CN209181866U - 反应槽的旁通式液位检测结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽；旁通管，其一端与反应槽的底部连通；液位检测管，竖直设置，其下端与旁通管的另一端连通；液位传感器，安装在液位检测管的顶部；排气管，其一端与液位检测管的上端连通，另一端与空气连通。本实用新型反应槽的旁通式液位检测结构，反应槽内液位高度的检测准确度较高，不会损坏硅片，维护方便、安全。

Description

反应槽的旁通式液位检测结构

技术领域

本实用新型涉及反应槽技术领域，更具体地说，是涉及一种反应槽的旁通式液位检测结构。

背景技术

在清洗设备中，接触和浸没硅片的液位高度对片子的绒面和清洗效果有很大的影响，特别是在进行湿法刻蚀工序上，液位太高会导致过刻，液位太低硅片可能接触反应不充分，绒面不均匀，减重达不到要求，在硅片电池制成的过程中，不同的工艺对片子的减重也不同，需要对液位的高度和配方进行调整。

目前，反应槽内的液位高度是通过浮球来检测的，这样的检测结构具有以下缺点：

1.浮球在反应槽内，处理中的硅片可能会碰到，造成硅片的损害，及堵片；

2.浮球检测只是开关量检测，无法准确定义液位的高度，无法达到同样的工艺，同样的硅片清洗反应时，每次调节的液位高度一致，

3.调节控制液位的高度时，更多是靠经验，只能反馈泵的频率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题，是提供一种反应槽的旁通式液位检测结构，具有较高的液位检测准确度，不会损坏硅片，维护方便、安全。

为了实现上述的目的，本实用新型的技术方案是：

一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽；旁通管，其一端与反应槽的底部连通；液位检测管，竖直设置，其下端与旁通管的另一端连通；液位传感器，安装在液位检测管的顶部；排气管，其一端与液位检测管的上端连通，另一端与空气连通。

进一步地，所述液位检测管的下侧还设置有排液阀。

进一步地，所述反应槽的两侧还设有溢液槽。

进一步地，所述反应槽的下侧还设有调节阀门、泵和储液槽。

进一步地，所述调节阀门的一端通过进液管与反应槽的底部连通，调节阀门的另一端与泵的一端连通，泵的另一端通过管道与储液槽连通。

进一步地，所述排液阀的一端与液位检测管连通，另一端与溢流管连通。

进一步地，所述溢液槽通过溢流管与储液槽连通。

本实用新型的有益效果：本实用新型反应槽的旁通式液位检测结构，反应槽内液位高度的检测准确度较高，不会损坏硅片，维护方便、安全。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案、取得的技术效果易于理解，下面结合具体的附图，对本实用新型的具体实施方式做进一步说明。

需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型有关的部分而非全部结构。

如图1所示，在本实用新型的一个具体实施例中，提供了一种反应槽的旁通式液位检测结构，包括反应槽1、旁通管3、液位检测管6、液位传感器4和排气管5。

具体为，旁通管3的一端与反应槽1的底部连通，旁通管3的另一端与液位检测管6的下端连通，液位检测管6为竖直设置，液位传感器4安装在液位检测管6的顶部，排气管5安装在液位检测管6上端的侧壁上，排气管5的一端与液位检测管6连通，排气管5的另一端与空气连通。

排气管5用于维持反应槽1与液位检测管6内气压一样，避免液位不同步。

进一步地，液位检测管6的下侧还设有一排液阀7，排液阀7的一端与液位检测管6的底端连通，排液阀7的另一端通过溢流管8与储液槽9连通。

当反应槽1不工作时，打开排液阀7可以将反应槽1、旁通管3和液位检测管6中残留的液体（药液）通过溢流管8流入储液槽9内。避免反应槽1长期不用时，残留液体对反应槽1、旁通管3和液位检测管6的腐蚀。

