感应电极TE1及第二触控感应电极TE2在结构上相互交错，两者可组成触控感应电极TE，以用感应触碰或控制手势等。

在一部分实施方式中，本文所述的盖板可藉由卷对卷(Roll to Roll)工艺来制作，卷对卷(Roll to Roll)工艺可使用现有设备且可完全自动化，可显著降低制造盖板及其触控面板的成本。卷对卷涂覆方法的具体工艺如下：首先选用具可挠性的载板10，并使卷带状的载板10安装于两滚轮之间，利用马达驱动滚轮，以使载板10可沿两滚轮之间的动作路径进行连续性的工艺。接着，利用储存槽、喷雾装置、刷涂装置及其类似设备将遮挡层BM的浆料沉积于载板10的表面上并固化以形成遮挡层BM；此步骤可视产品尺寸在载板10的表面上成型多个遮挡层BM。接着利用喷涂头将基板110的聚合物沉积于载板10的表面上，并将聚合物固化成为基板110，并覆盖遮挡层BM。随后，所完成的盖板藉由产线最后端的滚轮加以卷出而形成盖板的卷带。而在脱模后，如图10，完成本实用新型实施例的盖板的母材，而母材进行裁切、切割等步骤即可制成个别独立的盖板。本实施例的具体说明可参照前文，例如遮挡层BM可具有镂空部160或遮挡层BM为单层或多层结构等，在此不予重复。

本实用新型的部分实施方式中，盖板具有一平整表面(即前述的共平面)，故本实用新型实施例的盖板并无突出的遮蔽层，使后续在涂布纳米金属层可避免传统结构中的爬坡问题，因此可以解决因爬坡所造成的断线问题，并达到提高生产良率的效果。

本实用新型的部分实施方式中，可控制共平面的表面粗糙度，例如表面粗糙度Ra为约0.05μm至0.5μm，故可更均匀地涂布纳米金属层，使纳米金属层所制作的感应电极或走线具有均一性的电极特性(例如阻抗、透光性等)。

本实用新型实施方式的盖板可应用于触控面板，例如将纳米金属层印刷于本实用新型实施例的盖板，再利用图案化方法将纳米金属层形成可视区的触控感应电极及周边区的周边线路。由于前述的共平面特性与低表面粗糙度，本实用新型实施例的触控感应电极与周边线路的电阻差异可在10％以下。

本实用新型实施例的盖板可应用于触控面板，尤其是可挠性的触控面板。由于遮挡层内嵌于基板之中，两者之间具有高结合强度，故适用于可弯折、可扭折的触控面板。本实用新型实施例的触控面板可通过弯折半径为R2.5条件下100000次的弯折测试。

本实用新型实施例的盖板可大量批次进行单面的触控面板的制作。

虽然本实用新型已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何熟习此技艺者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视所附权利要求的保护范围所界定者为准。

Claims (10)

1.一种触控盖板，其特征在于，包含：

一遮挡层；以及

一基板；

其中该基板覆盖于该遮挡层，该基板与该遮挡层形成一共平面。

2.如权利要求1所述的触控盖板，其特征在于，该基板整体地覆盖于该遮挡层并填充于该遮挡层所界定的一空间中。

3.如权利要求1所述的触控盖板，其特征在于，该遮挡层包括一第一遮挡层与一第二遮挡层。

4.如权利要求1所述的触控盖板，其特征在于，该遮挡层包括一第一遮挡层、一第二遮挡层与一第三遮挡层。

5.如权利要求4所述的触控盖板，其特征在于，该第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层形成阶梯状遮挡结构。

6.如权利要求4所述的触控盖板，其特征在于，该第一遮挡层及该第三遮挡层具有一第一图样，该第二遮挡层具有一第二图样，该第二图样不同于该第一图样。

7.如权利要求6所述的触控盖板，其特征在于，该第一遮挡层与该第二遮挡层的迭合区域与仅具有该第一遮挡层的区域之间的色容差值是介于1.3至12之间。

8.如权利要求4所述的触控盖板，其特征在于，该触控盖板具有相对于该共平面的一第二表面，该第三遮挡层为该第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层中最接近该第二表面，该第一遮挡层与该基板形成该共平面，该第三遮挡层为该第一遮挡层、该第二遮挡层及该第三遮挡层中具有最长的宽度，而该第二遮挡层的宽度与该第一遮挡层的宽度则依序递减。

9.如权利要求1所述的触控盖板，其特征在于，该遮挡层包括一镂空部。

10.如权利要求1所述的触控盖板，其特征在于，该共平面是由一载板上通过离型作业所制作。