CN208679633U - 立式挤压涂布头 - Google Patents
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Abstract
一种立式挤压涂布头,包括第一涂布唇和第二涂布唇,在所述第一涂布唇和第二涂布唇之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇和第二涂布唇隔开形成涂布狭缝,在所述第一涂布唇或第二涂布唇上设有与涂布狭缝相通的料槽;在所述料槽的远离涂布出料口的一侧设有挡片,所述挡片将所述料槽隔挡出料槽出料口。本实用新型具有可以防止涂布时拖尾,且适合于垂直向下或者斜着向下涂布的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种挤压涂布头的改进,尤其是一种立式挤压涂布头。
背景技术
现有的挤压涂布头,如图1所示,包括第一涂布唇100和第二涂布唇200,在所述第一涂布唇100和第二涂布唇200之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇100和第二涂布唇200隔开形成涂布狭缝300,在第一涂布唇100和第二涂布唇200中一个涂布唇上设有料槽310,所述料槽310与所述涂布狭缝300相通。这种挤压涂布头在水平布置或斜着向上布置时,其涂布效果还是令人满意的。但是,这种挤压涂布头在重直向下或者斜着向下布置时,就会出现拖尾现象,所谓拖尾现象就是间歇式涂布时,当要中间停涂时,其浆料不能立即停止,而出的少量拖尾涂布现象,这种拖尾现象在锂电池电极的间歇式涂布过程中是不允许的。
挤压涂布头在垂直向下或者斜着向下布置时,出现拖尾现象的原因主要有以下几点:一是第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面的对浆料的阻力,二是停涂时料槽300所剩余的浆料对狭缝400内的浆料的压力。当停涂时,如果浆料对狭缝400内的浆料的压力等于或小于第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面的对浆料的阻力,则在出料口500不会出现拖尾现象,反之,就会出现拖尾现象。进一步分析认为,第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面的对浆料的阻力决定于两个因素,第一个因素是第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面的光洁度,当然,如果要获得较大阻力,需要第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面的越粗糙越好,第二个因素是浆料的粘度。在挤压涂布头的实际制造过程中,考虑到涂布时其它涂布效果,如涂布的均匀性,涂布的越均匀越好;涂布过程中,涂布出的浆料层要不能出现气泡造成的斑点等,对第一涂布唇100和第二涂布唇200相对面都要制成光洁度越高越好;而浆料的粘度,对于每一种浆料其粘度是一定的,是不能随便改变的。
因此,剩余的浆料对狭缝内的浆料的压力对于涂布时造成拖尾现象影响较大。
实用新型内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本实用新型提供了一种可以防止涂布时拖尾,且适合于垂直向下或者斜着向下涂布的立式挤压涂布头。
本实用新型的技术方案是:提供一种立式挤压涂布头,包括第一涂布唇和第二涂布唇,在所述第一涂布唇和第二涂布唇之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇和第二涂布唇隔开形成涂布狭缝,在所述第一涂布唇或第二涂布唇上设有与涂布狭缝相通的料槽;在所述料槽的远离涂布出料口的一侧设有挡片,所述挡片将所述料槽隔挡出料槽出料口。
作为对本实用新型的改进,所述挡片是由所述第一涂布唇或第二涂布唇上直接加工而成的。
作为对本实用新型的改进,所述挡片是由所述垫片向上延伸而成的。
作为对本实用新型的改进,在所述第一涂布唇或第二涂布唇上远离所述涂布出料口设有向下延伸的接触部。
作为对本实用新型的改进,所述接触部的底面是平面或弧面。
本实用新型由于采用了在所述料槽的远离涂布出料口的一侧设有挡片,所述挡片将所述料槽隔挡出料槽出料口的结构,当本实用新型暂时停业涂布时,浆料可以暂时存储在料槽内,而不会对狭缝里的浆料形成压力。所以,本实用新型具有可以防止涂布时拖尾,且适合于垂直向下或者斜着向下涂布的优点。
附图说明
图1是现有的挤压式涂布头的实施例的结构示意图;
图2是本实用新型的挤压式涂布头的第一种实施例的结构示意图;
图3是本实用新型的挤压式涂布头的第二种实施例的结构示意图;
图4是本实用新型的挤压式涂布头的第三种实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。
