CN208898939U - 一种浸入式金属液处理剂装置及加入系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种浸入式金属液处理剂装置及加入系统。所述装置包括主体件、若干处理剂填充件和处理剂，所述处理剂填充件设置于所述主体件的件身外侧，所述处理剂填充件内部设有能够装填所述处理剂的处理剂填充腔，所述处理剂填充腔设置有能够使金属液进入的开口端，所述开口端均配置有能够封堵处理剂填充腔的堵头。本实用新型的装填处理价加入金属液中能够实现处理剂在金属液中的离散式分步反应，能够避免处理剂局部过饱和情况，使处理剂能够被金属液最大可能得吸收，收得率高。

Description

一种浸入式金属液处理剂装置及加入系统

技术领域

本实用新型涉及冶金技术领域，更具体地讲，涉及一种浸入式金属液处理剂装置及加入系统。

背景技术

由于钢水中不可避免地存在残余氧及金属氧化物，因此，必须往钢水中添加钙元素来提高钢水纯净度，以改善金属液的浇铸性能，减轻中间包水口堵塞以保证连铸顺利进行。并且，向钢水中加入钙元素可以同时改善金属液的质量，减少轧件缺陷，提高合金收得率。

在现有技术中，添加钙处理剂的方法主要有喷粉法和喂线法。通过惰性气体喷吹的方式将含钙粉注入金属液，称之为喷粉法。采用喷粉法的优点是收得率高。但由于金属液温降太大，成本太高，现已基本全部淘汰。如今企业普遍采用喂线法添加钙元素。喂线法是用一些低碳的铁皮将含钙的粉剂包制成钙线，再通过喂线机把包芯线注入金属液。喂线法的优点是温降小，成本低。但存在的严重缺点包括：(1)钙丝很难喂进金属液中；在喂制过程中总会有一部分存留时间过久的钢水，由于温降大，表面结了一层薄壳，导致包芯线喂不到金属液中去，只能在壳上盘卷。(2)钙的收得率低；由于包芯线刚性小，柔性大，无法深插，且密度远小于金属液，所以喂入的线会漂浮在金属液浅层熔化，反应生成的大量钙蒸气来不及被金属液吸收而迅速升腾，并与空气中氧气剧烈反应，造成金属收得率非常低，并且易发生喷溅，存在安全隐患。对于需要提高钙浓度的钢种，因为钙在金属液中溶解度很低，接近于零，而包芯线只能到达金属液浅层，故上部金属液很快就处于局部过饱和状态，造成加倍喂线也不见钙浓度有明显增加，几乎所有钙元素都变成钙蒸气而被烧损。因此，喂线法无法实现钙的有效添加。

实用新型内容

针对现有技术中存在的不足，本实用新型的目的之一在于解决上述现有技术中存在的一个或多个问题。例如，本实用新型的目的之一在于提供一种可以实现金属液处理剂在金属液中离散式分布反应的处理剂填充装置。

