CN208225848U - 湿法链式刻蚀槽进液结构 - Google Patents

湿法链式刻蚀槽进液结构 Download PDF

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Abstract

本实用新型涉及一种湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体底部的进液盒,进液盒设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔,进液盒的底部设置进液口,进液盒通过进液口与进液管路连接。本实用新型能够提高槽体进液的稳定性,避免硅片表面产生气泡印而生的降低,减少或杜绝不良片的产生。

Description

湿法链式刻蚀槽进液结构
技术领域
本实用新型涉及一种用于太阳能光伏湿法链式刻蚀机,尤其是一种湿法链式刻蚀槽进液结构。
背景技术
太阳能电池制造经过扩散形成PN结后,需要通过刻蚀工序去掉硅片背面和硅片侧面的PN结,达到正面与背面绝缘的目的。目前,太阳能光伏湿法链式刻蚀机在使用中存在以下问题:现有的湿光链式刻蚀机的湿刻槽一般采用进液管的方式进行进液,如图1-1、图1-2所示,在湿刻槽槽体1a的底部连接多个进液管路2a,进液管路2a通过阀门3a连接多个进液管支路4a,进液管支路4a连接进液管5a的进口端,进液管5a设置于液刻槽槽体1a内侧底部,在进液管5a的下方排列有多个圆孔出液孔6a。上述的湿刻槽主要有以下缺陷:液体从进液管5a上的出液孔6a流出,管路易聚集气体从出液孔6a流出,硅片在刻蚀液中行走过程中,气泡浮出液面炸开会使硅片的正面粘液,造成硅片表面产生气泡印,造成硅片降级或形成不良片。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种湿法链式刻蚀槽进液结构,能够提高槽体进液的稳定性,避免硅片表面产生气泡印而生的降低,减少或杜绝不良片的产生。
按照本实用新型提供的技术方案,所述湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体底部的进液盒,进液盒设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔,进液盒的底部设置进液口,进液盒通过进液口与进液管路连接。
进一步地,在所述进液盒的内部设置有内衬板,内衬板的底部与进液盒的下部密封连接,内衬板的顶端与进液盒的上部之间具有出液间隙。
进一步地,在所述出液排孔的上方设置挡板。
进一步地,所述挡板向下方倾斜45°角设置。
进一步地,所述出液排孔采用两排或多排。
进一步地,在相邻的出液排孔之间设置有挡板。
进一步地,所述挡板的宽度从上至下依次减小。
进一步地,所述进液盒、内衬板和挡板采用PVDF材质。
进一步地,在所述进液管路上设置阀体。
本实用新型具有以下优点:
(1)本实用新型能够保证进液过程液面稳定,使进液更加均匀,提高槽体进液稳定性,能够极大地减缓气泡的流出;
(2)本实用新型通过挡片的设计能够阻挡气泡浮出液面炸开使硅片粘液,避免硅片表面产生气泡印而降级;
(3)本实用新型能够提高设备稳定性,增加工艺调试稳定性,并用设备改造成本低,改造结构简单方便、易操作。
附图说明
图1-1为现有技术中湿刻槽槽体的示意图。
图1-2为现有技术中湿刻槽体内进结构的示意图。
图2为本实用新型所述湿法链式刻蚀槽的结构示意图。
图3为本实用新型所述湿法链式刻蚀槽进液结构的示意图。
图4-1为所述进液盒的内部示意图。
图4-2为所述进液盒上出液排孔的示意图。
图4-3为所述进液盒的俯视图。
附图标记说明:1-湿刻槽槽体、2-进液盒、3-出液排孔、4-内衬板、5-出液间隙、6-进液口、7-进液管路、8-阀体、9-挡板。
具体实施方式
下面结合具体附图对本实用新型作进一步说明。
实施例一:
如图2、图3所示,本实用新型所述湿法链式刻蚀槽进液结构包括设置于湿刻槽槽体1底部的进液盒2,进液盒2设置于远离硅片进料方向的一侧;如图4-1、图4-2、图4-3所示,在所述进液盒2朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔3,在进液盒2的内部设置有内衬板4,内衬板4的底部与进液盒2的下部密封连接,内衬板4的顶端与进液盒2的上部之间具有出液间隙5;所述进液盒2的底部设置进液口6,进液盒2通过进液口6与进液管路7连接,以实现进液;在所述进液管路7上设置阀体8,用于控制进液。
在进液过程中,液体从进液口6进入进液盒2内部,液体流向如图4-1所示,由内衬板4顶部的出液间隙5流向出液排孔3,由于出液排孔3位于远离硅片进料方向的一侧,并且出液排孔3朝向硅片进料方向进行出液,与硅片的进料方向相反,能够保证进液过程液面稳定,使进液更加均匀,提高槽体进液稳定性,能够极大地减缓气泡的流出。
