CN208437002U - 一种纳米技术设备的粉碎室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及纳米技术设置的技术领域，特指一种纳米技术设备的粉碎室，包括粉碎腔与配气盘，粉碎腔上部设有进料口，粉碎腔下部设有出料口，配气盘上连接有弯管，弯管上设有喷嘴，弯管通过喷嘴连接于粉碎腔的内腔。本实用新型采用这样的结构设置，粉体进料口进入粉碎腔内，通过配气盘分配的压力气体送入弯管，再由弯管上的喷嘴输入粉碎腔内，气体的动能转化为粉碎能，粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦，不断形成产生超微细粉，最后从出料口排出，其粉碎百分数高，且质量稳定。
Description
技术领域
本实用新型涉及纳米技术设置的技术领域，特指一种纳米技术设备的粉碎室。
背景技术
现有的粉碎机在将物料粉碎的过程中，常出现粉碎原料粉碎质量低、需要进行二次、三次甚至多次粉碎才能获得细度符合要求的超微细粉，粉碎机的粉碎百分数低，生产效率与经济效益较低，难以满足市场要求。
实用新型内容
针对以上问题，本实用新型提供了一种纳米技术设备的粉碎室，其粉碎百分数高，且质量稳定，经济效益和社会效益显著提高。
为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：
一种纳米技术设备的粉碎室，包括粉碎腔与配气盘，粉碎腔上部设有进料口，粉碎腔下部设有出料口，配气盘上连接有弯管，弯管上设有喷嘴，弯管通过喷嘴连接于粉碎腔的内腔。
进一步而言，所述配气盘包括储存气体、分配气体压力以及流量的圆盘结构，配气盘上设有进气口。
进一步而言，所述配气盘通过弯管接口连接有四个弯管，且四个弯管均匀对称设于配气盘上。
进一步而言，所述喷嘴包括拉瓦尔式喷管，喷嘴采用W18Cr4V材料制成。
进一步而言，所述粉碎腔侧壁上设有观察窗。
进一步而言，所述粉碎腔包括不锈钢材料制成的圆柱体结构。
本实用新型有益效果：
本实用新型采用这样的结构设置，其工作原理是通过配气盘分配的压力气体送入弯管，再由弯管上的喷嘴输入粉碎腔内，其中喷嘴采用拉瓦尔式喷管，气流在被喷射的过程中，由于反作用力的作用，在扩张管道的曲面上得到了微波，这个微波又正向作用在喷射的气流中，使喷射的气流密度增加，由于气流密度的作用，使喷射中的气流速度更快，喷射的柱截面更大，在对喷的区域内高速的气流喷射形成一定负压能，粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦，不断形成产生超微细粉，其粉碎百分数高，且质量稳定，经济效益和社会效益显著提高。
附图说明
图1是本实用新型纸尿裤芯体结构示意图；
图2是配气盘结构俯视图。
1.粉碎腔；2.配气盘；3.弯管；4.喷嘴；5.观察窗；6.进料口；7.出料口；8.进气口；9.弯管接口。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型的技术方案进行说明。
如图1和图2所示，本实用新型所述一种纳米技术设备的粉碎室，包括粉碎腔1与配气盘2，粉碎腔1上部设有进料口6，粉碎腔1下部设有出料口7，配气盘2上连接有弯管3，弯管3上设有喷嘴4，弯管3通过喷嘴4连接于粉碎腔1的内腔。以上所述构成本实用新型基本结构。
本实用新型采用这样的结构设置，其工作原理是：粉体进料口6进入粉碎腔1内，通过配气盘2分配的压力气体送入弯管3，再由弯管3上的喷嘴4输入粉碎腔1内，气体的动能转化为粉碎能，粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦，不断形成产生超微细粉，最后从出料口7排出，其粉碎百分数高，且质量稳定。
更具体而言，所述配气盘2包括储存气体、分配气体压力以及流量的圆盘结构，配气盘2上设有进气口8。采用这样的结构设置，通过进气口8将气体输入配气盘2中进行气体的储存以及分配。
更具体而言，所述配气盘2通过弯管接口9连接有四个弯管3，且四个弯管3均匀对称设于配气盘2上。采用这样的结构设置，使喷入粉碎腔1内的气体更均匀，且能形成对流区域。
更具体而言，所述喷嘴4包括拉瓦尔式喷管，喷嘴4采用W18Cr4V材料制成。采用这样的结构设置，气流在被喷射的过程中，由于反作用力的作用，在扩张管道的曲面上得到了微波，这个微波又正向作用在喷射的气流中，使喷射的气流密度增加，由于气流密度的作用，使喷射中的气流速度更快，喷射的柱截面更大，在对喷的区域内高速的气流喷射形成一定负压能，粉体颗粒在高速、负压的区域内经反复地碰撞、冲击、摩擦，不断形成产生超微细粉，其粉碎百分数高，且质量稳定，喷嘴4采用W18Cr4V材料制成具有高硬度和耐磨性，使用寿命长。
更具体而言，所述粉碎腔1侧壁上设有观察窗5。采用这样的结构设置，通过观察窗5便于得知粉碎腔1内的粉体状况。
更具体而言，所述粉碎腔1包括不锈钢材料制成的圆柱体结构。
实际应用中，本实用新型对粉体颗粒进行加工粉碎，质量稳定，粉碎比可达700～1500，经济效益和社会效益显著提高。
以上结合附图对本实用新型的实施例进行了描述，但本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：包括粉碎腔(1)与配气盘(2)，所述粉碎腔(1)上部设有进料口(6)，所述粉碎腔(1)下部设有出料口(7)，所述配气盘(2)上连接有弯管(3)，所述弯管(3)上设有喷嘴(4)，所述弯管(3)通过喷嘴(4)连接于粉碎腔(1)的内腔。
2.根据权利要求1所述的一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：所述配气盘(2)包括储存气体、分配气体压力以及流量的圆盘结构，所述配气盘(2)上设有进气口(8)。
3.根据权利要求1所述的一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：所述配气盘(2)通过弯管接口(9)连接有四个弯管(3)，且四个弯管(3)均匀对称设于配气盘(2)上。
4.根据权利要求1所述的一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：所述喷嘴(4)包括拉瓦尔式喷管，所述喷嘴(4)采用W18Cr4V材料制成。
5.根据权利要求1所述的一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：所述粉碎腔(1)侧壁上设有观察窗(5)。
6.根据权利要求1所述的一种纳米技术设备的粉碎室，其特征在于：所述粉碎腔(1)包括不锈钢材料制成的圆柱体结构。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201820804279.2U CN208437002U (zh) | 2018-05-28 | 2018-05-28 | 一种纳米技术设备的粉碎室 |
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Publications (1)
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| CN208437002U true CN208437002U (zh) | 2019-01-29 |
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Family Applications (1)
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2018
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