为了实现上述目的，本实用新型的一方面提供了一种浸入式金属液处理剂装置，所述装置可以包括主体件和若干处理剂填充件，所述处理剂填充件设置于所述主体件件身外侧，所述处理剂填充件内部设有处理剂填充腔，所述处理剂填充腔设置有能够使金属液进入的开口端，所述开口端均配置有能够封堵处理剂填充腔的堵头，若干堵头能够在所述金属液中等时差熔化。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述装置包括主体件、若干处理剂填充件、处理剂和堵头，所述主体件上设置有若干贯通主体件的贯通孔；所述若干处理剂填充件通过所述贯通孔贯穿所述主体件，每一贯通孔贯穿一个处理剂填充件，所述处理剂填充件为中空结构，所述中空结构构成能够装填所述处理剂的处理剂填充腔，所述处理剂填充腔的至少一端为开口；所述堵头配置为能够封堵所述处理剂填充腔的开口，若干堵头能够在所述金属液中等时差熔化。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述处理剂填充件件身设置有定位凸台，所述贯通孔边缘设置有与所述定位凸台相配合的凸台进口，所述定位凸台进入所述凸台进口后，旋转所述处理剂填充件能够防止所述处理剂填充件从所述主体件脱出。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，当所述若干个堵头制备材质相同时，所述若干个堵头的厚度呈等差数列。优选的，所述等差数列的等差值可以在0.05mm～0.50mm范围内选择。当所述若干个堵头制备材质不相同时，根据各个堵头材质在金属液中的熔化时间，配合制备相应的堵头厚度，保证各个堵头熔化的时间呈等间隔时差熔化。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述若干堵头均配置有盲孔，各个盲孔的底部厚度呈等差数列，所述等差数列的等差值在0.05mm～0.50mm范围内选择。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述处理填充腔可以包括第一反应区和一个或多个随后的反应区，其中，从第一反应区到第n反应区，反应区中的处理剂与金属液依次接触反应，n≥2。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述第一反应区和随后的反应区设置有金属液脱氧剂、脱硫剂、脱碳剂、脱磷剂或合金剂中的一种或者多种组合。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述处理填充腔可以包括第一反应区和第二反应区，所述第一反应区中处理剂与金属液的反应优先于所述第二反应区中的处理剂。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，所述处理剂可以为金属液脱氧剂、脱硫剂、脱碳剂、脱磷剂或合金剂中的一种或者多种组合。优选的，所述处理剂可以为钙处理剂，所述钙处理剂可以为钙粉、钙芯、钙棒或者钙块中的一种或两种以上组合。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，每个处理剂填充件与所述主体件垂直，所述若干处理剂填充件沿主体件中心线对称分布。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，每个处理剂填充件的件身厚度不大于与其对应配置的堵头厚度，所述每个处理剂填充件的外壁厚度呈等差数列。

本实用新型的另一方面提供了一种浸入式金属液处理剂的加入系统，所述系统包括如上所述的浸入式金属液处理剂装置和升降旋转装置，其中，所述升降旋转装置包括行星旋转机构和动力驱动机构，所述行星旋转机构包括行星齿轮机构，所述行星齿轮机构中设有两个以上的行星轮，所述行星轮通过卡盘与所述浸入式金属液处理剂装置的主体件顶部固定连接，所述动力驱动机构与所述行星旋转机构连接，能够驱动所述行星轮自传并且驱动所述行星轮绕行星旋转机构中心公转。

在本实用新型的浸入式金属液处理剂的加入系统的一个示例性实施例中，所述动力驱动机构可以包括底座、升降旋转柱和旋转臂，所述升降回转柱的一端与底座连接固定于工作平台上，另一端与旋转臂的一端连接，所述旋转臂的另一端通过法兰与所述行星旋转机构连接，所述旋转臂能够相对于所述升降柱旋转。

