CN208877953U - 顺酐装置溶剂洗涤系统、顺酐发生装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种顺酐装置溶剂洗涤系统、顺酐发生装置，涉及一体化废水处理装置技术领域，解决了现有技术中位于溶剂洗涤系统的离心机中的溶剂和水比重接近，离心时溶剂和萃取液容易混合在一起或出现倒相的技术问题。该装置包括预除杂装置和萃取液导入装置，其中，预除杂装置和萃取液导入装置均与溶剂洗涤系统的搅拌装置相连接；预除杂装置能利用萃取液萃取溶剂中的杂质且能将萃取后得到的混合液沉淀并能将沉淀后含有杂质的萃取液排出预除杂装置，其余混合液能流入搅拌装置内；萃取液导入装置能向搅拌罐内输入萃取液。本实用新型用于增大溶剂和萃取液比重的差值，使两者能在溶剂洗涤系统的离心机中能轻易分离，避免出现倒相。

Description

顺酐装置溶剂洗涤系统、顺酐发生装置

技术领域

本实用新型涉及一体化废水处理装置技术领域，尤其是涉及一种顺酐装置溶剂洗涤系统、顺酐发生装置。

背景技术

顺酐生产按照原料可以分为苯酐副产法、苯法、碳四烯烃和正丁烷法。在利用正丁烷法生产顺酐的时，顺酐的生产工艺分为催化氧化、气相吸收和精制提纯三部分。目前，工业中广泛应用的顺酐回收技术主要是水吸收法和有机溶剂吸收法，目前，有机溶剂吸收法应用的较为广泛。有机溶剂吸收法是将氧化反应生成的混合气体在吸收器中利用有机溶剂吸收顺酐，然后将富含顺酐的吸收液解析得到顺酐粗品。

正丁烷法吸收顺酐时，从正丁烷氧化到顺酐吸收、解吸的过程中会产生富马酸、丙烯酸、丁二烯酸、苯酐、丁醇等一系列的副产物，这些处于有机溶剂中的副产物如果不及时移除，就会在溶剂中积累，在高温条件下进一步酯化或自聚合形成大分子聚合物，不仅会使吸收的效率下降，而且还会堵塞溶剂循环系统。

由于正丁烷法生产顺酐时产生的杂质在水相中的溶解度远大于溶剂相，因此，现有技术中的顺酐装置溶剂洗涤系统通常将水和溶剂通过流量控制阀按照一定的比例分别送入同一个搅拌装置(现有技术中的搅拌装置为搅拌罐，搅拌罐包括壳体以及设置于壳体内部的搅拌结构，当搅拌罐运转时，搅拌结构能在壳体内部旋转)中，使搅拌装置中的搅拌结构对水和溶剂进行充分混合，并使得杂质从溶剂相转移到水相中，这个过程叫做萃取。然后搅拌装置中的混合液体(水和溶剂)流入离心机中进行溶剂和水的分离，离心机分离出的轻相(含有杂质的水)进入废水罐中，重相(不含杂质的溶剂，又称贫溶剂)进入到溶剂缓冲罐中，送往后续处理后再送回溶剂循环系统重复利用。

现在实际运行中，吸收顺酐的溶剂中的杂质含量会不断地变化，水和溶剂进入搅拌罐混合萃取后水的比重会发生很大变化。从实际情况看，有时水的比重会跟溶剂的比重十分相近甚至水的比重稍大于溶剂的比重，导致离心机无法分离水和溶剂，离心时水和溶剂混合在一起。或者，与原初始设计状态颠倒，出现倒相(原本水轻，溶剂重，水位于溶剂的上方。水吸收杂质后比重增大，当水吸收杂质后比重大于溶剂的比重时，水重，溶剂轻，水位于溶剂的下方，这种现象称为倒相)，将严重影响到离心机的正常分离水和溶剂的效果，造成物料互串，从而造成溶剂洗涤品质差，影响装置的平稳连续运行。

本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题：

现有技术中顺酐装置溶剂洗涤系统在去除溶剂中的杂质时，位于溶剂洗涤系统的离心机中的溶剂和水比重接近，离心时容易混合在一起或出现倒相，溶剂洗涤品质差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种顺酐装置溶剂洗涤系统、顺酐发生装置，以解决现有技术中位于溶剂洗涤系统的离心机中的溶剂和水比重接近，离心时容易混合在一起或出现倒相的技术问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果(结构简单、使用方便、除杂效果好)详见下文阐述。

为实现上述目的，本实用新型提供了以下技术方案：

本实用新型提供的一种顺酐装置溶剂洗涤系统，包括预除杂装置和萃取液导入装置，其中，所述预除杂装置和所述萃取液导入装置均与所述溶剂洗涤系统的搅拌装置相连接；所述预除杂装置能利用萃取液萃取溶剂中的杂质且能将萃取后得到的混合液沉淀并能将沉淀后含有杂质的萃取液排出所述预除杂装置，其余所述混合液能流入所述搅拌装置内；所述萃取液导入装置能向所述搅拌罐内输入萃取液。

