CN209049567U - 一种递进真空离心系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种递进真空离心系统，涉及半流体生产加工技术领域，解决了半流体吸入真空泵中，影响真空泵正常使用与除气泡效果的技术问题。其技术要点包括加工罐体、真空泵与输料泵，所述加工罐体的侧壁上设置有连通于罐体内的进料管、出料管与真空管，所述输料泵管道连接于输料泵，所述真空管上设置有真空阀，所述真空管管道连接设置有真空罐，所述真空罐侧壁上连通设置有连接于真空泵的抽气管，本实用新型具有避免容器中半流体进入真空泵，保证对半流体内气泡的消除效果的优点。

Description

一种递进真空离心系统

技术领域

本实用新型涉及半流体生产加工技术领域，更具体地说，它涉及一种递进真空离心系统。

背景技术

在对纤膏、缆膏等半流体进行生产加工过程中，加工环境中的空气可能混入到半流体中，使得半流体内部产生气泡，气泡的存在影响半流体加工成成品后的使用效果，常用的消除气泡的方法是对半流体的加工环境如密封的加工容器进行抽真空作业，从而减少半流体加工时混入的空气量，但由于通过真空泵直接对加工容器进行抽真空可能将容器内的少量半流体吸入真空泵中，影响真空泵的正常使用与除气泡效果。

实用新型内容

针对现有的技术问题，本实用新型的目的在于提供一种递进真空离心系统，其具有避免容器中半流体进入真空泵，保证对半流体内气泡的消除效果。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种递进真空离心系统，包括加工罐体、真空泵与输料泵，所述加工罐体的侧壁上设置有连通于罐体内的进料管、出料管与真空管，所述输料泵管道连接于输料泵，所述真空管上设置有真空阀，其特征在于：所述真空管管道连接设置有真空罐，所述真空罐侧壁上连通设置有连接于真空泵的抽气管。

通过采用上述技术方案，缆膏、纤膏等半流体在输料泵的作用下通过进料管注入加工罐体中进行加工。加工的同时启动真空泵，真空泵先对真空罐进行抽真空，之后打开真空阀，加工罐体内的空气在气压作用下抽至真空罐中，以真空罐为中介，在保证对加工罐体内的空气进行抽吸的同时，加工罐体内被意外抽出的半流体顺着真空管进入真空罐中落至真空罐的罐底，从而避免了半流体进入真空泵中，保证真空泵的正常使用与除气泡效果。

本实用新型进一步设置为：所述真空管侧壁上垂直于管壁设置有平衡阀。

通过采用上述技术方案，平衡阀用于在作业完成后供空气进入加工罐体中以恢复加工罐体内的气压，使得罐体内气压与外界气压相同，方便对加工罐体的开启或者清理作业。

本实用新型进一步设置为：所述真空罐底部设置有用于排出真空罐内半流体的卸料管。

通过采用上述技术方案，卸料管的设置方便将真空罐内收集的半流体从真空罐内导出，有利于真空罐内的清理作业。

本实用新型进一步设置为：所述真空罐底面呈弧形面，其弧形方向朝向远离底部向下突出，所述卸料管设置于底面的中心位置。

通过采用上述技术方案，真空罐底面呈弧形面对真空罐内的半流体起到导向作用，半流体沿弧形面流至位于弧形面中部位置的卸料管管口，提升排出清理效果。

本实用新型进一步设置为：所述真空罐顶部位于卸料管的投影位置上设置有通过管道连通所述真空管的导气管。

通过采用上述技术方案，导气管位于真空罐顶部设置，保证进入真空罐内的半流体直接落至真空罐底部，保证半流体与真空罐同真空泵连通处的间隔设置，进一步避免半流体进入真空泵中。

本实用新型进一步设置为：所述真空罐底部一体设置有支撑架，使得所述真空罐顶部的导气管位于真空管一侧的上方。

通过采用上述技术方案，支撑架的设置用以增高真空罐与其顶部的导气管的水平高度，真空罐上导气管的水平高度位置高于加工罐体上真空管的位置高度，使得连接于二者之间的管道朝向加工罐体一侧倾斜，对经过真空管进入管道内的半流体起到导向作用，进一步减少进入真空罐内的半流体量。

本实用新型进一步设置为：所述进料管与输料泵之间的管路上连接有过滤阀。

通过采用上述技术方案，过滤阀用于过滤输入加工罐体内半流体中的杂质，保证半流体的加工质量，同时也对真空泵起到一定的保护作用，防止杂质进入真空罐与真空泵中。

本实用新型进一步设置为：所述加工罐体侧壁临近其底面设置有排料门。

通过采用上述技术方案，排料门用于在半流体加工作业完成后，方便对加工罐体内残余的半流体进行及时的收集与清理，避免半流体长期残留在加工罐体中。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）通过真空泵与加工罐体之间真空罐的设置，在保证真空泵对加工罐体的抽真空作用的同时，避免半流体进入真空泵中，保证真空泵对半流体内气泡的消除效果；