与现有技术相比，本实用新型的浸入式金属液处理剂装置及加入系统的有益效果包括：

(1)本实用新型的装置装填金属液的处理剂加入金属液中能够保证处理剂到达金属液底部后才开始反应，使处理剂能够被金属液最大可能吸收利用，收得率显著提高；

(2)本实用新型的装置能够实现处理剂在金属液中的离散式分步反应，能够避免处理剂局部过饱和的情况，能够确保金属液处理剂的收得率最大化；

(3)本实用新型的装置填处理剂加入金属液中进行反应后，残余的处理剂蒸气很小，可以减少金属液涌动幅度，明显减少金属液发生喷溅现象；

(4)本实用新型的装置装填处理剂加入金属液中可以确保处理剂添加均匀、稳定，具有操作简便的优点。

附图说明

通过下面结合附图进行的描述，本实用新型的上述和其他目的和特点将会变得更加清楚，其中：

图1示出了本实用新型一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂装置的示意图；

图2示出了本实用新型另一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂装置的示意图；

图3示出了本实用新型一个示例性实施例的行星旋转机构示意图；

图4示出了本实用新型一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂加入系统示意图。

具体实施方式

在下文中，将结合附图和示例性实施例详细地描述根据本实用新型的浸入式金属液处理剂装置及加入系统。

具体来讲，本实用新型记载了一种可以装填金属液处理剂的浸入式装置及其加入系统。一方面，浸入式的装置设置有若干个处理剂填充件，处理剂填充件的端头设置有堵头。装填处理剂填充腔由使用不同厚度、相同材质或者不同材质的堵头进行封堵，让堵头在金属液中的熔化存在时间差。例如，当堵头的材质相同时，设置的每个堵头的厚度均不同，厚度呈等差数列。当装置进入金属液后，由于堵头厚度的不同，在金属液中存在熔化的时间差，以致每个处理剂填充腔中装填的处理剂与金属液接触到的时间不同，以使处理剂可以在金属液中非连续离散分步式反应，可以有效的避免全部处理剂同时反应造成金属液中局部处理剂过饱和的问题，确保每个空腔中的处理剂元素均能被金属液充分利用。另一方面，本实用新型可以在堵头上设置盲孔。此时堵头的厚度可以相等，但盲孔底部的厚度可以设置为呈等差数列。同样的，由于盲孔的厚度不同，导致每个处理剂填充件中装填的处理剂与金属液接触存在时间差，可以实现处理剂的非连续的离散分步反应。再一方面，本实用新型的系统可以确保填充有处理剂的浸入式装置可以稳定的加入的金属液中较深的位置，能够实现浸入装置在金属液中自传和公转，可以确保金属液对处理剂的稳定、高效吸收。

图1示出了本实用新型一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂装置的示意图。图2示出了本实用新型另一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂装置的示意图。图3示出了本实用新型一个示例性实施例的行星旋转机构示意图。图4示出了本实用新型一个示例性实施例的浸入式金属液处理剂加入系统示意图。

本实用新型的一方面提供了一种浸入式金属液处理剂装置。在本实用新型的浸入式金属液处理剂装置的一个示例性实施例中，如图1所示，所述装置包括主体件11和若干个设置于主体件11外侧的处理剂填充件12。所述处理剂填充件12的内部设置有处理剂填充腔13，用于装载金属液处理剂。所述处理剂填充腔13的一端为封闭状态。另一端贯穿处理剂填充件12，为开口端。所述开口端配置有堵头14，若干堵头可在金属液中分时段熔化。

在本示例中，所述处理剂填充件可以与所述主体件垂直设置。当然，处理剂填充件也可以与所述主体件不为垂直设置，可以呈小于90度或大于90度的夹角设置。所述处理剂填充件的开口可以沿着主体件向下或者向上。

在本示例中，所述处理剂填充件可以沿主体件的中心线对称设置，也可以不对称设置。各处理剂填充件之间同样可以相互垂直设置。

在本示例中，当制备每个堵头的材料、规格相同时，在所述处理剂填充件上设置的每个堵头的厚度可以呈等差分布。即各个堵头之间的厚度可以依次递增或者依次递减。当浸入装置进入金属液后，由于堵头的厚度不相同，厚度最薄的最先被金属液熔化，金属液进入对应的处理剂填充腔中与处理剂接触而优先发生反应。最后根据堵头的厚度大小依次进行反应。因此，可以实现每个填充腔的处理剂与金属液离散式的分步反应，并不会因为所有填充腔中的处理剂全部同时与金属液接触发生反应，造成局部处理剂浓度过饱和的问题，可以有效的提高处理剂的收得率。例如，对于5个堵头A₁、A₂、A₃、A₄和A₅的厚度分别为a₁mm、a₂mm、a₃mm、a₄mm和a₅mm。5个堵头的厚度呈等差数列增加。加入金属液后，A₁堵头最薄，A1封堵的处理剂优先开始反应。T1时间后A2封堵的处理剂开始反应。A2封堵的处理剂反应完成后，然后经过T1时间，A3封堵的处理剂开始反应。依次类推，直到所有的处理剂填充件里面的处理剂反应完毕。当所述若干个堵头的制备材质不相同时，可以根据各个堵头的材质在金属液中的熔化时间，配合堵头的厚度，达到各个堵头之间呈等间隔时间熔化的目的。

以上，所述堵头厚度的公差可以是0.05mm～0.50mm。优选的，可以是0.05mm～0.15mm，更优选的，可以是0.08mm～0.12mm，例如可以是0.10mm。设置上述堵头厚度公差的好处在于能够确保金属液在合理的时间与处理剂进行接触反应，可以更好的提高处理剂的收得率。