优选的，所述预除杂装置包括液体混合结构和液体分离结构，所述液体混合结构与所述液体分离结构相连接，所述液体分离结构与所述搅拌装置相连接。

优选的，所述液体混合结构为搅拌罐或混合器中的一种；所述液体分离结构为沉降罐。

优选的，所述溶剂洗涤系统还包括废水罐，所述废水罐分别与所述液体分离结构和所述溶剂洗涤系统的离心机相连接，由所述液体分离结构和所述离心机分离出的含有杂质的萃取液能流入所述废水罐中。

优选的，所述废水罐中设置有警示装置，所述警示装置包括液位传感器、控制器和报警装置，所述液位传感器和所述报警装置分别与所述控制器相连接。

优选的，所述液体混合结构上设置有所述萃取液导入装置，所述萃取液导入装置包括用于输送萃取液的管道，所述管道上设置有流量控制阀；所述液体混合结构上还设置有用于输送溶剂的管路，所述管路上设置有流量控制阀。

优选的，所述管道上还设置有加热结构。

优选的，所述萃取液为除盐水。

优选的，所述搅拌罐上设置有加压装置。

本实用新型还提供一种顺酐发生装置，包括以上技术方案中任意一项所述的顺酐装置溶剂洗涤系统。

本实用新型顺酐装置溶剂洗涤系统能利用预除杂装置将溶剂中的杂质萃取到萃取液中，并将萃取后得到的混合液沉淀，沉淀后得到的含有杂质的萃取液能排出预除杂装置，其余的混合液能流入搅拌装置内。经过预除杂装置除杂后的杂质含量较少的混合液体与萃取液在搅拌装置内再次混合萃取，使得进入离心机时萃取液萃取溶剂后的比重与溶剂的比重相差较大，离心时萃取液和溶剂能轻松分离。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型顺酐装置溶剂洗涤系统的流程框图；

图2是本实用新型顺酐装置溶剂洗涤系统的设备连接示意图。

图中1、管道；2、加热结构；3、管路；4、液体混合结构；5、液体分离结构；6、离心机；7、溶剂缓冲罐；8、溶剂循环系统；9、泵；10、搅拌装置；11、废水罐。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。

本实用新型提供了一种顺酐装置溶剂洗涤系统，包括预除杂装置和萃取液导入装置，其中，预除杂装置和萃取液导入装置均与溶剂洗涤系统的搅拌装置相连接；预除杂装置能利用萃取液萃取溶剂中的杂质且能将萃取后得到的混合液沉淀并能将沉淀后含有杂质的萃取液排出预除杂装置，其余混合液能流入搅拌装置内；萃取液导入装置能向搅拌罐内输入萃取液。本实用新型顺酐装置溶剂洗涤系统能利用预除杂装置将溶剂中的杂质萃取到萃取液中，并将萃取后得到的混合液经沉淀得到的含有杂质的萃取液排出预除杂装置，将其余的混合液体输送进搅拌装置内。经预除杂装置除杂后得到的杂质含量较少的混合液与搅拌装置内的萃取液再次混合萃取，使得进入离心机时萃取液萃取溶剂后的比重与溶剂的比重相差较大，离心时萃取液和溶剂能轻松分离。

具体的，参考附图1～2所示，预除杂装置包括液体混合结构4和液体分离结构5，液体混合结构4与液体分离结构5相连接，液体分离结构5与搅拌装置10相连接，液体混合结构4上设置有萃取液导入装置，萃取液导入装置包括用于输送萃取液的管道1，管道1上设置有流量控制阀和加热结构2；液体混合结构4上还设置有用于输送溶剂的管路3，管路3上设置有流量控制阀。其中，流量控制阀能控制萃取液和溶剂流入液体混合结构4时的比例，加热结构2能对萃取液进行加热，使杂质迅速且充分的进入到萃取液中。

液体混合结构4能将按一定比例流入的萃取液和溶剂充分混合形成混合液，混合液流入液体分离结构5中进行分离。本实施方式中优选的，液体混合结构4为搅拌罐或混合器中的一种，液体分离结构5为沉降罐。由沉降罐分离出的含有杂质的萃取液为废水，其能流出沉降罐，沉降罐中其余的混合液(少量含有杂质的萃取液和溶剂的混合液体)能流入搅拌装置10中并与设置于搅拌装置上的萃取液导入装置输送过来的萃取液再次混合、萃取，经搅拌装置10混合后的混合液能流入离心机6内并对萃取液和溶剂进行分离。

由于预除杂装置已经去掉溶剂中的部分杂质，因此，由预除杂装置流入搅拌装置10内的混合液含有少量杂质。当含有少量杂质的混合液在搅拌装置10中与萃取液再次混合、萃取后，萃取液萃取到的杂质较少，萃取液的比重不会发生明显变化，使得萃取液和溶剂的比重相差较大，离心机6能轻松的将萃取液和溶剂分离。由离心机6分离出的含有杂质的萃取液和不含有杂质的溶剂能分别流出，由离心机6流出的溶剂能流入溶剂缓冲罐7中，位于溶剂缓冲罐7中的溶剂能由泵9抽出并输送至溶剂循环系统8供顺酐发生装置循环使用。