请参见图2,图2揭示的是本实用新型的一种立式挤压涂布头的第一实施例,包括第一涂布唇1和第二涂布唇2,在所述第一涂布唇1和第二涂布唇2之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇1和第二涂布唇2隔开形成涂布狭缝3,在所述第一涂布唇1或第二涂布唇2上设有与涂布狭缝3相通的料槽31;在所述料槽31的远离涂布出料口32的一侧设有挡片311,所述挡片311将所述料槽31隔挡出料槽出料口312。本实施例中,所述挡片311是由所述第一涂布唇1或第二涂布唇2上直接加工而成的。显然,所述挡片311也可以设计成是由所述垫片向上延伸而成的,也是可以达到同样效果的。
本实用新型在所述料槽31的远离涂布出料口32的一侧设有挡片311,所述挡片311将所述料槽31隔挡出料槽出料口312的结构,当本实用新型暂时停业涂布时,剩余浆料4可以暂时存储在料槽31内,而不会对狭缝3里的浆料形成压力。所以,本实用新型具有可以防止涂布时拖尾,且适合于垂直向下或者斜着向下涂布的优点。
请参见图3,图3揭示的是本实用新型的一种立式挤压涂布头的第二实施例,包括第一涂布唇1和第二涂布唇2,在所述第一涂布唇1和第二涂布唇2之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇1和第二涂布唇2隔开形成涂布狭缝3,在所述第一涂布唇1或第二涂布唇2上设有与涂布狭缝3相通的料槽31;在所述料槽31的远离涂布出料口32的一侧设有挡片311,所述挡片311将所述料槽31隔挡出料槽出料口312。本实施例中,所述挡片311是由所述第一涂布唇1或第二涂布唇2上直接加工而成的。显然,所述挡片311也可以设计成是由所述垫片向上延伸而成的,也是可以达到同样效果的。
本实用新型在所述料槽31的远离涂布出料口32的一侧设有挡片311,所述挡片311将所述料槽31隔挡出料槽出料口312的结构,当本实用新型暂时停业涂布时,剩余浆料4可以暂时存储在料槽31内,而不会对狭缝3里的浆料形成压力。所以,本实用新型具有可以防止涂布时拖尾,且适合于垂直向下或者斜着向下涂布的优点。
本实施例中,在远离出料口32的一侧的涂布唇上设有接触部11,且所述接触部11的底面111是弧面结构,这种设计,当本实施例垂直向下或斜向向下向基材上涂布时,接触部11的底面111抵在基材的前进方向的前面部位,可以起到背辊稳定基材不产生抖动的作用,同时,涂布头的浆料出口311悬在基材上方,并且浆料流出311涂布时呈自由状态流出(即不受传统的接触式涂布唇的延长部的任何影响),与非接触式的涂布效果一样,这样,就达到用接触式涂布的方式,达到非接触式的涂布效果的目的(现有技术中,非接触式的涂布效果要好于接触式的涂布效果)。
请参见图4,图4揭示的是本实用新型的一种立式挤压涂布头的第三实施例,图4所示实施例与图3所示实施例其大体结构相同,所不同的是所述接触部11的底面111是平面。
本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种立式挤压涂布头,包括第一涂布唇(1)和第二涂布唇(2),在所述第一涂布唇(1)和第二涂布唇(2)之间设有垫片,所述垫片将所述第一涂布唇(1)和第二涂布唇(2)隔开形成涂布狭缝(3),在所述第一涂布唇(1)或第二涂布唇(2)上设有与涂布狭缝(3)相通的料槽(31);其特征在于:在所述料槽(31)的远离涂布出料口(32)的一侧设有挡片(311),所述挡片(311)将所述料槽(31)隔挡出料槽出料口(312)。
2.根据权利要求1所述的立式挤压涂布头,其特征在于:所述挡片(311)是由所述第一涂布唇(1)或第二涂布唇(2)上直接加工而成的。
3.根据权利要求1所述的立式挤压涂布头,其特征在于:所述挡片(311)是由所述垫片向上延伸而成的。
4.根据权利要求1、2或3所述的立式挤压涂布头,其特征在于:在所述第一涂布唇(1)或第二涂布唇(2)上远离所述涂布出料口(32)设有向下延伸的接触部(11)。
5.根据权利要求4所述的立式挤压涂布头,其特征在于:所述接触部(11)的底面(111)是平面或弧面。
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CN201820807980.XU CN208679633U (zh) | 2018-05-26 | 2018-05-26 | 立式挤压涂布头 |
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CN108480137B (zh) * | 2018-05-26 | 2020-03-27 | 深圳市信宇人科技股份有限公司 | 立式涂压涂布头 |
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