当然，本实用新型的堵头厚度公差不限于此，例如，可能根据金属液的深度、金属液的温度以及合金弹的材质等进行设置。

在本示例中，所述每个堵头上均可以设置盲孔。每个盲孔底部的厚度可以不相等，厚度可以呈等差分布。此时堵头的厚度可以相等或者不等。厚度可以依次递增或者依次递减若干毫米。当装置进入金属液后，盲孔底部厚度最薄的最先熔化以使填充腔中的处理剂与金属液接触，发生反应。而由于其他堵头的盲孔底部厚度较厚，并没有开始熔化，导致其他填充腔中的处理剂并不会与金属液接触而发生反应。同样的，可以实现每个填充腔中的处理剂进行离散式的分步反应，并且，不会因为所有填充腔中的钙处理全部同时与金属液接触发生反应，造成局部钙浓度过饱和的问题，可以有效的提高钙的收得率。

以上，所述盲孔底部厚度的公差可以是0.05mm～0.50mm。优选的，可以是0.05mm～0.15mm，更优选的，可以是0.08mm～0.12mm，例如可以是0.11mm。设置上述盲孔底部厚度公差的好处在于能够确保金属液在合理的时间与处理剂进行接触反应，可以更好的提高处理剂的收得率。

在本示例中，所述主体件上可以开设有若干个贯通的贯通孔。处理剂填充件可以是贯穿主体件的整件并设置与所述贯通孔内。为了防止处理剂填充件从主体件中脱落，所述处理剂填充件上设置有定位凸台。所述主体件上设置有能够与所述定位凸台相互配合的凸台进口。所述定位凸台进入所述凸台进口后，旋转所述处理剂填充件能够防止处理剂填充件从所述主体件中脱落。

在本示例中，所述处理剂填充件外壁的材质可以设置为与所述堵头相同，均能够溶于所述金属液，且每根处理剂填充件外壁与之对应的堵头的厚度相等或者比堵头的厚度薄。当所述处理剂填充件进入金属液后，所述处理剂填充件的外壁的壁厚可以设置为呈等差数列分布。当装置进入金属液后，处理剂填充件壁厚度最薄的最先熔化以使填充腔中的处理剂与金属液接触，发生反应。而由于其他处理剂填充件的厚度较厚，并没有开始熔化，以致其他填充腔中的处理剂并不会与金属液接触而发生反应。可以实现每个填充腔中的处理剂进行离散式的分步反应，并且，不会因为所有填充腔中的钙处理全部同时与金属液接触发生反应，造成局部钙浓度过饱和的问题，可以有效的提高钙的收得率。

以上，主体件和处理剂填充件可以为杆状或者正多边形状。优选的，主体件和处理剂填充件为杆状，制备成主体杆和处理剂填充杆，方便主体件与处理剂填充的结合。当然，本实用新型的形状不限于此。

在本实用新型的另一个示例性实施例中，如图2所示，所述主体件21上设置有若干个处理剂填充件22。所述处理剂填充件22贯穿所述主体件21，并穿过设置于主体件21上的贯通孔24。所述处理剂填充件22与所述主体件21垂直，并且处理剂填充件沿着主体件中心线对称设置。当然所述处理剂填充件22也可以不与所述主体件21垂直。所述处理剂填充件22为整件。处理剂填充件相邻两件之间垂直设置。每根处理剂填充件的两端均设置有堵头23。处理剂填充件22设置有定位凸台(图2中未示出)。所述贯通孔24上设置有能够与定位凸台相互配合的凸台进口。当定位凸台进入凸台进口后，旋转处理剂填充件22就可以防止处理剂填充件22从主体件21中脱落。

以上，设置主体件的厚度远厚于处理剂填充件的厚度，设置上述浸入装置的好处之一在于由于主体件的厚度远厚于处理剂填充件的厚度，当浸入装置金属液后，会受到金属液的腐蚀。当处理剂填充件由于金属液的腐蚀而熔化，只需制备新的处理剂填充件插入贯通孔即可，不需要进行浸入装置的整体更换，节约成本。所述处理剂填充件与所述主体件垂直设置的好处在于，由于有凸台的存在，便于主体件上贯通孔的准确加工。所述处理剂填充件可以沿主体件的中心线对称设置，也可以不对称设置。各处理剂填充件之间同样可以相互垂直设置。所述处理剂填充件对称设置的好处在于，当处理剂填充件插入主体件后，贯通孔两侧磨损、损坏情况较为一致，便于清理修复。如果单侧填充件较长，则该侧贯通孔受力变大易坏，会降低整体的使用寿命。

