CN209115284U - 一种用于珠宝制作初胚的真空系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于珠宝制作初胚的真空系统,属于珠宝加工设备技术领域,包括:真空铸造机组,安装于真空铸造机组旁的灌石膏机组,还包括支撑架;安装于支撑架上的真空机组;安装于真空机组旁的真空罐;连接真空罐与真空机组的第一连接管道;连接真空罐与真空铸造机组和灌石膏机组的第二连接管道;安装于真空铸造机组上、控制真空铸造机组启闭的第一电磁阀门;以及,安装于灌石膏机组上、控制灌石膏机组启闭的第二电磁阀门。真空机组对真空罐进行真空处理后,控制第一电磁阀门使真空罐对真空铸造机进行抽真空,控制第二电磁阀门使真空罐对灌石膏机组抽真空,不仅节省真空泵的数量,且能够加快真空铸造机组与灌石膏机组的抽真空速度。
Description
技术领域
本实用新型涉及珠宝加工设备技术领域,特别涉及一种用于珠宝制作初胚的真空系统。
背景技术
珠宝制作过程需要经过设计、工匠雕刻蜡、胶膜注蜡、挑选配石、完成蜡型、种蜡树、称蜡树、灌石膏、烘焙石膏、取出石膏模、浇注液体黄金、离心工艺浇铸、石膏模炸洗及清洗等工艺流程,其中灌石膏需要抽真空使石膏凝固,且离心工艺浇铸也需要抽真空实用真空感应离心浇注机浇铸。
因此珠宝制作的过程中需要将灌石膏实用的真空抽粉机和真空铸造机进行抽真空,因此在灌石膏于熔化的金属流入铸模后,通过真空泵对真空抽粉机和铸模的容器开始进行真空处理。目前,大多数工厂进行真空处理都是采用真空泵一对一地对铸模的容器真空处理,导致需要每一个铸模的容器配置一台真空机进行真空处理,则导致真空泵需要多台,不利于节省加工成本。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于珠宝制作初胚的真空系统,具有节省真空泵使用数量的优点。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种用于珠宝制作初胚的真空系统,包括:真空铸造机组,安装于所述真空铸造机组旁、用于将所述真空铸造机组加工前的珠宝模型进行石膏凝固的灌石膏机组,还包括支撑架;安装于所述支撑架上、用于对真空铸造机组和灌石膏机组进行真空处理的真空机组;安装于所述真空机组旁、真空机组对其进行真空处理的真空罐;一端连接所述真空罐、另一端连接所述真空机组的第一连接管道;一端连接所述真空罐、另一端连接所述真空铸造机组和所述灌石膏机组的第二连接管道;安装于所述真空铸造机组上、控制第二连接管道与真空铸造机组通断的第一电磁阀门;以及,安装于所述灌石膏机组上、控制第二连接管道与灌石膏机组通断的第二电磁阀门。
采用上述方案,通过支撑架上的真空机组先将真空罐抽真空,以使真空罐呈真空状态,当真空铸造机组需要进行真空处理时,则打开第一电磁阀门以接通真空铸造机组与真空罐,使真空罐快速将真空铸造机组进行真空处理,当灌石膏机组需要进行真空处理时,打开第二电磁阀门以将灌石膏机组与真空罐接通,从而使真空罐将灌石膏机组抽取空气,从只需要真空机组将真空罐抽真空后,即可根据真空铸造机或者灌石膏机组需要抽真空时开启即可,从而节省真空泵的数量,也使真空铸造机组与灌石膏机组进行真空处理快速。
作为优选,所述真空机组包括:第一真空泵、第二真空泵以及第三真空泵,所述第一真空泵上设置有控制第一真空泵启闭的第一控制阀门,所述第二真空泵上设置有控制第二真空泵启闭的第二控制阀门,所述第三真空泵上设置有控制第三真空泵启闭的第三控制阀门,所述真空罐上设置有检测真空罐的真空度、以形成真空度检测信号的真空传感器,所述真空传感器耦接有预设真空度基准值且接收真空度检测信号、并输出比较信号的比较电路,比较电路耦接有以接收比较信号并控制真空机组启闭的控制电路。
采用上述方案,通过根据真空罐需要真空度的要求控制第一控制阀门、第二控制阀门以及第三控制阀门闭合或者断开,从而控制真空机组设置的第一真空泵、第二真空泵以及第三真空泵逐级启动,使真空机组对真空罐抽真空,加大了抽真空的速度,也使真空度更高,且通过真空传感器检测的真空度并形成真空度检测信号输出至比较电路,且比较电路接收到真空度检测信号与预设的真空度基准值比较后输出比较信号至控制电路,控制电路根据比较信号控制真空机组的逐级启闭,使真空机组的启闭自动化,节省人力。
