CN208572570U - 一种石墨烯改性的ptfe基pcb覆铜板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,包括PTFE基半固化片、铜箔;PTFE基半固化片、铜箔之间设有一层化学气相沉积石墨烯;其中石墨烯改性的PTFE基半固化片是通过化学气相沉积的方法将石墨烯生长到PTFE基半固化片的表面。然后通过热压方法将铜箔附于半固化片两侧。由于半固化片与铜箔之间存在石墨烯,因此使覆铜板的热学、电学和机械性能大大提高。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种新型PTFE基PCB覆铜板,属于PCB覆铜板的制备领域。
背景技术
印制电路板(Printed Circuit Board,PCB)是重要的电子部件,是电子元器件的支撑体,是电子元器件电气连接的载体。随着电子信息技术发展的不断进步,电子设备高频化是发展趋势,尤其随着无线网络、卫星通讯的日益发展,信息产品在不断走向高速与高频化。发展新一代产品都需要高频PCB板,尤其卫星系统、移动电话接收基站等通信产品必须应用高频电路板,随着这些应用在未来几年内迅速发展,会对高频PCB板有大量需求。
聚四氟乙烯(Poly tetra fluoroethylene,PTFE)具有优异的介电性能,它是目前为止发现的介电性能最好的有机材料,优异的介电性能有利于信号完整快速地传输。PTFE还有高耐热性和耐气候性能,这些性能保证电子设备可以在较恶劣的环境下长期正常工作,如暴露在户外、温差转换大的地方。所以,PTFE基覆铜板是军事、航天航空等领域不可缺少的材料之一。
石墨烯是一种由碳原子六角堆积组面的二维平面结构。由于其具有优异的热学、电学、机械等性能,最近几年热受关注。PCB覆铜板的半固化片需要优异的热性能和机械性能,铜箔又需要优异的电学性能。因此,我们致力于通过引入石墨烯来提高PCB覆铜板的热学、电学和机械性能。从而大大提高现在普通PCB覆铜板的性能,为5G通讯时代高频覆铜板的技术进步贡献力量。
实用新型内容
实用新型目的:为了克服现有技术中存在的不足,本实用新型提供一种新型石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,主要包括石墨烯改性的PTFE基半固化片和铜箔,具体结构如图1所示。
技术方案:为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:一种石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,包括PTFE基半固化片、铜箔;PTFE基半固化片、铜箔之间设有一层化学气相沉积石墨烯;
第二种石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,包括PTFE基半固化片、铜箔;PTFE基半固化片的两面皆为一层化学气相沉积石墨烯,石墨烯的外面为铜箔。
第二种石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板的结构:石墨烯改性的PTFE基半固化片是通过化学气相沉积的方法将石墨烯生长到PTFE基半固化片的表面。然后通过热压方法将铜箔附于半固化片两侧。通过此方法制备的PCB覆铜板,由于半固化片与铜箔之间存在石墨烯,因此使覆铜板的热学、电学和机械性能大大提高。
石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板制备方法包括以下步骤:
S1:将裁剪好的玻璃纤维布浸渍到PTFE乳液中,其中PTFE乳液的固含量要大于50%,PH值为9-10,浸渍时间为5-10分钟,然后进行烘干,烘干温度为250℃,烘干时间为15-20分钟。
S2:将通过步骤S1方法得到的两片半固化片放置于于化学气相沉积设备腔体中,进行石墨烯生长。
S3:将生长完石墨烯的两片半固化片的面朝外,没有长生石墨烯的面相对,然后根据所需要覆铜板厚度,中间再加入1-5片步骤S1中得到的半固化片。
S4:将步骤S3中结构的上下两面再放上铜箔,放到热压炉中进行热压。热压条件为,真空度抽到大于1×10-3mbar后,开始升温,升温过程为先用30-50分钟快速升到150℃,然后用90-100分钟时间升温到300-350℃。保温时间为90-120分钟。加压的过程分为两步,升温过程施加压力为4-5MPa,保温过程施加压力为4.5-5.5MPa。
S5:步骤S4过程结束后,自然降温至室温,然后卸压,卸压速度应小于0.1MPa/s。
S6:将压合好的PCB覆铜板从热压炉中取出,然后用裁边机对PCB板裁边。
本实用新型的工作原理为:将PTFE基半固化片与铜箔之间用化学气相沉积的方法生长石墨烯,通石墨烯的优异性能,大大提高覆铜板的电学、热学和机械性能。
进一步的,所述步骤S2中,石墨烯生长过程中,化学气相沉积设备真空度应大于1×10-3mbar,生长温度为295-302℃。
表1实施例1和2中得到覆铜板性能测试分析
