CN208964812U - 一种均匀型湿法刻蚀装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种均匀型湿法刻蚀装置,包括:刻蚀腔、进液口、若干导流板、若干转轴、若干分流筒、电机、转台和刻蚀台,所述若干导流板设置在所述刻蚀腔的内部的顶部,所述若干转轴转动连接所述刻蚀腔的内部且位于所述若干导流板的下方,所述若干分流筒分别固定连接所述若干转轴。通过上述方式,本实用新型均匀型湿法刻蚀装置通过采用若干分流筒等间距水平排列在进液口的下方,将刻蚀液均匀分散下落到刻蚀腔内,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均,有利于提高刻蚀的均匀度和品质,结构新颖、操作简便、性能稳定、方便实用,在均匀型湿法刻蚀装置的普及上有着广泛的市场前景。

Description

一种均匀型湿法刻蚀装置
技术领域
本实用新型涉及电子元器件加工领域,特别是涉及一种均匀型湿法刻蚀装置。
背景技术
电子元器件是电子元件和电小型的机器、仪器的组成部分,其本身常由若干零件构成,可以在同类产品中通用;常指电器、无线电、仪表等工业的某些零件,如电容、晶体管、游丝、发条等子器件的总称。
液晶显示屏是常用的电子元器件之一,现有的液晶显示屏在加工时,常存在刻蚀不均匀等缺点,严重影响液晶显示屏的品质。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种均匀型湿法刻蚀装置,通过采用若干分流筒等间距水平排列在进液口的下方,将刻蚀液均匀分散下落到刻蚀腔内,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均,有利于提高刻蚀的均匀度和品质,结构新颖、操作简便、性能稳定、方便实用,在均匀型湿法刻蚀装置的普及上有着广泛的市场前景。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种均匀型湿法刻蚀装置,包括:刻蚀腔、进液口、若干导流板、若干转轴、若干分流筒、电机、转台和刻蚀台,所述进液口连通连接所述刻蚀腔的顶部,所述若干导流板设置在所述刻蚀腔的内部的顶部且朝向所述进液口,所述若干转轴转动连接所述刻蚀腔的内部且位于所述若干导流板的下方,所述若干分流筒分别固定连接所述若干转轴随所述转轴转动,所述电机设置在所述刻蚀腔的底部,所述电机连接并驱动所述转台转动,所述转台位于所述刻蚀腔的内部的底部,所述刻蚀台固定连接所述转台随所述转台转动,所述刻蚀台朝向所述若干分流筒。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述进液口的口径向远离所述刻蚀腔的方向逐渐增大。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述导流板与水平面呈第一角度向下倾斜设置。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述第一角度为30-60°。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述若干转轴依次水平排列。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述若干转轴等间距排列。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述若干分流筒之间的间距小于1mm。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述电机的转速为1-6r/min。
本实用新型的有益效果是:本实用新型均匀型湿法刻蚀装置通过采用若干分流筒等间距水平排列在进液口的下方,将刻蚀液均匀分散下落到刻蚀腔内,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均,有利于提高刻蚀的均匀度和品质,结构新颖、操作简便、性能稳定、方便实用,在均匀型湿法刻蚀装置的普及上有着广泛的市场前景。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1是本实用新型的均匀型湿法刻蚀装置一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型实施例包括:
一种均匀型湿法刻蚀装置,包括:刻蚀腔1、进液口2、若干导流板3、若干转轴4、若干分流筒5、电机6、转台7和刻蚀台8。
所述进液口2连通连接所述刻蚀腔1的顶部,所述若干导流板3设置在所述刻蚀腔1的内部的顶部且朝向所述进液口2,对刻蚀液进行导流,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均;所述若干转轴4转动连接所述刻蚀腔1的内部且位于所述若干导流板3的下方,所述若干分流筒5分别固定连接所述若干转轴4随所述转轴4转动,刻蚀液下降时,一方面冲击分流筒5会带动分流筒5转动,将刻蚀液的冲击能量转化为分流筒5的动能,进而降低刻蚀液的下降速度,防止刻蚀液冲击刻蚀物件后喷溅出去造成浪费,另一方面,若干分流筒5之间的间隙会将刻蚀液均匀分散,有利于提高刻蚀液下落的均匀度、进而提高刻蚀的均匀度,将刻蚀液均匀分散下落到刻蚀腔1内,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均,有利于提高刻蚀的均匀度和品质,结构新颖、操作简便、性能稳定、方便实用;所述电机6设置在所述刻蚀腔1的底部,所述电机6连接并驱动所述转台7转动,所述转台7位于所述刻蚀腔1的内部的底部,所述刻蚀台8固定连接所述转台7随所述转台7转动,所述刻蚀台8朝向所述若干分流筒5,使得待刻蚀的物件搁置在刻蚀台8上随刻蚀台8一起转动,有利于刻蚀液与物品表面充分接触,有利于提高刻蚀的均匀度和充分性,提高刻蚀的效率和品质。
优选地,所述进液口2的口径向远离所述刻蚀腔1的方向逐渐增大。
优选地,所述导流板3与水平面呈第一角度向下倾斜设置。
优选地,所述第一角度为30-60°。
优选地,所述若干转轴4依次水平排列。
优选地,所述若干转轴4等间距排列。
优选地,所述若干分流筒5之间的间距小于1mm。
优选地,所述电机6的转速为1-6r/min。
本实用新型均匀型湿法刻蚀装置的有益效果是:
一、通过采用向下倾斜设置的导流板设置在进液口的下方,对刻蚀液进行导流,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均;
二、通过采用若干分流筒等间距水平排列在进液口的下方,将刻蚀液均匀分散下落到刻蚀腔内,防止刻蚀液分散不均导致刻蚀不均,有利于提高刻蚀的均匀度和品质,结构新颖、操作简便、性能稳定、方便实用;
三、通过采用电机带动转台进而带动刻蚀台转动,使得搁置在刻蚀台上的物件随着转动,有利于刻蚀液与物品表面充分接触,有利于提高刻蚀的均匀度和充分性,提高刻蚀的效率和品质。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,包括:刻蚀腔、进液口、若干导流板、若干转轴、若干分流筒、电机、转台和刻蚀台,所述进液口连通连接所述刻蚀腔的顶部,所述若干导流板设置在所述刻蚀腔的内部的顶部且朝向所述进液口,所述若干转轴转动连接所述刻蚀腔的内部且位于所述若干导流板的下方,所述若干分流筒分别固定连接所述若干转轴随所述转轴转动,所述电机设置在所述刻蚀腔的底部,所述电机连接并驱动所述转台转动,所述转台位于所述刻蚀腔的内部的底部,所述刻蚀台固定连接所述转台随所述转台转动,所述刻蚀台朝向所述若干分流筒。
2.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述进液口的口径向远离所述刻蚀腔的方向逐渐增大。
3.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述导流板与水平面呈第一角度向下倾斜设置。
4.根据权利要求3所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述第一角度为30-60°。
5.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述若干转轴依次水平排列。
6.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述若干转轴等间距排列。
7.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述若干分流筒之间的间距小于1mm。
8.根据权利要求1所述的均匀型湿法刻蚀装置,其特征在于,所述电机的转速为1-6r/min。
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