作为优选,所述比较电路包括:第一比较单元,预设第一真空度基准值且耦接于真空传感器以接收真空度检测信号、并输出第一比较信号;第二比较单元,预设第二真空度基准值且耦接于真空传感器以接收真空度检测信号、并输出第二比较信号;第三比较单元,预设第三真空度基准值且耦接于真空传感器以接收真空度检测信号、并输出第三比较信号;所述控制电路包括:第一控制单元,耦接于所述第一比较单元以接收第一比较信号、并输出第一控制信号;第二控制单元,耦接于所述第二比较单元以接收第二比较信号、并输出第二控制信号;第三控制单元,耦接于所述第三比较单元以接收第三比较信号、并输出第三控制信号。
采用上述方案,第一比较单元接收真空度检测信号与预设的第一真空度基准值比较后输出第一比较信号至第一控制单元,第一控制单元接收第一比较信号后控制第二真空泵的启闭,从而实现真空机组的一级抽真空,第二比较单元以接收真空度检测信号与第二真空度基准值比较后输出第二比较信号至第二控制单元,第二控制单元接收第二比较信号输出第二控制信号以控制第三真空泵启闭,实现真空机组的二级抽真空,第三比较单元以接收真空度检测信号并与预设的第三真空度基准值比较后输出第三比较信号至第三控制单元,第三控制单元接收第三比较信号后输出第三控制信号控制整个电路的启闭,从而完成真空罐的抽真空。
作为优选,所述支撑架和真空机组上设置有将真空机组固定安装于所述支撑架上的固定组件,所述固定组件包括:安装于所述支撑架上、用于支撑所述真空机组的支撑杆,所述支撑杆上开设有滑动槽,所述支撑杆的侧壁上开设有连通所述滑动槽的锁定孔;安装于所述真空机组上插入所述滑动槽的滑块,所述滑块的侧壁上开设有放置槽;安装于所述滑块上、伸出所述锁定孔的锁定块;一端连接所述锁定块、另一端安装于所述放置槽内的弹性件,以及,安装于所述锁定块上、伸出所述滑块的拉绳。
采用上述方案,真空机组上的滑块沿支撑杆的滑动槽滑动,锁定块被滑动槽挤压从而锁定块退回放置槽内,当锁定块移动至锁定孔时,由于弹性件的回复力使锁定块卡入锁定孔,从而将真空机组锁定安装于支撑架上,当需要将真空机组拆卸下来,只需要拉动拉绳以使拉绳带动卡块退出锁定孔,从而将真空机组上的滑块移出滑动槽上从而完成真空机组拆卸,使真空机组安装与拆卸于支撑架上简易、轻松,方便真空机组的维修、更换。
作为优选,所述锁定块设有沿滑动槽开设方向的引导面。
采用上述方案,锁定块设有沿滑动槽开设方向的引导面,便于锁定块在滑块带动上沿滑动槽移动时,锁定块的引导面设置能够便于锁定块被滑动槽的侧壁挤压退回至放置槽内,从而不影响滑块沿滑动槽移动。
作为优选,所述拉绳伸出滑块的一端设置有拉环。
采用上述方案,拉伸伸出滑块的一端设置有拉环,有利于操作人员握住拉环以拉动拉绳,从而便于拉伸带动锁定块退出锁定孔,方便操作人员施力。
作为优选,所述真空罐顶部开设有罐口,所述真空罐顶部铰接有铰接臂,所述铰接臂的活动端转动式安装有、盖盒所述罐口的盖体,所述盖体与所述罐口螺纹安装;所述第一连接管道螺纹连接所述盖体,所述罐口内设置有过滤筒。
采用上述方案,通过真空罐上的罐口设置有过滤筒,有利于将真空铸造机组和灌石膏机组被真空罐抽真空时,通过过滤筒将灌石膏机组或者真空铸造机排出的残渣过滤,防止这些残渣在抽真空的强劲冲力下冲击真空罐的内表面,造成真空罐的损坏,且通过盖体螺纹安装于罐口处,便于可将盖体打开以将过滤筒清理干净,且盖体与罐口螺纹安装也不影响真空罐的密封性。
作为优选,所述罐口处设置有密封圈。
采用上述方案,罐口处设置密封圈,有利于进一步增加真空罐与盖体连接的密封性,进一步提高真空罐的密封性。
综上所述,本实用新型具有以下有益效果: 1、真空机组对真空罐进行真空处理后,控制第一电磁阀门使真空罐对真空铸造机组进行抽真空,控制第二电磁阀门使真空罐对灌石膏机组抽真空,由此方式不仅节省真空泵的数量,且能够加快真空铸造机组与灌石膏机组的抽真空速度。
附图说明
图1是本实用新型实施例的结构示意图;
图2是本实用新型实施例的部分剖视图;
图3是图2中A的放大图;
图4是图2中B的放大图;
图5是本实用新型实施例的电路原理图。