另外,在所述出液排孔3的上方设置挡板9,挡板9向下方倾斜45°角设置,当有少量气泡流出出液排孔3时,挡板9可以起到阻挡的作用,从而使气泡避开硅片,避免对硅片的影响。
所述进液盒2、内衬板4和挡板9采用PVDF材质,能够抗腐蚀老化,增加使用寿命。
实施例二:
本实用新型所述湿法链式刻蚀槽进液结构包括设置于湿刻槽槽体1底部的进液盒2,进液盒2设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒2朝向硅片进料方向的一侧设置有两排或两排以上的出液排孔3,在进液盒2的内部设置有内衬板4,内衬板4的底部与进液盒2的下部密封连接,内衬板4的顶端与进液盒2的上部之间具有出液间隙5;所述进液盒2的底部设置进液口6,进液盒2通过进液口6与进液管路7连接,以实现进液;在所述进液管路7上设置阀体8,用于控制进液。
在进液过程中,液体从进液口6进入进液盒2内部,液体流向如图4-1所示,由内衬板4顶部的出液间隙5流向出液排孔3,由于出液排孔3位于远离硅片进料方向的一侧,两排或多排的出液排孔3朝向硅片进料方向同时进行出液,与硅片的进料方向相反,能够保证进液过程液面稳定,使进液更加均匀,提高槽体进液稳定性,能够极大地减缓气泡的流出。
另外,在所述出液排孔3的上方设置挡板9,挡板9向下方倾斜45°角设置,当有少量气泡流出出液排孔3时,挡板9可以起到阻挡的作用,从而使气泡避开硅片,避免对硅片的影响。
所述进液盒2、内衬板4和挡板9采用PVDF材质,能够抗腐蚀老化,增加使用寿命。
实施例三:
本实用新型所述湿法链式刻蚀槽进液结构包括设置于湿刻槽槽体1底部的进液盒2,进液盒2设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒2朝向硅片进料方向的一侧设置有两排或两排以上的出液排孔3,在进液盒2的内部设置有内衬板4,内衬板4的底部与进液盒2的下部密封连接,内衬板4的顶端与进液盒2的上部之间具有出液间隙5;所述进液盒2的底部设置进液口6,进液盒2通过进液口6与进液管路7连接,以实现进液;在所述进液管路7上设置阀体8,用于控制进液。
在进液过程中,液体从进液口6进入进液盒2内部,液体流向如图4-1所示,由内衬板4顶部的出液间隙5流向出液排孔3,由于出液排孔3位于远离硅片进料方向的一侧,两排或多排的出液排孔3朝向硅片进料方向同时进行出液,与硅片的进料方向相反,能够保证进液过程液面稳定,使进液更加均匀,提高槽体进液稳定性,能够极大地减缓气泡的流出。
在相邻的出液排孔3之间以及最上排的出液排孔3上方均设置有挡板9,挡板9分别向下方倾斜45°角设置,当有少量气泡流出出液排孔3时,挡板9可以对每一排的出液排孔3均起到较好的阻挡作用,从而使气泡避开硅片,避免对硅片的影响。
所述进液盒2、内衬板4和挡板9采用PVDF材质,能够抗腐蚀老化,增加使用寿命。

Claims (9)

1.一种湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:包括设置于湿刻槽槽体(1)底部的进液盒(2),进液盒(2)设置于远离硅片进料方向的一侧;在所述进液盒(2)朝向硅片进料方向的一侧设置有一排出液排孔(3),进液盒(2)的底部设置进液口(6),进液盒(2)通过进液口(6)与进液管路(7)连接。
2.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在所述进液盒(2)的内部设置有内衬板(4),内衬板(4)的底部与进液盒(2)的下部密封连接,内衬板(4)的顶端与进液盒(2)的上部之间具有出液间隙(5)。
3.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在所述出液排孔(3)的上方设置挡板(9)。
4.如权利要求3所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:所述挡板(9)向下方倾斜45°角设置。
5.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:所述出液排孔(3)采用两排或多排。
6.如权利要求5所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在相邻的出液排孔(3)之间设置有挡板。
7.如权利要求6所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:所述挡板的宽度从上至下依次减小。
8.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:所述进液盒(2)、内衬板(4)和挡板(9)采用PVDF材质。
9.如权利要求1所述的湿法链式刻蚀槽进液结构,其特征是:在所述进液管路(7)上设置阀体(8)。
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