CN209103708U - 一种非导镜面显示面板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种非导镜面显示面板,包括电子玻璃基片和在玻璃基片表面设置的功能膜系，所述功能膜系依玻璃接片表面排列为第一层Nb2O3薄膜层，第二层Nb2O3薄膜层，第三层SIO2薄膜层，第四层SIO2薄膜层，第五层Nb2O3薄膜层，第六层Nb2O3薄膜层，第七层SIO2薄膜层，第八层SIO2薄膜层，第九层Nb2O3薄膜层，第十层Nb2O3薄膜层。本实用新型采用高折射（Nb2O3）和低折射（SIO2）纳米级薄膜叠加组成的功能膜系，通过不同单薄膜层厚度介质完成了相消光学干涉，从而达到显示器面板的高反射率，实现了电子显示器面板的非导镜显效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及电子显示器面板技术领域，尤其涉及一种非导镜面显示面板。
背景技术
随着电子科学技术的飞速发展，智能电子显示屏也快速走进人们的生活和工作中来，传统的电子显示屏面板由于高透低反等光学特性已很难满足当今智能电子显示面板更多的实用性和更高的技术要求。比如智能卫浴镜，智能穿衣镜，智能教学机，智能电视机等智能电子显示屏面板不仅要求显示屏面板不导电而且要具备较高反射比的镜显效果。因此，一种非导镜面显示面板应运而生。
发明内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种非导镜面显示面板。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种非导镜面显示面板，其特征在于：包括电子玻璃基片和在玻璃基片表面设置的功能膜系，所述功能膜系依玻璃基片表面排列为第一层Nb2O3薄膜层，第二层Nb2O3薄膜层，第三层SIO2薄膜层，第四层SIO2薄膜层，第五层Nb2O3薄膜层，第六层Nb2O3薄膜层，第七层SIO2薄膜层，第八层SIO2薄膜层，第九层Nb2O3薄膜层，第十层Nb2O3薄膜层。
进一步的，所述功能膜系第一、二层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为54μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，本底真空度3X10-3Pa。
进一步的，所述功能膜系第三、四层SIO2膜层，溅射沉积薄膜厚度均为36μm，溅射工作气体Ar流量150ml/min，溅射反应气体02流量200ml/min，本底真空度3X10-3Pa。
进一步的，所述功能膜系第五、六层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为32μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，本底真空度3X10-3Pa。
进一步的，所述功能膜系第七、八层SIO2膜层，溅射沉积薄膜厚度均为31μm，溅射工作气体Ar流量150ml/min，溅射反应气体02流量200ml/min，本底真空度2X10-3Pa。
进一步的，所述功能膜系第九、十层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为32μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，本底真空度3X10-3Pa。
进一步的，本实用新型通过在电子玻璃基片表面设置功能系，面板表面反射率达到70%以上，可见光透过率小于30%，光学特性完全区别于传统的显示面板。
进一步的，本实用新型通过在玻璃表面设置叠加功能膜系，实现了显示面板的镜显效果，由于功能膜系所沉积的氧化物膜层Nb2O3和SIO2均为非导材料，也同时实现了显示面板的非导性。
与现有技术相比，本实用新型提出了一种非导镜面显示面板，具有以下有益效果：
本实用新型采用高折射（Nb2O3）和低折射（SIO2）纳米级薄膜叠加组成的功能膜系，通过不同单薄膜层厚度介质完成了相消光学干涉，从而达到显示器面板的高反射率，实现了电子显示器面板的非导镜显效果。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种非导镜面显示面板的整体的结构示意图。
图中：1 Nb2O3薄膜层，2 Nb2O3薄膜层，3 SIO2薄膜层，4 SIO2薄膜层，5 Nb2O3薄膜层，6 Nb2O3薄膜层，7 SIO2薄膜层，8 SIO2薄膜层，9 Nb2O3薄膜层，10 Nb2O3薄膜层，11电子玻璃基片。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、 “外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