附图标记:1、真空铸造机组;2、灌石膏机组;3、支撑架;4、真空机组;41、第一真空泵;42、第二真空泵;43、第三真空泵;44、第一控制阀门;45、第二控制阀门;46、第三控制阀门;5、真空罐;51、罐口;52、铰接臂;53、盖体;54、过滤筒;55、密封圈;6、第一连接管道;7、第二连接管道;8、第一电磁阀门;9、第二电磁阀门;10、真空传感器;11、比较电路;111、第一比较单元;112、第二比较单元;113、第三比较单元;12、控制电路;121、第一控制单元;122、第二控制单元;123、第三控制单元;124、自锁单元;13、固定组件;131、支撑杆;132、滑动槽;133、锁定孔;134、滑块;135、放置槽;136、锁定块;137、弹性件;138、拉绳;139、拉环。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
具体实施例:一种用于珠宝制作初胚的真空系统,如图1所示,灌石膏机组2,灌石膏机组2旁设置有、灌石膏机组2后进行离心浇铸的真空铸造机组1,真空铸造机旁设置有支撑架3,支撑架3上设置有、用于对真空铸造机组1和灌石膏机组2抽真空的真空机组4,且真空机组4旁设置有真空罐5,真空机组4上设置有第一连接管道6,第一连接管道6远离真空机组4的一端连接真空罐5,使真空机组4通过第一连接管道6对真空罐5抽真空。真空罐5上连接有第二连接管道7,第二连接管道7远离真空罐5的一端连接真空铸造机组1与灌石膏机组2,且真空铸造机组1上设置有第一电磁阀门8,第一电磁阀门8控制真空铸造机组1与第二连接管道7的通断,从而使真空罐5对真空铸造机组1抽真空。灌石膏机组2上设置有第二电磁阀门9,第二电磁阀门9控制灌石膏机组2与第二连接管道7的通断,从而使真空罐5对灌石膏机组2进行抽真空。灌石膏机组2设置有若干个灌石膏机,且第二电磁阀门9设置有若干个,分别控制灌石膏机组2的抽真空。真空铸造机组1设置有若干个真空铸造机,同时第一电磁阀门8设置有若干个,分别控制真空铸造机组1抽真空,通过真空机组4对真空罐5进行抽真空后,根据灌石膏机组2或者真空铸造机组1需要进行抽真空,从而控制第一电磁阀门8或者第二电磁阀门9,从而使真空罐5对灌石膏机组2或者真空铸造机组1抽真空,通过如此抽真空方式,节省真空泵的数量,且能够加快真空铸造机组1和灌石膏机组2的抽真空速度。
如图2和图3所示,真空机组4和支撑架3上设置有将真空机组4固定安装于支撑架3上的固定组件13,固定组件13包括支撑杆131、滑块134、锁定块136、弹性件137以及拉绳138;支撑杆131安装于支撑架3内,且支撑杆131上开设有滑动槽132,且支撑杆131的侧壁上开设有连通滑动槽132的锁定孔133,锁定孔133位于滑动槽132开设的末端。滑块134固定设置于真空机组4的底部,滑块134可沿滑动槽132移动,从而带动真空机组4沿滑动槽132移动。滑块134的两侧壁上开设有放置槽135,且滑块134上设置有、伸出放置槽135的锁定块136,锁定块136设有沿滑动槽132开设方向的引导面,便于锁定块136伸入滑动槽132时能够通过引导面引导退回放置槽135。弹性件137设置有放置槽135内连接锁定块136,在本实施例中弹性件137为弹簧,在其他实施例中弹性件137可为弹片、弹块等。拉绳138安装于锁定块136上且拉绳138伸出滑块134,通过向下拉动拉绳138从而带动锁定块136挤压弹性件137。拉绳138伸出滑块134的一端设置有拉环139,通过拉环139便于操作人员拉动拉绳138从而带动锁定块136退出锁定孔133。当滑块134沿滑动槽132移动时,锁定块136被滑动槽132挤压,通过锁定块136的引导面退回放置槽135内,当锁定块136移动至锁定孔133时,由于弹性件137的回复力,使锁定块136弹出锁定孔133,从而实现真空机组4固定安装于支撑架3上。当真空机组4需要拆卸下来时,拉动拉环139,拉环139带动拉绳138将锁定块136退出锁定孔133,即可将滑块134移出滑动槽132,从而将真空机组4移出滑动槽132,使真空机组4安装或者拆卸于支撑架3上简易、轻松。
