CN208649452U - 真空蒸镀设备 - Google Patents
真空蒸镀设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN208649452U CN208649452U CN201821043273.4U CN201821043273U CN208649452U CN 208649452 U CN208649452 U CN 208649452U CN 201821043273 U CN201821043273 U CN 201821043273U CN 208649452 U CN208649452 U CN 208649452U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- crucible
- open end
- cylinder
- vacuum evaporation
- crucible body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 37
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 27
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 2
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 2
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical class [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- 240000005373 Panax quinquefolius Species 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种真空蒸镀设备,包括蒸镀室、坩埚组件、加热器以及机械手。所述坩埚组件位于所述蒸镀室内,所述坩埚组件包括第一埚体和多个第二埚体。所述第一埚体具有第一腔体,所述第一腔体具有第一开放端。每个所述第二埚体具有第二腔体,所述第二腔体具有第二开放端和喷口。将任一所述第二开放端可拆卸连接于所述第一开放端,以形成一坩埚。所述加热器位于所述蒸镀室内,并用于加热所述坩埚。所述机械手位于所述蒸镀室内,并用于将任一所述第二开放端与所述第一开放端拆卸或安装。本实用新型在解决堵塞时无需进行破真空处理,同时解决了疏通作业过程中坩埚下部的蒸发材料纯度降低的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空蒸镀技术领域,尤其涉及一种真空蒸镀设备。
背景技术
真空镀是一种使用较早且用途较为广泛的薄膜材料制备工艺,其包括真空蒸镀、溅射镀以及离子镀等类型。其中,真空蒸镀的过程为:在真空腔中加热坩埚中的蒸发材料,并使气化的蒸发材料经过坩埚喷口到达基片表面,进而沉积形成薄膜。该过程中,如果坩埚出现加热系统问题,会使气化的蒸发材料在坩埚喷喷口冷却凝固,形成堵塞。同时,蒸发材料在凝固过程中会发生变化,降低了其纯度。
为了避免堵塞对薄膜质量的影响,需要进行疏通作业。首先降低真空腔中的温度,接着对真空腔破真空,然后取出坩埚并清理堵塞,紧接着将坩埚重新置于真空腔,最后再进行抽真空和加热步骤。该过程包含一次破真空处理和一次抽真空处理,影响了蒸镀的稳定性。同时,在清理堵塞时,往往会使凝固于坩埚喷口的蒸发材料落入坩埚下部,进而混入盛放于坩埚下部的蒸发材料,降低了坩埚下部的蒸发材料的纯度。
需要说明的是,在上述背景技术部分实用新型的信息仅用于加强对本实用新型的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种真空蒸镀设备,能够在解决堵塞时无需进行破真空处理,同时使凝固于坩埚喷口的纯度较低的蒸发材料难以混入盛放于坩埚下部的蒸发材料,解决了疏通作业过程中坩埚下部的蒸发材料纯度降低的问题。
根据本实用新型的一个方面,提供一种真空蒸镀设备,包括蒸镀室、坩埚组件、加热器以及机械手。所述坩埚组件位于所述蒸镀室内,所述坩埚组件包括第一埚体和多个第二埚体。所述第一埚体具有第一腔体,所述第一腔体具有第一开放端。每个所述第二埚体具有第二腔体,所述第二腔体具有第二开放端和喷口。将任一所述第二开放端可拆卸连接于所述第一开放端,以形成一坩埚。所述加热器位于所述蒸镀室内,并用于加热所述坩埚。所述机械手位于所述蒸镀室内,并用于将任一所述第二开放端与所述第一开放端拆卸或安装。
在本实用新型的一种示例性实施例中,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端通过法兰连接。
在本实用新型的一种示例性实施例中,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端密封连接。
