CN208256617U - 一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，本实用新型包括外壳、集液槽、储液箱、第一输送泵、加热器、流量控制阀和控制器，外壳的内部安装有分隔板，分隔板的左侧安装有导流板，导流板上安装有放置板，导流板的下部安装有集液槽，集液槽的下部安装有进液管，进液管的下端安装在储液箱的上部，储液箱的右侧安装有输液管，输液管上安装有第一输送泵。本实用新型提供了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，通过设置的外壳、集液槽、储液箱、第一输送泵、加热器、流量控制阀和控制器，解决了清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗，且不便于控制清洗液的出液量的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体洗净技术领域，具体为一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备。
背景技术
半导体再加工过程中，通常使用为双氧水来作为洗净液。在此洗净方法中，利用最初的双氧水洗净液(包含氨和双氧水的混合液)来移除表面附着有机物与粒子，然后利用接下来的盐酸/双氧水洗净液(包含盐酸和双氧水的混合液)来移除金属杂质，再次利用纯水冲洗冲掉化学药品，然后进行干燥。
但是，现有的半导体的洗净处理设备具有以下不足：
1.在使用过程中，清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗；
2.在清洗过程中，不便于控制清洗液的出液量。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，解决了清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗，且不便于控制清洗液的出液量的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，包括外壳、集液槽、储液箱、第一输送泵、加热器、流量控制阀和控制器，所述外壳的内部安装有分隔板，所述分隔板的左侧安装有导流板，所述导流板上安装有放置板，所述导流板的下部安装有集液槽，所述集液槽的下部安装有进液管，所述进液管的下端安装在储液箱的上部，所述储液箱的右侧安装有输液管，所述输液管上安装有第一输送泵，所述第一输送泵通过固定座固定在外壳上，所述输液管上安装有检测管，所述输液管通过管道固定座固定在分隔板上，所述输液管的上端安装在加热器上，所述加热器的左侧安装有出液管，所述出液管上安装有第二输送泵，所述出液管的下端安装有喷头，所述出液管上安装有流量控制阀，所述外壳的右侧内壁上安装有控制器。
优选的，所述放置板通过支撑杆固定在导流板的上表面，所述放置板上设置有分布均匀的漏液孔，所述导流板向右下侧倾斜安装。
优选的，所述检测管通过连接座与输液管固定连接，所述检测管上设置有安置腔，所述安置腔内安装有温度传感器。
优选的，所述出液管上的第二输送泵安置在分隔板的左侧，所述出液管通过支架固定在外壳上部的内壁上，所述出液管上的喷头正对放置板的中间位置处。
优选的，所述集液槽安装在导流板的右下侧，所述集液槽的内部安装有过滤网，所述集液槽与储液箱通过进液管相互连通。
优选的，所述控制器通过传导线分别与第一输送泵、加热器、第二输送泵、流量控制阀和温度传感器电性连接。
本实用新型提供了一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，具备以下有益效果：
(1)本实用新型，通过设置的加热器、控制器和温度传感器，运行时，控制器控制第一输送泵运行通过输液管将储液箱中的清洗液输送到加热器中，此时检测管中的温度传感器运行感知清洗液的温度，并将数据传输到控制器中，第二输送泵运行将加热器中加热的清洗液抽取到出液管中，出液管中的清洗液从喷头喷出清洗放置板上的半导体制品，当控制器接收的温度数据小于设定值时，控制器控制加热器运行将清洗液加热到设定的温度，解决了在使用过程中，清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗的问题；
(2)本实用新型，通过设置的流量控制阀，在出液管输液时，控制器通过控制流量控制阀开关的大小，从而实现控制出液管输液量的大小，解决了在清洗过程中，不便于控制清洗液的出液量的问题。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型图1中检测管的结构示意图；
图3为本实用新型图1中放置板的结构示意图。
图中：1、外壳；2、分隔板；3、导流板；4、放置板；5、支撑杆；6、集液槽；7、过滤网；8、进液管；9、储液箱；10、输液管；11、第一输送泵；12、管道固定座；13、检测管；14、加热器；15、出液管；16、第二输送泵；17、固定座；18、支架；19、流量控制阀；20、喷头；21、控制器；22、连接座；23、安置腔；24、温度传感器；25、漏液孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3所示，本实用新型提供的一种实施例；一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，包括外壳1、集液槽6、储液箱9、第一输送泵11、加热器14、流量控制阀19和控制器21，外壳1的内部安装有分隔板2，分隔板2的左侧安装有导流板3，导流板3上安装有放置板4，放置板4通过支撑杆5固定在导流板3的上表面，放置板4上设置有分布均匀的漏液孔25，导流