CN208271837U - 一种用于晶片的清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于半导体晶片清洗设备技术领域，涉及一种用于晶片的清洗设备；其结构包括超声槽和升降机构；所述的超声槽为长方体结构，其内部下端设置有导热板，导热板与超声槽侧面密封设置；导热板与超声槽底面内侧之间设置有加热装置；升降机构包括伸缩杆、伸缩油缸和电机；伸缩杆贯穿超声槽顶面延伸至超声槽内部；伸缩杆底端与置物架固定连接，顶端与电机的输出端连接；电机设置在支撑板上，支撑板底面两侧均通过固定块与伸缩油缸的输出端固定连接；伸缩油缸固定设置在连接板上；连接板与超声槽顶面相对滑动设置；该设备能够同时做上下往复运动和水平方向的旋转，对晶片实现全方位清洗，加快了清洗速度，提高了清洗质量，便于设备维护。

Description

一种用于晶片的清洗设备

技术领域

本实用新型属于半导体晶片清洗设备技术领域，涉及一种用于晶片的清洗设备。

背景技术

随着半导体器件工艺制作的不断完善，半导体衬底的质量，尤其是晶片表面的质量对器件的可靠性和稳定性影响也越来越大。其中，晶片清洗是生产晶片的重要步骤之一，是获取高质量晶片的关键。传统的清洗方式采用人工清洗，存在许多不确定因素，例如操作力度、清洗手法等不同，清洗的效果也不同，无法达到标准化清洗的模式，因此，为提高晶片的清洗质量，有必要设计一种用于晶片的清洗设备，不仅能够自动升降用于放置晶片的花篮，又能够多角度对晶片清洗，达到对晶片全面清洗的效果，方便安装和拆卸，易于维护。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于克服现有技术存在的缺点，提出设计一种用于晶片的清洗设备，以解决现有技术对晶片清洗效果不佳的问题，实现对晶片全面清洗的效果，且结构简单，易于操作，提高了晶片质量和生产效率。

本实用新型涉及的用于晶片的清洗设备，其主体结构包括超声槽和升降机构；所述的超声槽为长方体结构，其内部下端设置有导热板，导热板与超声槽侧面密封设置；导热板与超声槽底面内侧之间设置有加热装置；所述的升降机构包括伸缩杆、伸缩油缸和电机；伸缩杆贯穿超声槽顶面延伸至超声槽内部；伸缩杆底端与置物架固定连接，顶端与电机的输出端连接，电机带动伸缩杆旋转；电机设置在支撑板上，支撑板底面两侧均通过固定块与伸缩油缸的输出端固定连接；伸缩油缸固定设置在连接板上；连接板与超声槽顶面相对滑动设置。

优选的，所述的超声槽顶面两侧对称设置有凹槽；所述的连接板为倒置U型结构，其两侧的竖板放置在凹槽中，提高连接板的稳固性，且方便拆卸和安装升降机构。

优选的，所述的凹槽与连接板两端通过卡扣件进行固定，以保证电机和伸缩油缸工作时的稳定性。

优选的，所述的连接板上固定设置有套管；套管套设在伸缩杆的外周，与伸缩杆同轴设置；套管上左右两侧对称设置有插孔；所述的伸缩杆靠近电机的一端设置有与插孔配合使用的通孔；当需要取下电机时，将插孔与下伸缩杆上的插孔完全重合，此时，在插孔中插入销轴，将伸缩杆固定在管套上，然后将电机从支撑板和伸缩杆上拆卸下来，可拆卸连接方便设备的拆装和维护，便于更换电机，并保证伸缩杆的位置固定，防止伸缩杆完全落入超声槽内部。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：能够同时做上下往复运动和水平方向的旋转，对晶片实现全方位清洗，加快了清洗速度，提高了清洗质量；套管的设置方便拆装电机，便于设备维护，操作简单，使用方便。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构原理示意图；

其中，1超声槽、2导热板、3伸缩杆、4伸缩油缸、5电机、6置物架、7支撑板、8固定块、9连接板、10凹槽、11卡扣件、12套管、13插孔。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