在本实用新型的一种示例性实施例中,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端的连接处设有密封圈。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述加热器包括第一加热器和第二加热器。所述第一加热器用于加热所述第一埚体。所述第二加热器用于加热所述第二埚体。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述第一加热器包括第一筒体,所述第一埚体至少部分地位于所述第一筒体内。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述第二加热器包括第二筒体,所述第二埚体至少部分地位于所述第二筒体内,且所述第二筒体与所述第一筒体可拆卸连接,所述机械手还用于将所述第一筒体和所述第二筒体拆卸或安装。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述第一筒体和所述第二筒体的连接端面与所述第一埚体和所述第二埚体的连接端面位于同一平面。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述第一筒体和所述第二筒体通过法兰连接。
在本实用新型的一种示例性实施例中,所述第一筒体和所述第二筒体均包括导电加热体,用于加热所述第一埚体和所述第二埚体。
本实用新型相比现有技术的有益效果在于:
本实用新型的坩埚组件包括第一埚体和多个第二埚体,且由于第一埚体和任一第二埚体可拆卸连接,从而在形成坩埚的第二埚体的喷口出现堵塞时可将其替换,无需进行破真空操作。同时,还避免了现有疏通作业过程中凝固的蒸发材料混入坩埚下部,解决了坩埚下部的蒸发材料纯度降低的问题。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本实用新型。
附图说明
通过参照附图来详细描述其示例性实施例,本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:
图1为现有真空蒸镀设备的示意图;
图2为本实用新型实施方式的真空蒸镀设备的示意图;
图3为本实用新型实施方式的坩埚的示意图;
图4为本实用新型实施方式的坩埚与加热器的装配示意图。
图中:1、气动单元连接口;2、真空室;3、坩埚;4、蒸汽流;5、基板加热器;6、基板;7、第一埚体;8、第一腔体;9、第一开放端;10、第二埚体;11、第二腔体;12、第二开放端;13、第一法兰;14、第二法兰;15、第一筒体;16、第二筒体;17、蒸发材料;18、蒸镀室;19、加热器;20、机械手。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施例使得本公开将全面和完整,并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、材料、装置等。在其它情况下,不详细示出或描述公知技术方案以避免模糊本公开的各方面。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。
用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”、“具有”以及“设有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
如图1所示,现有的真空蒸镀设备在进行蒸镀工艺时,通过气动单元连接口1使真空室2处于真空状态,并开启基板加热器5对基板6进行加热,接着加热坩埚3中的蒸发材料,使蒸发材料形成蒸汽流4。该蒸汽流4扩散达到基板6时会沉积,进而形成薄膜。该过程中,蒸汽流4在坩埚3喷口会冷却凝固,形成堵塞,进而会影响到薄膜质量。
为了避免堵塞对薄膜质量的影响,本实用新型实施方式提供一种真空蒸镀设备。如图2和图3所示,该真空蒸镀设备包括蒸镀室18、坩埚组件、加热器19以及机械手20。其中:
坩埚组件位于所述蒸镀室18内。坩埚组件包括第一埚体7和多个第二埚体10。第一埚体7具有第一腔体8,第一腔体8具有第一开放端9。每个第二埚体10具有第二腔体11,第二腔体11具有第二开放端12和喷口。将任一第二开放端12可拆卸连接于第一开放端9,以形成一坩埚。加热器19位于蒸镀室18内,并用于加热坩埚。机械手20位于所述蒸镀室18内,并用于将任一第二开放端12与第一开放端9拆卸或安装。
本实用新型的真空蒸镀设备的坩埚组件包括第一埚体7和多个第二埚体10,且由于第一埚体7和任一第二埚体10可拆卸连接,从而在形成坩埚的第二埚体10的喷口出现堵塞时可将其替换,无需进行破真空操作。同时,还避免了现有疏通作业过程中凝固的蒸发材料17混入坩埚下部,解决了坩埚下部的蒸发材料17纯度降低的问题。
