CN208938541U - 一种光照设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供的一种光照设备，该设备包括：支撑载台、光源组件和冷却机构；所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧，所述光源组件被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台上的目标对象；所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。本实用新型实施例中，能够根据目标对象吸收波长的大小，使用发射指定波长光线的光源，提高光线利用率，避免光损失。

Description

一种光照设备

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种光照设备。

背景技术

在显示屏的制备过程中，器件的曝光、固化和封装等工艺均需要光照。目前，光照射工艺使用的是汞灯或金属卤素灯作为光源。而汞灯或金属卤素灯发出的光的波长是混合波长，混合波长不能直接用于光照射工艺，需进行滤光，滤光会出现光损失，对光照射工艺的稳定性具有一定的影响。而且由于汞灯含有重金属和臭氧，会对人体造成伤害，所以照射的时候工人需与光源保持较大的距离，而且汞灯为照射均匀也需要和待照射对象保持一定的距离。以至于汞灯发出的光线出现较大的损失。

实用新型内容

本实用新型提供一种光照设备，以解决现有技术中的光照设备对人体具有损害，同时具有很高的光线损失的问题。

根据本实用新型的一方面，提供了一种光照设备，包括：支撑载台、光源组件和冷却机构；

所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧，所述光源组件被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台上的目标对象；

所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。

优选的，所述指定波长的波长范围为：350nm-420nm。

优选的，所述光源组件包括基底和设置在所述基底的面向所述支撑载台一面的多个点光源；各所述点光源阵列排布在所述基底上。

优选的，所述基底包括边缘区域和中间区域；其中，设置在所述边缘区域的相邻所述点光源的第一间距小于设置在所述中间区域的相邻所述点光源的第二间距。

优选的，所述点光源包括多个第一点光源和多个第二点光源；所述第一点光源和所述第二点光源交替设置在所述基底上。

优选的，所述第一点光源发出的光线的波长为365nm；所述第二点光源发出的光线的波长为385nm。

优选的，所述点光源为LED灯。

优选的，还包括控制模块，被配置为控制所述点光源的开关状态。

优选的，所述光源组件与支撑载台的距离为80mm-100mm。

本实用新型实施例提供的一种光源设备，包括：支撑载台、光源组件和冷却机构；所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧，所述光源组件被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台上的目标对象；所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。本实用新型实施例中，能够根据目标对象吸收波长的大小，使用发射指定波长光线的光源，提高光线利用率，避免光损失。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的一种光照设备的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种光源组件的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

下面通过列举几个具体的实施例详细介绍本实用新型提供的一种光照设备。

参照图1，示出了本实用新型实施例的一种光照设备的结构示意图，包括：支撑载台10、光源组件20和冷却机构30；

所述光源组件20设置在所述支撑载台10的一侧，所述光源组件20被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台10上的目标对象；

所述冷却机构30设置在所述光源组件20远离所述支撑载台10的一侧。

在本实用新型实施例中，还包括腔体结构40，其中，腔体结构40将光照设备置于腔体结构40中。

在本实用新型实施例中，所述指定波长的波长范围为：350nm-420nm。

在本实用新型实施例中，目前需要光照射工艺的材料吸收波长350nm-420nm范围内的光照，因此，光源发出的光线对应的波长范围也为350nm-420nm。

在本实用新型实施例中，所述光源组件20包括基底21和设置在所述基底的面向所述支撑载台一面的多个点光源22；各所述点光源22阵列排布在所述基底21上。

在本实用新型实施例中，参照图2，所述基底包括边缘区域和中间区域；其中，设置在所述边缘区域的相邻所述点光源的第一间距小于设置在所述中间区域的相邻所述点光源的第二间距。

在本实用新型实施例中，目标对象的每个区域都受到多个点光源的照射，将基底边缘区域排列的点光源的密度较大，能够使目标对象中间部分与边缘部分照射的光照达到一样，以保证整个目标对象受到光照射的均一性。

在本实用新型实施例中，参照图2，所述点光源22包括多个第一点光源221和多个第二点光源222；所述第一点光源221和所述第二点光源222交替设置在所述基底上。

在本实用新型实施例中，所述第一点光源221发出的光线的波长为365nm；所述第二点光源222发出的光线的波长为385nm。

在本实用新型实施例中，点光源22为单波长光源，其中，申请人根据实用得到，当点光源22的波长为365nm和385nm时，目标对象的吸收率可以达到最大，能够避免光线的损失。

在本实用新型实施例中，采用第一点光源221和第二点光源222交替设置，可以使光线均匀照射目标对象，使目标对象的光照射工艺稳定。

在本实用新型实施例中，所述点光源22为LED灯。

在本实用新型实施例中，还包括控制模块，被配置为控制所述点光源22的开关状态。

在本实用新型实施例中，当目标对象吸收的光线波长为365nm时，则控制模块开启第一点光源221，关闭第二点光源222。当目标对象吸收的光线波长为385nm时，则控制模块关闭第一点光源221，开启第二点光源222。当目标对象吸收的光线波长既有365nm，又有385nm时，则同时开启第一点光源221和第二点光源222。

在本实用新型实施例中，可以根据目标对象吸收的波长，调整第一点光源221和第二点光源222的发光光线的波长。

在本实用新型实施例中，所述光源组件20与支撑载台10的距离为80mm-100mm。

在本实用新型实施例中，由于点光源22发出的单一波长的光线，因此不需要在电光源22和目标对象之间设置滤光器等器件，则可以减小光源组件20和支撑载台10之间的距离，进一步的减少光线的损失。

在本实用新型实施例中，在进行光照射工艺时，可以在支撑载台10上设置一玻璃基板，在玻璃基板上放置目标对象，在目标对象上放置掩膜基板，其中，掩膜基板用于遮挡目标对象不需要照射的部分。

本实用新型实施例提供的一种光源设备，包括：支撑载台、光源组件和冷却机构；所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧，所述光源组件被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台上的目标对象；所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。本实用新型实施例中，能够根据目标对象吸收波长的大小，使用发射指定波长光线的光源，提高光线利用率，避免光损失。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统、设备和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.一种光照设备，其特征在于，包括：支撑载台、光源组件和冷却机构；

所述光源组件设置在所述支撑载台的一侧，所述光源组件被配置为发射指定波长的光线，照射所述支撑载台上的目标对象；

所述冷却机构设置在所述光源组件远离所述支撑载台的一侧。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述指定波长的波长范围为：350nm-420nm。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光源组件包括基底和设置在所述基底的面向所述支撑载台一面的多个点光源；各所述点光源阵列排布在所述基底上。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述基底包括边缘区域和中间区域；其中，设置在所述边缘区域的相邻所述点光源的第一间距小于设置在所述中间区域的相邻所述点光源的第二间距。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述点光源包括多个第一点光源和多个第二点光源；所述第一点光源和所述第二点光源交替设置在所述基底上。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一点光源发出的光线的波长为365nm；所述第二点光源发出的光线的波长为385nm。

7.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述点光源为LED灯。

8.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，还包括控制模块，被配置为控制所述点光源的开关状态。

9.根据权利要求1至8中任意任一项所述的设备，其特征在于，所述光源组件与支撑载台的距离为80mm-100mm。