CN208820639U - 定子组装预处理机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种定子组装预处理机构，包括定子上料组件、定子输送组件、定子等离子清洗组件、促进剂喷涂组件以及定位取料组件，定子上料组件的上料口与定子输送组件的输入端相接，定子输送组件的输出端与定位取料组件相接，定子等离子清洗组件以及促进剂喷涂组件均设置在定子输送组件的侧边，且促进剂喷涂组件设置在定子等离子清洗组件与定位取料组件之间。通过定子上料组件不断向定子输送组件传送定子件，清洗与促进剂喷涂一步到位，再由定位取料组件将处理后定子件转移到组装转盘上进行定子与磁瓦组装。本实用新型的定子组装预处理机构自动化操作管理，结构简单，易于实现，能够大大提高定子预处理的工作效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及定子磁瓦组装的技术领域，尤其涉及一种定子组装预处理机构。
背景技术
磁瓦是永磁体中的一种，主要用在永磁电机上的瓦状磁铁。与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同，永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源。永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点，可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小等。
传统定子磁瓦组装工艺如下，先对磁瓦进行充磁，然后完成定子与磁瓦组装、点胶、固化，由于磁瓦组装前充磁使作业员不易组装，故造成作业劳动强度大且生产效率低。
实用新型内容
针对上述技术中存在的不足之处，本实用新型提供一种自动化预处理定子的定子组装预处理机构。
为了达到上述目的，本实用新型一种定子组装预处理机构，包括定子上料组件、定子输送组件、定子等离子清洗组件、促进剂喷涂组件以及定位取料组件，所述定子上料组件的上料口与定子输送组件的输入端相接，所述定子输送组件的输出端与定位取料组件相接，所述定子等离子清洗组件以及促进剂喷涂组件均设置在定子输送组件的侧边，且所述促进剂喷涂组件设置在定子等离子清洗组件与定位取料组件之间。
其中，所述定子上料组件包括上料皮带以及定子挡板，所述定子挡板包括引导板以及出料板，所述引导板从上料皮带的一侧边引出并倾斜伸向出料板，所述出料板与上料皮带的另一侧边平行，且出料板与上料皮带的另一侧边的距离大于一个定子的直径且小于两个定子的直径。
其中，所述定子挡板还包括限位板，所述限位板固定在上料皮带的一侧边边沿上，所述出料板固定在定制输送组件上，所述引导板与上料皮带的滑动皮带面不接触。
其中，所述定子输送组件包括皮带线主动端、皮带线从动端、皮带线挡板以及感应定子光电开关，所述皮带线主动端与定子上料组件相接，所述皮带线从动端与定位取料组件相接，所述皮带线挡板设置在皮带线的两侧，多组感应定子光电开关均匀分布在皮带线挡板上。
其中，所述定子等离子清洗组件包括等离子支架、定子等离子清洗头以及等离子Z轴升降导轨，所述Z轴升降导轨固定在等离子支架上，所述定子等离子清洗头可滑动固定在Z轴升降导轨上，且所述定子等离子清洗头指向定子输送组件。
其中，所述促进剂喷涂组件包括促进剂支架、定子促进剂喷头以及促进剂Z轴升降导轨，所述Z轴升降导轨固定在促进剂支架上，所述定子促进剂喷头可滑动固定在Z轴升降导轨上，且所述定子促进剂喷头指向定子输送组件。
本实用新型的有益效果是：
与现有技术相比，本实用新型的定子组装预处理机构，通过定子上料组件不断向定子输送组件传送定子件，处于定子输送组件上的定子件依次经过定子等离子清洗组件清洗、促进剂喷涂组件喷涂促进剂，清洗与促进剂喷涂一步到位，再由定位取料组件将处理后定子件转移到组装转盘上进行定子与磁瓦组装。本实用新型的定子组装预处理机构自动化操作管理，结构简单，易于实现，能够大大提高定子预处理的工作效率。
附图说明
图1为本实用新型定子组装预处理机构的结构示意图；
图2为本实用新型定子组装预处理机构的定子上料组件的局部结构图；
图3为本实用新型定子组装预处理机构的定子输送组件的结构图；
图4为本实用新型定子组装预处理机构的定子等离子清洗组件的结构图；
图5为本实用新型定子组装预处理机构的促进剂喷涂组件的结构图。
主要元件符号说明如下：
21、定子上料组件 22、定子输送组件
23、定子等离子清洗组件 24、促进剂喷涂组件
25、定位取料组件
211、上料皮带 212、定子挡板
2121、引导板 2122、出料板
2123、限位板
221、皮带线主动端 222、皮带线从动端
223、皮带线挡板 224、感应定子光电开关
231、等离子支架 232、定子等离子清洗头
233、等离子Z轴升降导轨
241、促进剂支架 242、定子促进剂喷头
243、促进剂Z轴升降导轨。
具体实施方式
为了更清楚地表述本实用新型，下面结合附图对本实用新型作进一步地描述。