请参照图1，一种非导镜面显示面板，包括电子玻璃基片附图中11和在玻璃基片11表面设置的功能膜系，功能膜系依玻璃基片11表面依玻璃基片表面排列为第一层Nb2O3膜层图中1，第二层Nb2O3膜层图中2，第三层SIO2膜层图中3，第四层SIO2膜层图中4，第五层Nb2O3膜层图中5，第六层Nb2O3膜层图中6，第七层SIO2膜层图中7，第八层SIO2膜层图中8，第九层Nb2O3膜层图中9，第十层Nb2O3膜层图中10。
所述功能膜系第一、二层Nb2O3膜层图中1、2，采用中频反应磁控溅射技术，溅射工作均为28KW，溅射沉积厚度均为54μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，基片温度200°C,基片装载架移动速率1.2m/min，本底真空度3X10-3Pa。
所述功能膜系第三、四层SIO2膜层图中3、4，采用中频反应磁控溅射技术，溅射工作均为22KW，溅射沉积厚度均为36μm，溅射工作气体Ar流量150ml/min，溅射反应气体02流量200ml/min，基片温度220°C,基片装载架移动速率1.2m/min，本底真空度2X10-3Pa。
所述功能膜系第五、六层Nb2O3膜层图中5、6，采用中频反应磁控溅射技术，溅射工作均为20KW，溅射沉积厚度均为32μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，基片温度240°C,基片装载架移动速率1.2m/min，本底真空度3X10-3Pa。
所述功能膜系第七、八层SIO2膜层图中7、8，采用中频反应磁控溅射技术，溅射工作均为18KW，溅射沉积厚度均为31μm，溅射工作气体Ar流量150ml/min，溅射反应气体02流量200ml/min，基片温度220°C,基片装载架移动速率1.2m/min，本底真空度2X10-3Pa。
所述功能膜系第九、十层Nb2O3膜层图中9、10，采用中频反应磁控溅射技术，溅射工作均为21KW，溅射沉积厚度均为32μm，溅射工作气体Ar流量100ml/min，溅射反应气体02流量150ml/min，基片温度200°C,基片装载架移动速率1.2m/min，本底真空度3X10-3Pa。
本实用新型中，使用时，功能膜系依玻璃接片表面排列为第一层Nb2O3薄膜层，第二层Nb2O3薄膜层，第三层SIO2薄膜层，第四层SIO2薄膜层，第五层Nb2O3薄膜层，第六层Nb2O3薄膜层，第七层SIO2薄膜层，第八层SIO2薄膜层，第九层Nb2O3薄膜层，第十层Nb2O3薄膜层。本实用新型采用高折射（Nb2O3）和低折射（SIO2）纳米级薄膜叠加组成的功能膜系，通过不同单薄膜层厚度介质完成了相消光学干涉，从而达到显示器面板的高反射率，实现了电子显示器面板的非导镜显效果。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种非导镜面显示面板，包括电子玻璃基片（11）和在玻璃基片表面设置的功能膜系，其特征在于，所述功能膜系依电子玻璃基片表面由内向外依次排列第一、二层Nb2O3薄膜层，第三、四层SIO2薄膜层，第五、六层Nb2O3薄膜层，第七、八层sio2薄膜层，第九、十层Nb2O3薄膜层。
2.根据权利要求1所述的一种非导镜面显示面板，其特征在于，所述第一、二层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为54μm。
3.根据权利要求1所述的一种非导镜面显示面板，其特征在于，3.所述第三、四层SIO2膜层，溅射沉积薄膜厚度均为36μm。
4.根据权利要求1所述的一种非导镜面显示面板，其特征在于，所述第五、六层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为32μm。
5.根据权利要求1所述的一种非导镜面显示面板，其特征在于，所述第七、八层SIO2膜层，溅射沉积薄膜厚度均为31μm。
6.根据权利要求1所述的一种非导镜面显示面板，其特征在于，所述第九、十层Nb2O3膜层，溅射沉积薄膜厚度均为32μm。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113655555A (zh) * | 2021-07-30 | 2021-11-16 | 河南卓金光电科技股份有限公司 | 一种非导炫彩镜面显示面板功能膜系叠置方法 |
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2018
- 2018-12-05 CN CN201822033397.0U patent/CN209103708U/zh not_active Expired - Fee Related
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