在本示例中，当制备每个堵头的材料、规格相同时，在所述处理剂填充件上设置的每个堵头的厚度可以呈等差分布。即各个堵头之间的厚度可以依次递增或者依次递减。当浸入装置进入金属液后，由于堵头的厚度不相同，厚度最薄的最先被金属液熔化，金属液进入对应的处理剂填充腔中与处理剂接触而优先发生反应。最后根据堵头的厚度大小依次进行反应。因此，可以实现每个填充腔的处理剂与金属液离散式的分步反应，并不会因为所有填充腔中的处理剂全部同时与金属液接触发生反应，造成局部处理剂浓度过饱和的问题，可以有效的提高处理剂的收得率。所述堵头厚度的公差可以是0.05mm～0.50mm。优选的，可以是0.05mm～0.15mm，更优选的，可以是0.08mm～0.12mm，例如可以是0.10mm。当然，本实用新型的堵头厚度公差不限于此，例如，可能根据金属液的深度、金属液的温度以及合金弹的材质等进行设置。

在本示例中，所述每个堵头23上均可以设置盲孔。每个盲孔底部的厚度可以不相等，厚度可以呈等差分布。此时堵头的厚度可以相等或者不等。厚度可以依次递增或者依次递减若干毫米。当装置进入金属液后，盲孔底部厚度最薄的最先熔化以使填充腔中的处理剂与金属液接触，发生反应。而由于其他堵头的盲孔底部厚度较厚，并没有开始熔化，导致其他填充腔中的处理剂并不会与金属液接触而发生反应。同样的，可以实现每个填充腔中的处理剂进行离散式的分步反应，并且，不会因为所有填充腔中的钙处理全部同时与金属液接触发生反应，造成局部钙浓度过饱和的问题，可以有效的提高钙的收得率。所述盲孔底部厚度的公差可以是0.05mm～0.50mm。优选的，可以是0.08mm～0.12mm。例如可以是0.10mm。当然，本实用新型的盲孔底部厚度公差不限于此，例如，可能根据金属液的深度、金属液温度以及合金弹的材质等进行设置。

在本示例中，所述处理剂填充件外壁的材质可以设置为与所述堵头相同，均能够溶于所述金属液，且每根处理剂填充件外壁与之对应的堵头的厚度相等或者比堵头的厚度薄。当所述处理剂填充件进入金属液后，所述处理剂填充件的外壁的壁厚可以设置为呈等差数列分布。当装置进入金属液后，处理剂填充件壁厚度最薄的最先熔化以使填充腔中的处理剂与金属液接触，发生反应。而由于其他处理剂填充件的厚度较厚，并没有开始熔化，以致其他填充腔中的处理剂并不会与金属液接触而发生反应。可以实现每个填充腔中的处理剂进行离散式的分步反应，并且，不会因为所有填充腔中的钙处理全部同时与金属液接触发生反应，造成局部钙浓度过饱和的问题，可以有效的提高钙的收得率。

在本示例中，所述处理剂填充件中的处理剂填充腔可以包括第一反应区和一个或多个随后的反应区。即所述处理剂填充腔可以包括n个反应区。所述n个反应区中的每个反应区与金属液的反应依次进行。首先，第一反应区内的处理剂先与金属液反应，然后第二反应区内的处理剂反应，直到第n个反应区内的处理剂反应完成。例如，所述处理剂填充腔可以包括第一反应区和第二反应区。所述第一反应区和第二反应区可以填充相同或者不同的处理剂。所述第一反应区内填充的处理剂与金属液的反应优先于第二反应区内填充的处理剂。例如，在炼钢过程中，需要加入钙处理剂来提高钢水纯净度，以改善金属液的浇铸性能，减轻中间包水口堵塞。但由于钙处理价格较高，如果钢液中有多余的氧元素存在，氧元素就会与钙处理剂反应，造成钙处理剂的浪费，成本较高。为了减少例如像钙处理剂的浪费，可以在第一反应区中加入其它一些价格较为低廉的处理剂，例如，在第一反应区中加入铝处理剂。当合金弹进入金属液后，由于第一反应区中的处理剂先于第二反应区的处理剂反应，因此，铝处理剂可以优先于钙反应，这样可以减少钙处理的浪费。同样的，为了达到金属液中需要的各种目的，可以在第一反应区域和第二反应区域中加入不同的处理剂。例如，合金剂、脱氧剂或者脱出S、P元素的处理剂等。判断各种处理剂分别加入第一反应区和第二反应区可以根据现场的实际需要进行调整，将需要优先反应的处理剂加入第一反应区。对于第一反应区和第二反应区设置的相对位置只要能够保证第一反应区内的处理剂先于第二反应区内的处理剂反应即可。例如，当处理剂填充件仅有一端设置有堵头时，可以沿着堵头沿处理剂填充件另一端的方向，分别设置第一反应区、第二反应区...，直到第n反应区，确保从金属液进出填充件以后，从第一反应区开始进行反应。当处理剂填充件的两端均有堵头时，则在两端靠近堵头侧设置为第一反应区，然后朝着中部分别设置第二反应区、第三反应区…，直到第n反应区。