（2）通过真空罐底部卸料管的设置，方便对真空罐内积存的半流体进行清理；

（3）通过真空罐底面设置呈弧形面，以增强真空罐内半流体的清理效果。

附图说明

图1为本实施例的结构示意图；

图2为本实施例中加工罐体的结构示意图；

图3为本实施例中真空罐的结构示意图。

附图标记：1、加工罐体；11、进料管；12、出料管；13、真空管；131、真空阀；132、平衡阀；14、搅拌罐；141、排料管；142、排料门；15、底座；16、搅拌电机；2、过滤阀；3、真空罐；31、卸料管；32、支撑架；33、导气管；34、抽气管；4、输料泵；5、真空泵。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

实施例，一种递进真空离心系统，如图1所示，包括加工罐体1、真空罐3、输料泵4与真空泵5，加工罐体1侧壁上设置有进料管11、出料管12与真空管13，输料泵4管道连接于进料管11，真空罐3管道连接于真空管13，真空泵5管道连接于真空罐3侧壁上。真空泵5对真空罐3进行抽真空作业，加工罐体1内的空气以及少量半流体通过真空管13进入真空罐3中，从而避免半流体进入真空泵5中，保证对半流体内气泡的消除效果。

如图1、2所示，本实施例中的加工罐体1为搅拌罐14，搅拌罐14呈圆柱形罐体，搅拌罐14的下方设置有底座15，位于搅拌罐14内部设置有搅拌叶片，穿过底座15设置有驱动搅拌叶片转动的搅拌电机16。搅拌罐14临近其底面的侧壁上一体连通设置有排料管141，位于排料管141的管口铰接有圆形的排料门142。进料管11位于排料管141正上方的搅拌罐14侧壁上，位于进料管11与输料泵4之间的管路上连接有过滤阀2，出料管12与进料管11处于同一直线上设置于搅拌罐14的另一侧外壁。真空管13设置于搅拌罐14临近罐体顶部的侧壁上，位于真空管13的管壁上设置有真空阀131，垂直于真空管13管壁还设置有连通真空管13用以供空气进入搅拌罐14内平衡内外界气压的平衡阀132。

如图1、3所示，真空罐3同样呈圆柱形罐体，真空管13的底面呈弧形面，其弧形方向朝向远离真空罐3顶部一侧向下突出，位于真空罐3底面的中心位置设置有带有阀门的卸料管31。位于真空罐3底面的外边沿侧一体连接有支撑架32，支撑架32呈三角支架，使得真空罐3顶面的水平高度高于搅拌罐14顶面。真空罐3底部位于卸料管31的投影位置上连通设置有导气管33，导气管33通过管道连接于真空罐3，导气管33与真空管13之间管道连接，且管道朝向搅拌罐14一侧倾斜向下。真空罐3罐体位于其侧周壁高度的中部一体连接有抽气管34，抽气管34上设置有阀门并通过管道连接于真空泵5。

本实用新型的工作过程和有益效果如下：对缆膏、纤膏等半流体进行加工处理前，先通过输料泵4将半流体输入加工罐体1中进行加工，同时启动真空泵5并打开阀门，在搅拌罐14搅拌对半流体搅拌工作的同时，搅拌罐14内的空气不断抽取至真空罐3中，从而实现对半流体内的气泡的消除。通过真空泵5对真空罐3抽真空，再通过搅拌罐14与真空罐3之间的压强差，使得搅拌罐14内的空气不断进入真空罐3，少量随空气流动的半流体进入到真空罐3中，避免了半流体进入到了真空泵5中从而保证了真空泵5的正常使用以及对搅拌罐14内的除气泡效果。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种递进真空离心系统，包括加工罐体（1）、真空泵（5）与输料泵（4），所述加工罐体（1）的侧壁上设置有连通于罐体内的进料管（11）、出料管（12）与真空管（13），所述输料泵（4）管道连接于输料泵（4），所述真空管（13）上设置有真空阀（131），其特征在于：所述真空管（13）管道连接设置有真空罐（3），所述真空罐（3）侧壁上连通设置有连接于真空泵（5）的抽气管（34）。

2.根据权利要求1所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述真空管（13）侧壁上垂直于管壁设置有平衡阀（132）。

3.根据权利要求1所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述真空罐（3）底部设置有用于排出真空罐（3）内半流体的卸料管（31）。

4.根据权利要求3所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述真空罐（3）底面呈弧形面，其弧形方向朝向远离底部向下突出，所述卸料管（31）设置于底面的中心位置。

5.根据权利要求4所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述真空罐（3）顶部位于卸料管（31）的投影位置上设置有通过管道连通所述真空管（13）的导气管（33）。

6.根据权利要求5所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述真空罐（3）底部一体设置有支撑架（32），使得所述真空罐（3）顶部的导气管（33）位于真空管（13）一侧的上方。

7.根据权利要求1所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述进料管（11）与输料泵（4）之间的管路上连接有过滤阀（2）。

8.根据权利要求1所述的一种递进真空离心系统，其特征在于：所述加工罐体（1）侧壁临近其底面设置有排料门（142）。