下面对本实用新型实施方式的蒸发源装置的坩埚的各部件进行详细说明:
蒸镀室18能够为蒸发镀膜过程提供工作空间。该蒸镀室18可设有连接蒸镀室18内空间与外界的通孔。该通孔可连接于真空泵,以抽取蒸镀室18内的气体,使蒸镀室18处于真空状态。
如图3和图4所示,坩埚组件可包括第一埚体7和多个第二埚体10。第一埚体7具有第一腔体8,第一腔体8具有第一开放端9。该第一腔体8能够盛放从该第一开放端9进入的蒸发材料17。同时,盛放于第一腔体8中的蒸发材料17发生气化时,可通过第一开放端9到达第一腔体8外。其中,该第一腔体8可以为柱状腔,其一端为开放段,另一端为密封端。该柱状腔的横截面可以为圆形、矩形、正多边形等,在此不再一一列举。在本公开其它实施方式中,该第一腔体8还可以为其它形状,在此不再详述。
如图3和图4所示,每个第二埚体10具有第二腔体11,第二腔体11具有第二开放端12和喷口。其中,该第二腔体11可以为贯通腔,该贯通腔的一端为第二开放端12,另一端为喷口。该喷口可面向待镀膜基板。此外,该第二腔体11可以为柱状腔,其横截面可以为圆形、矩形、正多边形等,但本实用新型不限于此。此外,该第二开放端12的尺寸可等于第一开放端9的尺寸。在本公开其它实施方式中,该第二腔体11还可以为其它形状,在此不再进一步阐述。
如图3所示,将第一开放端9和任一第二开放端12可拆卸连接,以形成一坩埚。例如,第一开放端9设有第一法兰13,第二开放端12设有第二法兰14,该第一法兰13的螺栓孔与该第二法兰14的螺栓孔一一对应。通过将第一法兰13和第二法兰14螺栓连接,从而将第一开放端9和第二开放端12可拆卸连接。其中,该法兰可以为突面法兰、凹凸面法兰、榫槽面法兰等,但本实用新型对此不作特殊限定。再例如,第一开放端9和第二开放端12可通过卡箍连接。再例如,第一开放端9设有第一螺纹,第二开放端12设有与第一螺纹配合的第二螺纹。通过将第一螺纹和第二螺纹配合,从而将第一开放端9和第二开放端12可拆卸连接。在本公开其它实施方式中,第一开放端9和第二开放端12还可以通过其它方式可拆卸连接,在此不再详述。
如图3和图4所示,形成一坩埚的第一开放端9和第二开放端12密封连接,以避免气化的蒸发材料17从第一开放端9和第二开放端12的连接处泄露。例如,可以在第一开放端9和第二开放端12的连接处设置密封圈。具体的,当第一开放端9和第二开放端12通过突面法兰连接时,可将密封圈设于该凸面法兰的密封面。其中,该密封圈可以为无氧铜垫圈,以便具有良好的耐高温性能。当然,该密封圈还可以由其它具有良好耐高温性能的材料制备而成,例如氟橡胶,在此不再一一列举。再例如,当第一开放端9和第二开放端12通过螺纹连接时,可以采用螺纹密封剂进行密封。该螺纹密封剂可以为环氧树脂类密封剂、酚醛树脂类密封剂等,但本实用新型对此不作限定。在本公开其它实施方式中,第一开放端9和第二开放端12还可以通过其它方式密封连接,在此不再详述。
举例说明,如图3所示,该第一腔体8和该第二腔体11均为横截面为圆形的柱状腔。第一腔体8的一端为第一开放端9,另一端为密封端,且第一开放端9的尺寸大于密封端的尺寸。第二腔体11两端开放,一端为第二开放端12,另一端为喷口,且第二开放端12的尺寸等于第一开放端9的尺寸。其中,第一开放端9可第二开放端12通过突面法兰连接,且该法兰密封面上设有无氧铜垫圈。
如图3所示,本实用新型实施方式的第一埚体7和第二埚体10可以采用相同的材料制备而成。例如,第一埚体7和第二埚体10均可以由耐高温材料制备而成,以便提高其工作寿命。该耐高温材料可以为石墨、氮化硼、白金等,但本实用新型不以此为限。具体的,第一埚体7和第二埚体10均由石墨制备而成。在本实用新型其它实施方式中,第一埚体7和第二埚体10还可以采用不同的材料制备而成,在此不再详述。
如图2所示,加热器19用于加热坩埚中的蒸发材料。该加热器19能够以间接加热的方式向蒸发材料传递热量。例如,该加热器19可以通过加热坩埚来传递热量。该加热器19还能够以直接加热的方式向蒸发材料传递热量。例如,该加热器19可以直接与蒸发材料接触来传递热量。在本公开其它实施方式中,该加热器19还可以通过其它方式加热蒸发材料,在此不再详述。
具体而言,该加热器19可以通过加热坩埚向蒸发材料传递热量。其中,坩埚设于加热器19内,并能够从加热器19中取出。具体地,该加热器19具有空腔,该空腔具有开口部。通过该开口部,上述的坩埚能放置于该空腔中,也能从空腔中取出。该加热器19可呈整体式结构。例如,该加热器19呈一体式盆状结构,其具有一个底面以及围绕底面设置的侧面,且其上部为开口部。该开口部的尺寸应保证上述的坩埚能够穿过该开口部。