优选的，本实施方式中的溶剂洗涤系统还包括废水罐11，废水罐11分别与液体分离结构5和溶剂洗涤系统的离心机6相连接，由液体分离结构5和离心机6分离出的含有杂质的萃取液能流入废水罐11中。

废水罐11中的废水经沉降以后，位于下层的溶剂部分能经水泵抽出并通过液管输送至液体混合结构4中重新萃取溶剂中的杂质并进行循环使用。其中，液管上设置有流量控制阀。

优选的，废水罐11中设置有警示装置，该警示装置包括液位传感器、报警装置和控制器，液位传感器和报警装置分别与控制器相连接，当液位传感器检测到废水罐11中液体的液位高于设定值时，控制器控制报警装置发出报警提示信号，提示人员及时对废水罐11中的液体进行相应的处理。其中，报警装置可以是扬声器或者信号灯。

本实施方式中，萃取液为除盐水。除盐水是指除去悬浮物、胶体和无机的阳离子、阴离子等水中杂质后，所得到的成品水。

优选的，为了使搅拌装置10中的混合液能顺畅的流入离心机6内，本实施方式中搅拌装置10上设置有加压装置。其中，搅拌装置10为搅拌罐，压缩气体如氮气能通过增压泵输送进搅拌罐中。同时，当搅拌罐中具有适当压力时，萃取液能更快速的将溶剂中的杂质萃取出来。

优选的，搅拌罐内还设置有压力传感器，其中，压力传感器和增压泵分别与控制器相连接，设备运转时，当压力传感器检测到搅拌罐中的压力大于设定值时，控制器控制压力泵制动，停止输送压缩气体；当压力传感器检测到搅拌罐中的压力大于设定值时，控制器控制压力泵启动开始输送压缩气体。

本实施方式中的顺酐装置溶剂洗涤系统进入离心机6的萃取液和溶剂的比重相差较大，离心机6运转时能轻易的将溶剂和萃取液分离开，溶剂和萃取液不会出现倒相或混合在一起，溶剂中的副产物得以及时移除，保证溶剂吸收解吸系统能够平稳长周期运行。同时，本实施方式中的顺酐装置溶剂洗涤系统的结构简单、使用方便、除杂效果好。

本实用新型还提供一种顺酐发生装置，包括以上技术方案中的顺酐装置溶剂洗涤系统，由顺酐发生装置生产顺酐时使用的溶剂能流入顺酐装置溶剂洗涤系统进行清洁并循环使用，节约溶剂。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，包括预除杂装置和萃取液导入装置，其中，

所述预除杂装置和所述萃取液导入装置均与所述溶剂洗涤系统的搅拌装置(10)相连接；

所述预除杂装置能利用萃取液萃取溶剂中的杂质且能将萃取后得到的混合液沉淀并能将沉淀后含有杂质的萃取液排出所述预除杂装置，其余所述混合液能流入所述搅拌装置(10)内；

所述萃取液导入装置能向所述搅拌装置(10)内输入萃取液。

2.根据权利要求1所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述预除杂装置包括液体混合结构(4)和液体分离结构(5)，所述液体混合结构(4)与所述液体分离结构(5)相连接，所述液体分离结构(5)与所述搅拌装置(10)相连接。

3.根据权利要求2所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述液体混合结构(4)为搅拌罐或混合器中的一种；所述液体分离结构(5)为沉降罐。

4.根据权利要求2所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述溶剂洗涤系统还包括废水罐(11)，所述废水罐(11)分别与所述液体分离结构(5)和所述溶剂洗涤系统的离心机(6)相连接，由所述液体分离结构(5)和所述离心机(6)分离出的含有杂质的萃取液能流入所述废水罐(11)中。

5.根据权利要求4所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述废水罐(11)中设置有警示装置，所述警示装置包括液位传感器、控制器和报警装置，所述液位传感器和所述报警装置分别与所述控制器相连接。

6.根据权利要求2所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述液体混合结构(4)上设置有所述萃取液导入装置，所述萃取液导入装置包括用于输送萃取液的管道(1)，所述管道(1)上设置有流量控制阀；所述液体混合结构(4)上还设置有用于输送溶剂的管路(3)，所述管路(3)上设置有流量控制阀。

7.根据权利要求6所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述管道(1)上还设置有加热结构(2)。

8.根据权利要求1所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述萃取液为除盐水。

9.根据权利要求8所述的顺酐装置溶剂洗涤系统，其特征在于，所述搅拌装置(10)为搅拌罐，所述搅拌罐上设置有加压装置。

10.一种顺酐发生装置，其特征在于，包括权利要求1～9任意一项所述的顺酐装置溶剂洗涤系统。