下面通过具体实施例并结合附图对本实用新型作进一步说明。

实施例1：

本实施例所述的用于晶片的清洗设备，其主体结构包括超声槽1和升降机构；所述的超声槽1为长方体结构，其内部下端设置有导热板2，导热板2与超声槽1侧面密封设置；导热板2与超声槽1底面内侧之间设置有加热装置；所述的升降机构包括伸缩杆3、伸缩油缸4和电机5；伸缩杆3贯穿超声槽1顶面延伸至超声槽1内部；伸缩杆3底端与置物架6固定连接，顶端与电机5的输出端连接，电机5带动伸缩杆3旋转；电机5设置在支撑板7上，支撑板7底面两侧均通过固定块8与伸缩油缸4的输出端固定连接；伸缩油缸4固定设置在连接板9上；连接板9与超声槽1顶面相对滑动设置。

本实施例所述的超声槽1顶面两侧对称设置有凹槽10；所述的连接板9为倒置U型结构，其两侧的竖板放置在凹槽10中，提高连接板9的稳固性，且方便拆卸和安装升降机构。

本实施例所述的凹槽10与连接板9两端通过卡扣件11进行固定，以保证电机5和伸缩油缸4工作时的稳定性。

本实施例所述的连接板9上固定设置有套管12；套管12套设在于伸缩杆3的外周，与伸缩杆3同轴设置；套管12上左右两侧对称设置有插孔13；所述的伸缩杆3靠近电机5的一端设置有与插孔13配合使用的通孔；当需要取下电机5时，将插孔13与下伸缩杆32上的插孔完全重合，此时，在插孔13中插入销轴，将伸缩杆3固定在管套12上，然后将电机5从支撑板7和伸缩杆3上拆卸下来，可拆卸连接方便设备的拆装和维护，便于更换电机5，并保证伸缩杆3的位置固定，防止伸缩杆3完全落入超声槽1内部。

本实施例在使用时，首先将待清洗的晶片花篮搭载在置物架6上，然后开启电机5和伸缩油缸4，通过电机5带动伸缩杆3在水平方向旋转，从而带动晶片和花篮在超声槽1内的液体中做水平方向的圆周运动，通过伸缩油缸4带动支撑板7上下运动，支撑板7带动伸缩杆3上下运动，从而带动置物架6做上下往复运动，从而实现对晶片全面清洗的效果，且容易拆装和维护。

上述具体实施方式仅是本实用新型的具体个案，本实用新型的专利保护范围包括但不限于上述具体实施方式的产品形态和式样，任何符合本实用新型权利要求书且任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应落入本实用新型的专利保护范围。

Claims (4)

1.一种用于晶片的清洗设备，其特征在于：主体结构包括超声槽（1）和升降机构；所述的超声槽（1）为长方体结构，其内部下端设置有导热板（2），导热板（2）与超声槽（1）侧面密封设置；导热板（2）与超声槽（1）底面内侧之间设置有加热装置；所述的升降机构包括伸缩杆（3）、伸缩油缸（4）和电机（5）；伸缩杆（3）贯穿超声槽（1）顶面延伸至超声槽（1）内部；伸缩杆（3）底端与置物架（6）固定连接，顶端与电机（5）的输出端连接；电机（5）设置在支撑板（7）上，支撑板（7）底面两侧均通过固定块（8）与伸缩油缸（4）的输出端固定连接；伸缩油缸（4）固定设置在连接板（9）上；连接板（9）与超声槽（1）顶面相对滑动设置。

2.根据权利要求1所述的用于晶片的清洗设备，其特征在于：所述的超声槽（1）顶面两侧对称设置有凹槽（10）；所述的连接板（9）为倒置U型结构，其两侧的竖板放置在凹槽（10）中。

3.根据权利要求2所述的用于晶片的清洗设备，其特征在于：所述的凹槽（10）与连接板（9）两端通过卡扣件（11）进行固定。

4.根据权利要求1所述的用于晶片的清洗设备，其特征在于：所述的连接板（9）上固定设置有套管（12）；套管（12）套设在于伸缩杆（3）的外周，与伸缩杆（3）同轴设置；套管（12）上左右两侧对称设置有插孔（13）；所述的伸缩杆（3）靠近电机（5）的一端设置有与插孔（13）配合使用的通孔。