该加热器19还可以包括第一加热器和第二加热器。其中,该第一加热器用于加热第一埚体7。该第一加热器包括第一筒体15,第一埚体7至少部分地位于第一筒体15内。该第二加热器用于加热第二埚体10。该第二加热器包括第二筒体16,第二埚体10至少部分地位于第二筒体16内。其中,第一筒体15和第二筒体16可拆卸连接。该第一筒体15和第二筒体16可通过法兰连接,还可以通过螺纹连接,也可以通过卡箍连接,但本实用新型不以此为限。将可拆卸连接的第一筒体15和第二筒体16分离,该第一筒体15具有第一开口部,该第二筒体16具有第二开口部。通过第一开口部,第一埚体7能够放置于第一筒体15内或从第一筒体15内取出。通过第二开口部,第二埚体10能够放置于第二筒体16内或从第二筒体16内取出。需要说明的是,该第一开口部的尺寸应保证上述的第一埚体7能够穿过该第一开口部。该第二开口部的尺寸应保证上述的第二埚体10能够穿过该第二开口部。在本公开其它实施方式中,该加热器19还可以为其它结构,在此不再详述。
如图4所示,上述第一筒体15和第二筒体16的加热方式可以为电阻加热、电子束加热、射频感应加热、电弧加热、激光加热等。举例而言,第一筒体15和第二筒体16均采用电阻加热。其中,该第一筒体15和第二筒体16均包括有导电加热体,用于加热第一埚体7和第二埚体10。该导电加热体可以由钨制备而成,以使通过该导电加热体的电流具有良好的热效应。当然,该导电加热体还可以由钽、钼、碳等制备而成,本实用新型对此不作限定。此外,该导电加热体可设于第一筒体15和第二筒体16的筒壁中。当然,导电加热体还可以设于其它位置,只要能实现其作用即可,在此不再详述。
举例而言,如图3和图4所示,该加热器19包括通过第一筒体15和第二筒体16。该第一筒体15和第二筒体16通过法兰连接,且其连接面与上述的第一开放端9和第二开放端12的连接面位于同一平面。同时,该第一筒体15和第二筒体16的筒壁内均设有导电加热体,且该导电加热体由钨制备而成。
机械手20位于蒸镀室18内,不仅用于将任一第二开放端12与第一开放端9拆卸或安装,还可以将第一筒体15和第二筒体16拆卸或安装。
本领域技术人员在考虑说明书及实践后,将容易想到本实用新型的其它实施方案。本申请旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本实用新型的真正范围和精神由所附的权利要求指出。
Claims (10)
1.一种真空蒸镀设备,其特征在于,包括:
蒸镀室;
坩埚组件,位于所述蒸镀室内,所述坩埚组件包括第一埚体和多个第二埚体,所述第一埚体具有第一腔体,所述第一腔体具有第一开放端;每个所述第二埚体具有第二腔体,所述第二腔体具有第二开放端和喷口,且将任一所述第二开放端可拆卸连接于所述第一开放端,以形成一坩埚;
加热器,位于所述蒸镀室内,并用于加热所述坩埚;
机械手,位于所述蒸镀室内,并用于将任一所述第二开放端与所述第一开放端拆卸或安装。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备,其特征在于,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端通过法兰连接。
3.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备,其特征在于,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端密封连接。
4.根据权利要求3所述的真空蒸镀设备,其特征在于,形成一所述坩埚的所述第一开放端和所述第二开放端的连接处设有密封圈。
5.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述加热器包括:
第一加热器,用于加热所述第一埚体;
第二加热器,用于加热所述第二埚体。
6.根据权利要求5所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述第一加热器包括第一筒体,所述第一埚体至少部分地位于所述第一筒体内。
7.根据权利要求6所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述第二加热器包括第二筒体,所述第二埚体至少部分地位于所述第二筒体内,且所述第二筒体与所述第一筒体可拆卸连接,所述机械手还用于将所述第一筒体和所述第二筒体拆卸或安装。
8.根据权利要求7所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述第一筒体和所述第二筒体的连接端面与所述第一埚体和所述第二埚体的连接端面位于同一平面。
9.根据权利要求7所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述第一筒体和所述第二筒体通过法兰连接。