在本实施例中，所述处理剂可以包括钙处理剂、脱氧剂、合金剂、脱碳剂以及除杂剂等。处理剂的存在形式包括粉状、块状以及压制成型的一些其他形状。例如包括通过粉和/或块压制成的芯状等。

以上，所述处理剂可以为金属液脱氧剂、脱硫剂、脱碳剂、脱磷剂或合金剂中的一种或者多种组合。优选的，所述处理剂可以为钙处理剂，所述钙处理剂可以为钙粉、钙芯、钙棒或者钙块中的一种或两种以上组合。当然，本实用新型的处理剂不限于此，金属液中可以添加的其他处理剂均可。

以上，所述金属液可以为钢液。当钢液需要增钙时，在增钙的过程中可以启动钢包底吹系统，浸入式金属液处理剂装置插入位置可以处于钢液下降流中，以增加钢液吸收时间。所述浸入式金属液处理剂装置可以以机械方式下沉到金属液底部并对装置进行旋转。所述处理剂填充件的根数可以由金属液的种类决定。所述处理剂填充件设置与主体件的结合方式可以根据现场进行确定。

本实用新型的另一方面提供了一种浸入式金属液处理剂加入系统。在本实用新型的浸入式金属液处理剂加入系统的一个示例性实施例中，所述加入系统包括如上所述的浸入式金属液处理剂装置以及升降旋转装置。

所述升降旋转装置包括行星旋转机构和动力驱动机构。如图3所示，所述行星旋转机构包括行星减速器31和两个以上的行星轮32。所述行星轮32通过卡盘33与所述浸入式金属液处理剂装置34的主体件顶部连接。所述动力驱动机构与所述行星旋转机构连接，能够驱动所述行星旋转机构转动。例如，如图3所示，所述行星齿轮机构包括3个行星轮。所述3个行星轮均匀布置，行星减速器由动力驱动机构驱动。工作时，动力驱动机构能够驱动所述行星轮自传并且驱动所述行星轮绕行星旋转机构中心公转。

在本示例中，如图4所示，所述动力驱动机构包括底座41、升降旋转柱42和旋转臂43。所述升降旋转柱42的一端与底座41连接固定于工作平台上。所述升降回转柱42的另一端与旋转臂43的一端连接。所述旋转臂43的另一端通过法兰与所述行星旋转机构44连接。所述旋转臂能够相对于所述升降柱旋转。所述升降旋转柱42具有升降以及绕自身轴向旋转的功能，同时具有断电或电气故障时的自动提升功能。当遇到停电或者机械故障时，所述升降旋转柱42同样可以自动提升。

综上所述，本实用新型的装置装填金属液的处理剂加入金属液中能够确保处理剂到达金属液底部后才开始反应，使处理剂能够被金属液最大可能吸收利用，收得率显著提高；能够实现处理剂在金属液中的离散式分步反应，能够避免处理剂局部过饱和的情况，能够确保金属液处理剂的收得率最大化。加入金属液中进行反应后，残余的处理剂蒸气很小，可以减少金属液涌动幅度，明显减少金属液发生喷溅现象。并且本实用新型的系统可以确保处理剂添加均匀、稳定，具有操作简便的优点。

尽管上面已经通过结合示例性实施例描述了本实用新型，但是本领域技术人员应该清楚，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可对本实用新型的示例性实施例进行各种修改和改变。

Claims (15)