如图2和图4所示,真空罐5顶部开设有罐口51,且罐口51内设置有、用于将真空铸造机组1和灌石膏机组2排入真空罐5内的残渣和粉末进行过滤的过滤筒54,防止排入的残渣冲击真空罐5内,延长真空罐5体的使用寿命。真空罐5体的底部铰接有铰接臂52,铰接臂52的活动端转动式连接有、用于盖盒真空罐5的罐口51的盖体53,且罐口51处设置为螺纹面,则盖体53与罐口51螺纹旋转密封。有利于将盖体53螺纹旋转打开从而将过滤网取出清理,且罐口51处设置有密封圈55,进一步增加罐口51与盖体53的密封性,保证真空罐5的密封性,且第一连接管道6与盖体53螺纹连接,便于在盖体53打开时,能够先将第一连接管道6螺纹转动取出后再打开盖体53,防止直接打开盖体53导致第一连接管道6损坏。
如图2和图5所示,真空机组4包括:第一真空泵41、第二真空泵42以及第三真空泵43,第一真空泵41上设置有控制第一真空泵41启闭的第一控制阀门44,第二真空泵42上设置有控制第二真空泵42启闭的第二控制阀门45,第三真空泵43上设置有控制第三真空泵43启闭的第三控制阀门46,真空罐5上设置有检测真空罐5的真空度、以形成真空度检测信号的真空传感器10,在本实施例中真空传感器10的型号为MIK-P300。MIK-P300型号的真空传感器10主要检测空气中的压强,且电压与压强成正比,所以真空传感器10输出的电压越低则真空度越高。真空传感器10耦接有预设真空度基准值且接收真空度检测信号、并输出比较信号的比较电路11,比较电路11耦接有以接收比较信号并控制真空机组4启闭的控制电路12。
比较电路11包括:第一比较单元111、第二比较单元112以及第三比较单元113,第一比较单元111预设第一真空度基准值且耦接于真空传感器10以接收真空度检测信号、并输出第一比较信号,第二比较单元112预设第二真空度基准值且耦接于真空传感器10以接收真空度检测信号、并输出第二比较信号,第三比较单元113,预设第三真空度基准值且耦接于真空传感器10以接收真空度检测信号、并输出第三比较信号。通过第一比较单元111预设第一真空度基准值且接收真空度检测信号且输出第一比较信号实现第一级真空度的要求,第二比较单元112预设第二真空度基准值且接收真空度检测信号并输出第二比较信号从而实现真空罐5第二级真空度的要求,第三比较单元113预设第三真空度基准值以接收真空度检测信号并输出第三比较信号,从而实现真空罐5的第三级真空度要求。
第一比较单元111包括第一比较器A1,第一比较器A1的反相输入端耦接于真空传感器10,第一比较器A1的同相输入端耦接于第一基准值电压,在本实施例中第一基准值电压为7V,当真空传感器10输出的电压值低于第一基准值电压,则第一比较器A1输出高电平。第二比较单元112包括第二比较器A2,第二比较器A1的反相输入端耦接于真空传感器10,第二比较器A2的同相输入端耦接于第二基准值电压,第二基准值电压为5V,当真空传感器10的输入电压低于第二基准值电压时,第二比较器A2输出高电平。第三比较单元113包括第三比较器A3,第三比较器A3的反相输入端耦接于真空传感器10,第三比较器A3的同相输入端耦接于第三基准值电压第三基准值电压为3.3V,当真空传感器10输出的电压值低于第三基准值电压则第三比较器A3输出高电平。逐级比较真空传感器10所输出的电压值,从而实现不同控制阀门的控制。
控制电路12包括:第一控制单元121、第二控制单元122以及第三控制单元123,第一控制单元121耦接于第一比较单元111以接收第一比较信号、并输出第一控制信号,第二控制单元122耦接于第二比较单元112以接收第二比较信号、并输出第二控制信号,第三控制单元123耦接于第三比较单元113以接收第三比较信号、并输出第三控制信号,第三控制信号上耦接有自锁单元124,自锁单元124以接收第三控制信号并将第三控制单元123自锁,从而保持第三控制单元123保持工作。第一控制单元121包括NPN第一三极管Q1、第一继电器KM1,NPN第一三极管Q1的基极耦接于第一比较器A1的输出端,NPN第一三极管Q1的集电极耦接于第一继电器KM1后接电源,第一继电器KM1的常开触点耦接于所述第二控制阀门45的供电回路,NPN第一三极管Q1的发射极接地。第一真空泵41与真空传感器10连接有双控开关,当将双控开关闭合,则第一真空泵41与传感器10同时工作。当真空罐5内的真空度超过第一比较器A预设的第一真空度基准值,则第一比较器A1输出高电平,NPN第一三极管Q1导通,则第一继电器KM1启动,从而第一继电器KM1的线圈通电,则第一继电器KM1的常开触点闭合使第二控制阀门45闭合,从而第二真空泵42启动。