排液阀7主要的作用是为了排空旁通管3、6中的液体，避免反应槽的新液与旁通管中的旧液的再次混合影响工艺。

具体的，反应槽1的两侧还设有溢液槽2，反应槽1的下侧还设有调节阀门11、泵10和储液槽9。

溢液槽2通过溢流管8与储液槽9连通。

调节阀门11的一端通过进液管12与反应槽1的底部连通，调节阀门11的另一端通过管道与泵10的一端连通，泵10的另一端通过管道与储液槽9连通。

溢液槽2可以收集由反应槽1侧面流出的液体，回收利用，避免污染环境。

具体而言，反应槽1侧面流出的液体主要通过溢流槽2和溢流管8重新回到储液槽9，混合后重新参与循环反应，维持循环和多次利用。

工作时，液位检测管6内液位的高度与反应槽1内液位的高度是一致的。液位传感器4通过对液位检测管6内液位的高度检测，即可知道反应槽1内液位的高度。

通过调节泵10的工作频率和调节阀门11的开度，可以控制反应槽1内液体的液位高度。

本实用新型利用连通器原理把反应槽1内液体通过旁通管3接到反应区外，再通过液位传感器4来检测反馈液位高度，调节泵10的工作频率可达到控制反应槽1内液位的高度，同时可以通过工控机对不同工艺制成所需液位参数数据进行管理存储、编辑、读取。

运行方式：泵10把储液槽9内的液体通过调节阀门11和进液管12打到反应槽1内，反应槽1内的液体一部分通过两边的溢流槽2及溢流管8回到储液槽9内参与循环，一部分留在反应槽1维持液位高度进行硅片的腐蚀或清洗，另外一点流到旁通管道3及液位检测管6内，液位传感器4进行液位的高度检查，在运行的过程中可以通过调节泵10的频率和调节阀门11的开闭大小来控制反应槽1内的液位高度。

由于反应槽1的液位检测管路在反应槽1外，对硅片的处理不会造成影响，且进行维护更加安全、方便。

液位传感器4可以采用磁致伸缩液位计或超声波液位仪。

液位传感器4具有实时监控检测液位的功能,当调节泵10和调节阀门11时，工控机上可以实时显示反应槽1内液位的高度，同时在工控机上可以对泵10的工作频率f和反应槽1内液位的高度h进行储存，例如下表1可根据具体生产需求进行选择调用，无需重复调节。

表1：

本实用新型反应槽的旁通式液位检测结构，具有反应槽内液位高度的检测准确度较高，不会损坏硅片，维护方便、安全的特点。

以上实施例和附图仅用于说明本实用新型的技术方案，并非构成对本实用新型的限制，应当说明的是，本领域普通技术人员可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或全部技术特征进行等同替换，而这些修改或者替换应包括在本实用新型权利要求书保护的范围内。

Claims (7)

1.一种反应槽的旁通式液位检测结构，其特征在于：包括反应槽（1）；旁通管（3），其一端与反应槽（1）的底部连通；液位检测管（6），竖直设置，其下端与旁通管（3）的另一端连通；液位传感器（4），安装在液位检测管（6）的顶部；排气管（5），其一端与液位检测管（6）的上端连通，另一端与空气连通。

2.根据权利要求1所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述液位检测管（6）的下侧还设置有排液阀（7）。

3.根据权利要求1所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述反应槽（1）的两侧还设有溢液槽（2）。

4.根据权利要求1所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述反应槽（1）的下侧还设有调节阀门（11）、泵（10）和储液槽（9）。

5.根据权利要求4所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述调节阀门（11）的一端通过进液管（12）与反应槽（1）的底部连通，调节阀门（11）的另一端与泵（10）的一端连通，泵（10）的另一端通过管道与储液槽（9）连通。

6.根据权利要求2所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述排液阀（7）的一端与液位检测管（6）连通，另一端与溢流管（8）连通。

7.根据权利要求3所述的旁通式液位检测结构，其特征在于：所述溢液槽（2）通过溢流管（8）与储液槽（9）连通。