参阅图1，本实用新型一种定子组装预处理机构，包括定子上料组件21、定子输送组件22、定子等离子清洗组件23、促进剂喷涂组件24以及定位取料组件25，定子上料组件21的上料口与定子输送组件22的输入端相接，定子输送组件22的输出端与定位取料组件25相接，定子等离子清洗组件23以及促进剂喷涂组件24均设置在定子输送组件22的侧边，且促进剂喷涂组件24设置在定子等离子清洗组件23与定位取料组件25之间。
相较于现有技术，本实用新型的定子组装预处理机构，通过定子上料组件21不断向定子输送组件22传送定子件，处于定子输送组件22上的定子件依次经过定子等离子清洗组件23清洗、促进剂喷涂组件24喷涂促进剂，清洗与促进剂喷涂一步到位，再由定位取料组件25将处理后定子件转移到组装转盘上进行定子与磁瓦组装。本实用新型的定子组装预处理机构自动化操作管理，结构简单，易于实现，能够大大提高定子预处理的工作效率。
请进一步参阅图2，定子上料组件21包括上料皮带211以及定子挡板212，定子挡板212包括引导板2121以及出料板2122，引导板2121从上料皮带211的一侧边引出并倾斜伸向出料板2122，出料板2122与上料皮带211的另一侧边平行，且出料板2122与上料皮带211的另一侧边的距离大于一个定子的直径且小于两个定子的直径。
在本实施例中，定子挡板212还包括限位板2123，限位板2123固定在上料皮带211的一侧边边沿上，出料板2122固定在定制输送组件上，引导板2121与上料皮带211的滑动皮带面不接触。
限位板2123与出料板2122的固定实现了引导板2121的固定，上料皮带211上的定子件在皮带上随着皮带向出料板2122方向移动，在竖直移动过程中，倾斜的引导板2121挡住了定子件的移动范围，定子件就只能从出料板2122位置下料。而出料板2122与上料皮带211的另一侧边的距离大于一个定子的直径且小于两个定子的直径，这样就保证了每次下料都只能下一个定子件，保证单个定子件落入定子输送组件22中进行下一步工序。
请进一步参阅图3，定子输送组件22包括皮带线主动端221、皮带线从动端222、皮带线挡板223以及感应定子光电开关224，皮带线主动端221与定子上料组件21相接，皮带线从动端222与定位取料组件25相接，皮带线挡板223设置在皮带线的两侧，多组感应定子光电开关224均匀分布在皮带线挡板223上。感应定子光电开关224可以对皮带线上的定子件进行位置确定，只有皮带线上有定子，定子等离子清洗组件23以及促进剂喷涂组件24才会进行下一步操作。
请进一步参阅图4，定子等离子清洗组件23包括等离子支架231、定子等离子清洗头232以及等离子Z轴升降导轨233，Z轴升降导轨固定在等离子支架231上，定子等离子清洗头232可滑动固定在Z轴升降导轨上，且定子等离子清洗头232指向定子输送组件22。
请进一步参阅图5，促进剂喷涂组件24包括促进剂支架241、定子促进剂喷头242以及促进剂Z轴升降导轨243，Z轴升降导轨固定在促进剂支架241上，定子促进剂喷头242可滑动固定在Z轴升降导轨上，且定子促进剂喷头242指向定子输送组件22。
以上公开的仅为本实用新型的几个具体实施例，但是本实用新型并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种定子组装预处理机构，其特征在于，包括定子上料组件、定子输送组件、定子等离子清洗组件、促进剂喷涂组件以及定位取料组件，所述定子上料组件的上料口与定子输送组件的输入端相接，所述定子输送组件的输出端与定位取料组件相接，所述定子等离子清洗组件以及促进剂喷涂组件均设置在定子输送组件的侧边，且所述促进剂喷涂组件设置在定子等离子清洗组件与定位取料组件之间。
2.根据权利要求1所述的定子组装预处理机构，其特征在于，所述定子上料组件包括上料皮带以及定子挡板，所述定子挡板包括引导板以及出料板，所述引导板从上料皮带的一侧边引出并倾斜伸向出料板，所述出料板与上料皮带的另一侧边平行，且出料板与上料皮带的另一侧边的距离大于一个定子的直径且小于两个定子的直径。
3.根据权利要求2所述的定子组装预处理机构，其特征在于，所述定子挡板还包括限位板，所述限位板固定在上料皮带的一侧边边沿上，所述出料板固定在定制输送组件上，所述引导板与上料皮带的滑动皮带面不接触。
4.根据权利要求1所述的定子组装预处理机构，其特征在于，所述定子输送组件包括皮带线主动端、皮带线从动端、皮带线挡板以及感应定子光电开关，所述皮带线主动端与定子上料组件相接，所述皮带线从动端与定位取料组件相接，所述皮带线挡板设置在皮带线的两侧，多组感应定子光电开关均匀分布在皮带线挡板上。
5.根据权利要求1所述的定子组装预处理机构，其特征在于，所述定子等离子清洗组件包括等离子支架、定子等离子清洗头以及等离子Z轴升降导轨，所述Z轴升降导轨固定在等离子支架上，所述定子等离子清洗头可滑动固定在Z轴升降导轨上，且所述定子等离子清洗头指向定子输送组件。
6.根据权利要求1所述的定子组装预处理机构，其特征在于，所述促进剂喷涂组件包括促进剂支架、定子促进剂喷头以及促进剂Z轴升降导轨，所述Z轴升降导轨固定在促进剂支架上，所述定子促进剂喷头可滑动固定在Z轴升降导轨上，且所述定子促进剂喷头指向定子输送组件。
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