第二控制单元122包括:NPN第二三极管Q2以及第二继电器KM2,NPN第二三极管Q2的基极耦接于第二比较器A的输出端,NPN第二三极管Q2的集电极耦接于第二继电器KM2后接电源,第二继电器KM2的常开触点耦接于第三控制阀门46的供电回路,NPN第二三极管Q2的发射极接地,当第一真空泵41与第二真空泵42一起启动后对真空罐5进行真空处理,当真空罐5内的真空度超过第二比较器A2预设的第二真空度基准值,则第二比较器A2输出高电平,则NPN第二三极管Q2导通,第二继电器KM2的线圈闭合,从而使第二继电器KM2的常开触点闭合,使第三控制阀门46闭合从而使第三真空泵43启动。
第三控制单元123包括:NPN第三三极管Q3以及第三继电器KM3;NPN第三三极管Q3的基极耦接于第三比较器A3的输出端,NPN第三三极管Q3的集电极耦接于第三继电器KM3后接电源,第三继电器KM3的常闭触点耦接于真空传感器10的供电回路,NPN第三三极管Q3的发射极接地。自锁单元124为第三继电器KM3的常开触点,第三继电器KM3的常开触点一端耦接于NPN第三三极管Q3的集电极另一端连接NPN第三三极管Q3的发射极。当真空传感器10检测的真空度高于第三真空度基准值时,则第三比较器A3输出高电平,NPN第三三极管Q3导通,则第三继电器KM3的线圈通电,则第三继电器KM3的常开触点闭合以将第三继电器KM3保持工作,从而第三继电器KM3的常闭触点断开,则真空传感器10停止工作,则整个真空机组4停止工作完成真空罐5的真空处理。
具体工作过程:当真空传感器10开始运动时,则第一控制阀门44闭合以将第一真空泵41启动对真空罐5进行真空处理,当真空罐5内的真空度超过第一真空度基准值,则第一比较器A1的同相输入端的电压高于第一基准值电压,从而第一比较器A1输出高电平,则NPN第一三极管Q1导通,第一继电器KM1的线圈通电从而第一继电器KM1的常开触点闭合,则第二控制阀门45闭合第二真空泵42启动,使第二真空泵42与第一真空泵41同时对真空罐5进行真空处理。当第一真空泵41与第二真空泵42同时工作后真空罐5的真空度超过第二真空度基准值,则第二比较器A的同相输入端的电压值高于反相输入端的电压,则第二比较器A2输出高电平,则NPN第二三极管Q2导通,则第二继电器KM2的常开触点闭合,使第三控制阀门46闭合控制第三真空泵43启动,从而第三真空泵43与第二真空泵42、第一真空泵41同时对真空罐5进行真空处理。当真空传感器10检测的真空度高于第三真空度基准值,则第三比较器A3的同相输入端的电压值高于反相输入端的电压值,则NPN第三三极管Q3导通,第三继电器KM3的常开触点闭合以将第三继电器KM3保持工作,第三继电器KM3的常闭触点断开,则真空传感器10停止工作,则整个真空机组4停止工作完真空罐5的真空度处理。使真空机组4的控制自动化,且逐级启动节省真空机组4同时工作的能量,且节省人力。
设置有以上所述的实施方式,并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在该技术方案的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种用于珠宝制作初胚的真空系统,包括:真空铸造机组(1),安装于所述真空铸造机组(1)旁、用于将所述真空铸造机组(1)加工前的珠宝模型进行石膏凝固的灌石膏机组(2),其特征在于,还包括支撑架(3);
安装于所述支撑架(3)上、用于对真空铸造机组(1)和灌石膏机组(2)进行真空处理的真空机组(4);
安装于所述真空机组(4)旁、真空机组(4)对其进行真空处理的真空罐(5);
一端连接所述真空罐(5)、另一端连接所述真空机组(4)的第一连接管道(6);
一端连接所述真空罐(5)、另一端连接所述真空铸造机组(1)和所述灌石膏机组(2)的第二连接管道(7);