1.一种浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述装置包括主体件、若干处理剂填充件、处理剂以及堵头，所述处理剂填充件设置于所述主体件的件身外侧，所述处理剂填充件内部设有能够装填所述处理剂的处理剂填充腔，所述处理剂填充腔设置有能够使金属液进入的开口端，所述开口端均配置有能够封堵处理剂填充腔的所述堵头，若干堵头能够在所述金属液中等时差熔化。

2.根据权利要求1所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，当所述若干堵头制备的材质相同时，每个堵头的厚度呈等差数列，所述等差数列的等差值在0.05mm～0.50mm范围内选择，当所述若干堵头制备材质不相同时，根据各个堵头材质在金属液中的熔化时间，控制堵头厚度，保证各个堵头熔化的时间呈等间隔时差熔化。

3.根据权利要求1所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述若干堵头均配置有盲孔，各个盲孔的底部厚度呈等差数列，所述等差数列的等差值在0.05mm～0.50mm范围内选择。

4.根据权利要求1所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，每个处理剂填充件与所述主体件垂直，所述若干处理剂填充件沿主体件中心线对称分布。

5.根据权利要求1所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述处理剂填充腔包括第一反应区和一个或多个随后的反应区，其中，从第一反应区到第n反应区，反应区中的处理剂与金属液依次接触反应，n≥2。

6.根据权利要求1所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述处理剂填充腔包括第一反应区和第二反应区，所述第一反应区中处理剂与金属液的反应时间优先于所述第二反应区中的处理剂与金属液的反应时间。

7.一种浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述装置包括主体件、若干处理剂填充件、处理剂和堵头，所述主体件上设置有若干贯通主体件的贯通孔，所述若干处理剂填充件通过所述贯通孔贯穿所述主体件，每一贯通孔贯穿一个处理剂填充件，所述处理剂填充件为中空结构，所述中空结构构成能够装填所述处理剂的处理剂填充腔，所述处理剂填充腔的至少一端为开口，所述堵头配置为能够封堵所述处理剂填充腔的开口，若干堵头能够在所述金属液中等时差熔化。

8.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述处理剂填充件件身设置有定位凸台，所述贯通孔边缘设置有与所述定位凸台相配合的凸台进口，所述定位凸台进入所述凸台进口后，旋转所述处理剂填充件能够防止所述处理剂填充件从所述主体件脱出。

9.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，当所述若干堵头制备的材质相同时，每个堵头的厚度呈等差数列，所述等差数列的等差值在0.05mm～0.50mm范围内选择，当所述若干堵头制备材质不相同时，根据各个堵头材质在金属液中的熔化时间，控制堵头厚度，保证各个堵头熔化的时间呈等间隔时差熔化。

10.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述若干堵头均配置有盲孔，各个盲孔的底部厚度呈等差数列，所述等差数列的等差值在0.05mm～0.50mm范围内选择。

11.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，每个处理剂填充件与所述主体件垂直，所述若干处理剂填充件沿主体件中心线对称分布。

12.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述处理剂填充腔包括第一反应区和一个或多个随后的反应区，其中，从第一反应区到第n反应区，反应区中的处理剂与金属液依次接触反应，n≥2。

13.根据权利要求7所述的浸入式金属液处理剂装置，其特征在于，所述处理剂填充腔包括第一反应区和第二反应区，所述第一反应区中处理剂与金属液的反应时间优先于所述第二反应区中的处理剂与金属液的反应时间。

14.一种浸入式金属液处理剂加入系统，其特征在于，所述系统包括如权利要求1或7所述的浸入式金属液处理剂装置和升降旋转装置，其中，

所述升降旋转装置包括行星旋转机构和动力驱动机构，所述行星旋转机构包括行星齿轮机构，所述行星齿轮机构中设有两个以上的行星轮，所述行星轮通过卡盘与所述浸入式金属液处理剂装置的主体件顶部固定连接，所述动力驱动机构与所述行星旋转机构连接，能够驱动所述行星轮自传并且驱动所述行星轮绕行星旋转机构中心公转。

15.根据权利要求14所述的浸入式金属液处理剂加入系统，其特征在于，所述动力驱动机构包括底座、升降旋转柱和旋转臂，所述升降旋转柱的一端与底座连接固定于工作平台上，另一端与旋转臂的一端连接，所述旋转臂的另一端通过法兰与所述行星旋转机构连接，所述旋转臂能够相对于所述升降旋转柱旋转。