板3向右下侧倾斜安装，导流板3的下部安装有集液槽6，集液槽6安装在导流板3的右下侧，集液槽6的内部安装有过滤网7，集液槽6与储液箱9通过进液管8相互连通，集液槽6的下部安装有进液管8，进液管8的下端安装在储液箱9的上部，储液箱9的右侧安装有输液管10，输液管10上安装有第一输送泵11，第一输送泵11的型号为MP-70RM,第一输送泵11通过固定座17固定在外壳1上，输液管10上安装有检测管13，检测管13通过连接座22与输液管10固定连接，检测管13上设置有安置腔23，安置腔23内安装有温度传感器24，温度传感器24的型号为pt100，输液管10通过管道固定座12固定在分隔板2上，输液管10的上端安装在加热器14上，加热器14的型号为YJP-Q25/2加热器14的左侧安装有出液管15，出液管15上的第二输送泵16安置在分隔板2的左侧，出液管15通过支架18固定在外壳1上部的内壁上，出液管15上的喷头20正对放置板4的中间位置处，出液管15上安装有第二输送泵16，第二输送泵16的型号为MP-70RM,出液管15的下端安装有喷头20，出液管15上安装有流量控制阀19，流量控制阀19的型号为LDG-MK-C,外壳1的右侧内壁上安装有控制器21，控制器21的型号为TurionX2UltraZM-85，控制器21通过传导线分别与第一输送泵11、加热器14、第二输送泵16、流量控制阀19和温度传感器24电性连接。
工作原理：本实用新型运行时，控制器21控制第一输送泵11运行通过输液管10将储液箱9中的清洗液输送到加热器14中，此时检测管13中的温度传感器24运行感知清洗液的温度，并将数据传输到控制器21中，第二输送泵16运行将加热器14中加热的清洗液抽取到出液管15中，出液管15中的清洗液从喷头20喷出清洗放置板4上的半导体制品，清洗液冲洗之后从放置板4上的漏液孔25漏到导流板3上，并从导流板3汇流到集液槽6中，通过过滤网7过滤后通过进液管8输送到储液箱9中循环使用，当控制器21接收的温度数据小于设定值时，控制器21控制加热器14运行将清洗液加热到设定的温度。
综上可得，本实用新型通过设置的外壳1、集液槽6、储液箱9、第一输送泵11、加热器14、流量控制阀19和控制器21，解决了清洗液容易冷却，不便于对半导体进行清洗，且不便于控制清洗液的出液量的问题。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，包括外壳(1)、集液槽(6)、储液箱(9)、第一输送泵(11)、加热器(14)、流量控制阀(19)和控制器(21)，其特征在于：所述外壳(1)的内部安装有分隔板(2)，所述分隔板(2)的左侧安装有导流板(3)；
所述导流板(3)上安装有放置板(4)，所述导流板(3)的下部安装有集液槽(6)，所述集液槽(6)的下部安装有进液管(8)，所述进液管(8)的下端安装在储液箱(9)的上部；
所述储液箱(9)的右侧安装有输液管(10)，所述输液管(10)上安装有第一输送泵(11)，所述第一输送泵(11)通过固定座(17)固定在外壳(1)上，所述输液管(10)上安装有检测管(13)，所述输液管(10)通过管道固定座(12)固定在分隔板(2)上，所述输液管(10)的上端安装在加热器(14)上；
所述加热器(14)的左侧安装有出液管(15)，所述出液管(15)上安装有第二输送泵(16)，所述出液管(15)的下端安装有喷头(20)，所述出液管(15)上安装有流量控制阀(19)，所述外壳(1)的右侧内壁上安装有控制器(21)。
2.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述放置板(4)通过支撑杆(5)固定在导流板(3)的上表面，所述放置板(4)上设置有分布均匀的漏液孔(25)，所述导流板(3)向右下侧倾斜安装。
3.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述检测管(13)通过连接座(22)与输液管(10)固定连接，所述检测管(13)上设置有安置腔(23)，所述安置腔(23)内安装有温度传感器(24)。
4.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述出液管(15)上的第二输送泵(16)安置在分隔板(2)的左侧，所述出液管(15)通过支架(18)固定在外壳(1)上部的内壁上，所述出液管(15)上的喷头(20)正对放置板(4)的中间位置处。
5.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述集液槽(6)安装在导流板(3)的右下侧，所述集液槽(6)的内部安装有过滤网(7)，所述集液槽(6)与储液箱(9)通过进液管(8)相互连通。
6.根据权利要求1所述的一种用于高阶半导体的精密洗净处理设备，其特征在于：所述控制器(21)通过传导线分别与第一输送泵(11)、加热器(14)、第二输送泵(16)、流量控制阀(19)和温度传感器(24)电性连接。
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Cited By (1)
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| CN112705543A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-04-27 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种湿法清洗设备防震动进液系统及方法 |
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