安装于所述真空铸造机组(1)上、控制第二连接管道(7)与真空铸造机组(1)通断的第一电磁阀门(8);以及,
安装于所述灌石膏机组(2)上、控制第二连接管道(7)与灌石膏机组(2)通断的第二电磁阀门(9)。
2.根据权利要求1所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述真空机组(4)包括:第一真空泵(41)、第二真空泵(42)以及第三真空泵(43),所述第一真空泵(41)上设置有控制第一真空泵(41)启闭的第一控制阀门(44),所述第二真空泵(42)上设置有控制第二真空泵(42)启闭的第二控制阀门(45),所述第三真空泵(43)上设置有控制第三真空泵(43)启闭的第三控制阀门(46),所述真空罐(5)上设置有检测真空罐(5)的真空度、以形成真空度检测信号的真空传感器(10),所述真空传感器(10)耦接有预设真空度基准值且接收真空度检测信号、并输出比较信号的比较电路(11),比较电路(11)耦接有以接收比较信号并控制真空机组(4)启闭的控制电路(12)。
3.根据权利要求2所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述比较电路(11)包括:第一比较单元(111),预设第一真空度基准值且耦接于真空传感器(10)以接收真空度检测信号、并输出第一比较信号;
第二比较单元(112),预设第二真空度基准值且耦接于真空传感器(10)以接收真空度检测信号、并输出第二比较信号;
第三比较单元(113),预设第三真空度基准值且耦接于真空传感器(10)以接收真空度检测信号、并输出第三比较信号;
所述控制电路(12)包括:
第一控制单元(121),耦接于所述第一比较单元(111)以接收第一比较信号、并输出第一控制信号;
第二控制单元(122),耦接于所述第二比较单元(112)以接收第二比较信号、并输出第二控制信号;
第三控制单元(123),耦接于所述第三比较单元(113)以接收第三比较信号、并输出第三控制信号。
4.根据权利要求1所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述支撑架(3)和真空机组(4)上设置有将真空机组(4)固定安装于所述支撑架(3)上的固定组件(13),所述固定组件(13)包括:安装于所述支撑架(3)上、用于支撑所述真空机组(4)的支撑杆(131),所述支撑杆(131)上开设有滑动槽(132),所述支撑杆(131)的侧壁上开设有连通所述滑动槽(132)的锁定孔(133);
安装于所述真空机组(4)上插入所述滑动槽(132)的滑块(134),所述滑块(134)的侧壁上开设有放置槽(135);
安装于所述滑块(134)上、伸出所述锁定孔(133)的锁定块(136);
一端连接所述锁定块(136)、另一端安装于所述放置槽(135)内的弹性件(137),以及,
安装于所述锁定块(136)上、伸出所述滑块(134)的拉绳(138)。
5.根据权利要求4所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述锁定块(136)设有沿滑动槽(132)开设方向的引导面。
6.根据权利要求5所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述拉绳(138)伸出滑块(134)的一端设置有拉环(139)。
7.根据权利要求1所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述真空罐(5)顶部开设有罐口(51),所述真空罐(5)顶部铰接有铰接臂(52),所述铰接臂(52)的活动端转动式安装有、盖盒所述罐口(51)的盖体(53),所述盖体(53)与所述罐口(51)螺纹安装;所述第一连接管道(6)螺纹连接所述盖体(53),所述罐口(51)内设置有过滤筒(54)。
8.根据权利要求7所述的一种用于珠宝制作初胚的真空系统,其特征在于,所述罐口(51)处设置有密封圈(55)。
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