有益效果:本实用新型提供的一种新型石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板的制备方法,相对于现有技术,具有以下优点:(1)制作工艺简单,成本较低,操作周期短,重复性能好,适合量产;(2)通过在PTFE基覆铜板半固化片与铜箔之间用化学气相沉积方法生长石墨烯,从而使得覆铜板的热学、电学和机械性能大大提升,为5G时代对PCB板的更高要求打下基础。而常用的PCB介质是FR4材料的,相对空气的介电常数是4.2-4.7。这个介电常数是会随温度变化的,在0-70度的温度范围内,其最大变化范围可以达到20%。介电常数的变化会导致线路延时10%的变化,温度越高,延时越大。介电常数还会随信号频率变化,频率越高介电常数越小。100M以下可以用4.5计算板间电容以及延时。一般的FR4材料的PCB板中内层信号的传输速度为180ps/inch(1inch=1000mil=2.54cm)。
附图说明
图1为本本实用新型结构示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作更进一步的说明。
实施例1:
石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,31为上层铜箔;21为上层石墨烯(厚度为40-200nm);1为PTFE基半固化片;22为下层石墨烯(厚度为200nm以下);32为下层铜箔。
石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板的制备方法,包括以下步骤:
S1:将裁剪好的玻璃纤维布浸渍到PTFE乳液中,其中PTFE乳液的固含量为55%,PH值为10,浸渍时间为10分钟,然后进行烘干,烘干温度为250℃,烘干时间为20分钟。
S2:将通过步骤S1方法得到的两片半固化片放置于于化学气相沉积设备腔体中,进行石墨烯生长。石墨烯生长过程中,化学气相沉积设备真空度为2×10-4mbar,生长温度为301℃。利用CH4为碳源、H2为载气的CVD法生长石墨烯,氢气和甲烷气体的流量比为1∶1~1∶10,持续通气50~70min;得到石墨烯产品;
S3:将生长完石墨烯的两片半固化片的面朝外,没有长生石墨烯的面相对,然后中间再加入4片步骤S1中得到的半固化片。
S4:将步骤S3中结构的上下两面再放上铜箔,放到热压炉中进行热压。热压条件为,真空度抽到5×10-4mbar后,开始升温,升温过程为先用50分钟快速升到150℃,然后用100分钟时间升温到320℃。保温时间为120分钟。加压的过程分为两步,升温过程施加压力为5MPa,保温过程施加压力为5.5MPa。
S5:步骤S4过程结束后,自然降温至室温,然后卸压,卸压速度为0.05MPa/s。
S6:将压合好的PCB覆铜板从热压炉中取出,然后用裁边机对PCB板裁边。
实施例2:
一种新型石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板的制备方法,包括以下步骤:
S1:将裁剪好的玻璃纤维布浸渍到PTFE乳液中,其中PTFE乳液的固含量为60%,PH值为9,浸渍时间为8分钟,然后进行烘干,烘干温度为250℃,烘干时间为20分钟。
S2:将通过步骤S1方法得到的两片半固化片放置于于化学气相沉积设备腔体中,进行石墨烯生长。石墨烯生长过程中,化学气相沉积设备真空度为2×10-4mbar,生长温度为298℃。
S3:将生长完石墨烯的两片半固化片的面朝外,没有长生石墨烯的面相对,然后在中间再加入5片步骤S1中得到的半固化片。
S4:将步骤S3中结构的上下两面再放上铜箔,放到热压炉中进行热压。热压条件为,真空度抽到2×10-4mbar后,开始升温,升温过程为先用40分钟快速升到150℃,然后用10分钟时间升温到340℃。保温时间为120分钟。加压的过程分为两步,升温过程施加压力为5MPa,保温过程施加压力为5.5MPa。
S5:步骤S4过程结束后,自然降温至室温,然后卸压,卸压速度为0.05MPa/s。
S6:将压合好的PCB覆铜板从热压炉中取出,然后用裁边机对PCB板裁边。
通过实施例1和实施例2得到的石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板的热性、电学和机械性能如表1所示。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,其特征在于,包括PTFE基半固化片、铜箔;PTFE基半固化片、铜箔之间设有一层化学气相沉积石墨烯。
2.一种石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,其特征在于,包括PTFE基半固化片、铜箔;PTFE基半固化片的两面皆为一层化学气相沉积石墨烯,石墨烯的外面为铜箔。
3.根据权利要求1或2所述的石墨烯改性的PTFE基PCB覆铜板,其特征在于,石墨烯厚度为40-200nm。
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CN108521717A (zh) * | 2018-06-04 | 2018-09-11 | 南京大学 | 一种石墨烯改性的ptfe基pcb覆铜板及制备方法 |
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