10.根据权利要求7所述的真空蒸镀设备,其特征在于,所述第一筒体和所述第二筒体均包括导电加热体,用于加热所述第一埚体和所述第二埚体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201821043273.4U CN208649452U (zh) | 2018-07-03 | 2018-07-03 | 真空蒸镀设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201821043273.4U CN208649452U (zh) | 2018-07-03 | 2018-07-03 | 真空蒸镀设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN208649452U true CN208649452U (zh) | 2019-03-26 |
Family
ID=65783262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201821043273.4U Expired - Fee Related CN208649452U (zh) | 2018-07-03 | 2018-07-03 | 真空蒸镀设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN208649452U (zh) |
-
2018
- 2018-07-03 CN CN201821043273.4U patent/CN208649452U/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101014878B (zh) | 流体冷却的离子源 | |
US9428831B2 (en) | Heat equalizer | |
CN208649452U (zh) | 真空蒸镀设备 | |
US20100040780A1 (en) | Large volume evaporation source | |
CN108103447A (zh) | 一种自封防漏低沸点材料热蒸发镀膜装置 | |
CN206359610U (zh) | 前驱体源控制系统 | |
JP3850651B2 (ja) | 気化器 | |
CN208016024U (zh) | 一种防腐蚀加热管及加热装置 | |
CN104928632B (zh) | 一种阴极电弧源 | |
KR101072471B1 (ko) | 전구체 공급장치 및 이를 포함하는 박막증착시스템 | |
CN207407707U (zh) | 一种巴氏杀菌装置用换热器 | |
WO2011120267A1 (zh) | 自动冷却式供电装置 | |
CN209974868U (zh) | 一种低温真空镀膜装置 | |
CN106643182B (zh) | 一种高温真空炉水冷电极 | |
CN218580036U (zh) | 蒸镀坩埚及蒸镀系统 | |
CN208362452U (zh) | 蒸发源及蒸镀设备 | |
CN106884150A (zh) | 一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置 | |
CN209608884U (zh) | 电加热管及电热水器 | |
CN218596483U (zh) | 一种真空镀膜机腔体冷却装置 | |
CN212628470U (zh) | 射频天线和烹饪设备 | |
CN109487218A (zh) | 蒸发源加热电导入装置及真空蒸发镀膜设备 | |
CN205313663U (zh) | 一种金属有机化学气相沉积设备 | |
CN204369969U (zh) | 真空镀膜设备真空腔室快速冷却系统 | |
CN208419239U (zh) | 一种没有水垢积存的太阳能热水器水箱 | |
KR200382858Y1 (ko) | 플라즈마 인핸스드 화학증착공법에서의 포지셔닝 히터라인을 위한 포지셔닝보드 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20221128 Address after: 510670 room 229, annex building, No. 111, Kexue Avenue, Huangpu District, Guangzhou City, Guangdong Province (office only) Patentee after: Hanwa Technology Co.,Ltd. Address before: 570216 room 213, 2nd floor, Haikou Free Trade Zone Management Committee, 168 Nanhai Avenue, Haikou City, Hainan Province Patentee before: HUAXIA YINENG (HAINAN) NEW ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20190326 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |