CN208173558U - 基板支撑体以及基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种基板支撑体(300)以及基板处理装置(100)。本实用新型涉及的基板支撑体(300)对投入到基板处理装置(100)的腔室并被处理的基板(5)进行支撑，其包括下部基板支撑体(350)以及装载在下部基板支撑体(350)上部的上部基板支撑体(310)，上部基板支撑体(310)和下部基板支撑体(350)上分别搭载并支撑有基板(5)。

Description

基板支撑体以及基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种基板支撑体以及基板处理装置。更加详细而言，涉及一种能够在有限的腔室空间内提高基板的装载量并且提高生产性的基板支撑体。

背景技术

在制造平板显示器时所使用的批处理式基板处理装置在对多个基板同时予以处理的空间即腔室中设置能够支撑多个基板的支撑单元。最近，随着平板显示器的尺寸在增加，能够稳定支撑大面积基板的支撑单元的需求也在逐渐增加。

图1是现有的设置有基板支撑体30的基板处理装置10的立体图，图2a 和图2a分别是示出现有的基板支撑体30的立体图以及部分概略侧视图。

参照图1，现有的基板处理装置10包括本体11，本体11的内部形成有用于处理基板5的腔室12。本体11的前面形成为开放的状态，并设置有门(未图示)，用于开闭腔室12。在打开门以开放腔室12的状态下，通过机械臂(未图示)等来支撑基板5并将基板5装载至腔室12后，在关闭门以封闭腔室12 的状态下，能够对基板5进行处理。

本体11的内部设置有：一体型支撑单元，包括横梁14、支架15、基板支撑体30(31、35)，以便对基板5进行支撑；用于加热基板5的加热单元 20(21、25)等。

加热单元20对腔室12内部整体加热，并形成基板处理氛围，可以包括：主加热单元21，用于直接加热基板5；以及辅助加热单元25，用于加热腔室 12的侧表面，从而防止腔室12内部的热量损失。

并且，设置有用于供应以及排出气体的气体供应部40、气体排出部50，并设置有用于控制本体11壁的温度的腔室壁温度控制部60。本体11的外壁进一步形成有加强肋70，从而加强本体11的强度。

参照图2a和图2b，现有的基板处理装置10中，配置有主加热单元21的层与层之间可以构成一个狭缝S。并且，具有配置在本体11前面部和后面部的一对横梁14与基板支撑体30配置于一个狭缝S中且基板支撑体30上装载一个基板5的结构。即，每一个狭缝S可以装载一个基板5，换言之，可以根据上部的横梁14a和下部的横梁14b的高度空间，装载一个基板5。因此，应当全面考虑前后面一对横梁14和基板支撑体30的厚度，以确保机械臂进入的空间。因此，用于配置基板5的各层的间距变宽，在有限的腔室12空间内，变宽的间距导致基板5的装载量减少。在一个周期的工序中处理基板5的数量直接关系到生产性，因此需要一种增加在腔室12空间内的基板5装载量的结构。

实用新型内容

技术问题

因此，本实用新型是为了解决上述的现有技术的问题而提出的，其目的在于，提供一种在有限的腔室空间内提高基板装载量的基板支撑体以及基板处理装置。

另外，其目的在于，提供一种通过提高基板的装载量来处理更多的基板，从而提高生产性的基板支撑体以及基板处理装置。

技术方案

为了实现上述目的，本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体，用于对投入到基板处理装置的腔室并被处理的基板进行支撑，其特征在于，所述基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体可以包括：彼此对置的一对主杆；以及多个连接杆，连接所述一对主杆。

上部基板支撑体的主杆两端的下部可以形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

下部基板支撑体的主杆两端的上部可以形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

主杆上可以设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上可以设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

下部基板支撑体的主杆的一端部侧可以设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上可以设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。

并且，为了实现上述目的，本使用新型的一实施例涉及的基板处理装置，用于对投入到腔室中的多个基板进行处理，其特征在于，包括：本体，提供作为基板处理空间的腔室；多个主加热单元，配置成在腔室内沿着垂直方向具有规定间隔；基板支撑体，配置在上部的主加热单元和下部的主加热单元之间，基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

腔室内配置有多个支撑体，各基板支撑体被位于主加热单元最外侧的一对单位主加热器支撑。

单位主加热器呈棒状，从腔室的一侧连通至腔室的另一侧。

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体可以包括：彼此对置的一对主杆；以及多个连接杆，连接所述一对主杆。

上部基板支撑体的主杆两端的下部可以形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

下部基板支撑体的主杆两端的上部可以形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

主杆上可以设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上可以设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

下部基板支撑体的主杆的一端部侧可以设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上可以设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。

实用新型效果

根据上述结构的本实用新型，在有限的腔室空间内能够提高基板的装载量。

另外，根据本实用新型，通过提高基板的装载量来处理更多的基板，从而能够提高生产性。

附图说明

图1是现有的设置有基板支撑体的基板处理装置的立体图。

图2a是现有的基板支撑体的立体图。

图2b是现有的基板支撑体的部分概略侧视图。

图3是本实用新型的一实施例涉及的设置有基板支撑体的基板处理装置的立体图。

图4a是配置有本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体的状态的立体图。

图4b是配置有本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体的状态的部分概略侧视图。

图5是示出本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体的立体图。

图6是示出本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体的分解立体图。

附图说明

5：基板 100：基板处理装置

110：本体 120：腔室

140：横梁 150：支架

200：加热单元 300：基板支撑体

310：上部基板支撑体 350：下部基板支撑体

320、360：主杆 330、370：连接杆

340、380：结合部

具体实施方式

参照例示出能够实施本实用新型的特定实施例的附图对后述的本实用新型进行详细说明。通过这些实施例，本领域技术人员能够充分实施本实用新型。本实用新型的多种实施例虽然有所不同，但不应理解为相互排斥。例如，记载于此的一实施例的特定的形状、结构以及特性，在不超过本实用新型的精神以及范围的基础上，可以以其他实施例的形式实现。而且，应理解为，每个公开的实施例中的个别的构成要素的位置或设置，可以在不超过本实用新型的精神以及范围的情况下进行变更。因此，后述的详细的说明并非旨在限定，确定地讲，本实用新型的范围仅限定于所有权利要求中及其等同范围。附图中类似的附图标记具有相同或类似的功能，并且为了便于说明，有可能对长度、面积以及厚度等其形态进行夸大表示。

在本说明书中，基板可以理解为包括用于LED、LCD等显示装置的基板等。并且，本说明书的基板支撑体不仅适用于图3所示的基板处理装置，也能够适用于装载多个基板并对其进行处理的任意基板处理装置。另外，本说明书的基板支撑体不仅适用于图3所示的横梁140等形状的对象物体，在用作晶舟(boat)、桁架(ladder)等基板支撑体的目的范围内，也充分适用于其他形状的对象物体。

以下，参照附图来详细说明本实用新型的实施例。

图3是本实用新型一实施例涉及的设置有基板支撑体300的基板处理装置的立体图，图4a和图4b分别是示出配置有本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体300的状态的立体图以及部分概略侧视图。

参照图3、图4a以及图4b，基板处理装置100包括大体呈长方体形状并且构成外观的本体110，本体110的内部可以形成有用于处理基板5的腔室 120。本体110的形状不限于长方体形状，而是根据基板5的形状可形成为多种形状，腔室120可以形成为封闭的空间。本体110的材质可以是石英、SUS 等。

本体110的前面开放，并设置有门(未图示)，门可以用于开闭腔室120。在打开门以开放腔室120的状态下，可以通过机械臂(未图示)等来支撑基板5并将基板5装载至腔室120内。并且，在关闭门以封闭腔室120的状态下，能够对基板5进行处理。

本体110的内部设置有：一体型支撑单元，包括对基板5进行支撑的支架15、横梁14、基板支撑体300(310、350)；用于加热基板5的加热单元 200(210、250)；以及用于冷却基板5的冷却管(未图示)。

加热单元200对腔室120内部整体加热，并形成基板处理氛围，可以包括：主加热单元210，用于直接加热基板5；辅助加热单元250，用于防止腔室120内部的热量损失。

主加热单元210包括平行且具有一定间隔的单位主加热器。单位主加热器211一般为长杆状的加热器，是构成主加热单元210的单位体，石英管内部插入发热体而成，通过设置在两端的端子，接收外部的电源并产生热量。按照腔室120中装载的基板5的大小，可以不同地变更用于构成主加热单元 210的单位主加热器211的数量。单位主加热器211可以设置成从腔室120的一侧(例如，左侧表面)连通至另一侧(例如，右侧表面)。

多个主加热单元210配置成沿着基板5的层叠方向具有一定间隔。基板5 配置在多个主加热单元210之间。优选地，基板5配置在主加热单元210之间的中央。如此，基板处理装置100中配置具有一定间隔的主加热单元210，因此基板5的整个面积均匀地受热，从而实现均匀的热处理。

辅助加热单元250可以配置在腔室120的两侧面，并且垂直于主加热单元210。辅助加热单元250也可以包括平行且具有一定间隔的单位辅助加热器，配置在腔室120的侧边，能够防止向外部损失腔室120的热量。

气体供应部400可以连接在腔室120(或者本体110)的左侧面，气体排出部500可以连接在右侧面。气体供应部400向腔室120内部供应基板处理气体，气体排出部500通过外部的气体排出单元排出腔室120内部的基板处理气体。

并且，腔室壁温度控制部600可以配置在腔室壁的上下部面或侧面。腔室壁温度控制部600构成为热媒或冷媒可以在内部流动的管形状，从而能够将腔室120的内壁温度保持在规定的温度。

本体110的外壁进一步形成有加强肋700，从而能够加强本体110的强度。

参照图4a、图4b说明本实施例涉及的基板支撑体300配置在腔室120内的状态。

参照图4a，本实施例涉及的多个主加热单元210配置成沿着基板5的层叠方向具有规定间隔。基板支撑体300配置在多个主加热单元210之间。具体而言，上部的主加热单元210a和下部的主加热单元210b构成一个狭缝S，该狭缝S之间可以配置有基板支撑体300。主加热单元210上可以支撑有基板支撑体300。基板支撑体300被下部的主加热单元210支撑，可以从上部的主加热单元210a和下部的主加热单元210b接收热量。

下部的主加热单元210b中，位于最外侧的一对单位主加热器(例如，前面部的单位主加热器211a以及后面部的单位主加热器211b)上可以支撑有对基板5进行搭载并支撑的基板支撑体300。

参照图4b，配置有主加热单元210的层和层之间可以构成一个狭缝S。并且，基板支撑体300配置在一个夹缝S中，基板支撑体300(310、350) 上可以装载数量为两个以上的基板5。即，每一个狭缝S中可以装载多个基板 5。由此，在有限的腔室120的空间内能够进一步扩大基板5的装载量，在一个周期的工序中处理的基板5的数量增加，因此具有提高生产性的优点。并且，基板支撑体300直接配置在主加热单元210上，因此无需像现有的基板处理装置(参照图1、图2a以及图2b)那样，额外需要横梁14、支架15的结构。从而减少腔室120内各构成要素之间的干涉问题，因此能够进一步确保腔室120的空间，能够进一步扩大腔室120的空间内基板5的装载量。

图5是示出本实用新型的一实施例涉及的基板支撑体300的立体图，图6 是分解立体图。

参照图5以及图6，基板支撑体300包括下部基板支撑体350以及层叠在下部基板支撑体350上部的上部基板支撑体310。上部基板支撑体310和下部基板支撑体350上可以分别搭载并支撑基板5。因此，基板支撑体300可以支撑两个基板5。但是，并非限定于此，可以在上部基板支撑体310的上部进一步层叠另一基板支撑体，从而能够增加被支撑的基板5的数量。这可以通过准备后述的结合部340、380来实现。

上部基板支撑体310具有彼此具有间隔并且对置配置的一对主杆320和连接一对主杆320的多个连接杆330。连接杆330与主杆320大致呈直角，并一体连接一对主杆320。连接杆330彼此之间可以具有不同的间隔。

并且，下部基板支撑体350也同样具有彼此具有间隔并且对置配置的一对主杆360和连接一对主杆360的多个连接杆370。

上部基板支撑体310的主杆320以及连接杆330上分别设置有多个对基板5搭载并支撑的第一支撑销321以及第二支撑销331。主杆320以及连接杆 330上以规定间隔形成多个第一支撑销321以及第二支撑销331，从而均匀支撑基板5的整个表面。因此，防止在对基板5处理时基板5因自重而下垂。

优选地，与基板5接触并对其支撑的第一支撑销321以及第二支撑销331 的上端部倒圆角，并与基板5进行点接触。此时，基板5的下表面也与上表面一样，成为全部暴露的状态，因此能够进一步均匀地处理基板5。

下部基板支撑体350的主杆360以及连接杆370上也分别设置有多个对基板5搭载并支撑的第一支撑销361以及第二支撑销371。

上部基板支撑体310的主杆320两端部的下部可以形成有与下部基板支撑体350的上部结合的结合部340。优选地，结合部340形成在上部基板支撑体310的四个棱角部分。并且，下部基板支撑体350的主杆360两端的上部可以形成有与上部基板支撑体310的下部结合的结合部380。优选地，结合部 380形成在下部基板支撑体350的四个棱角部分。

上部基板支撑体310的结合部340与下部基板支撑体350的结合部380 形成于彼此对应的位置。并且，结合部340和结合部380中的任意一个可以具有突出结构，剩余一个具有凹陷结构，以便彼此插入和收纳。因此，将上部基板支撑体310层叠到下部基板支撑体350上时，结合部340和结合部380 不会错开排列而是能够牢固地层叠。

另一方面，将下部基板支撑体350的主杆360的前端部侧设置成分别被位于腔室120(参照图3)前面侧的任意一个单位主加热器211a支撑，并且将后端部侧设置成分别被位于腔室120后面侧的另一个单位主加热器211b支撑。

为了使单位主加热器211牢固地支撑基板支撑体300，下部基板支撑体 350的主杆360的后端部设置有弧形支撑片363，所述弧形支撑片363卡止并固定于位于腔室120后面侧的单位主加热器211b上。弧形支撑片363的形状可以形成为与单位主加热器211的外形对应的形状即半圆形。

并且，位于下部基板支撑体350的主杆360的前端部的连接杆370上设置有搭载并支撑于单位主加热器211a上的杆状的直线形支撑片365。直线形支撑片365配置成垂直于单位主加热器211a，并搭载并支撑于单位主加热器 211a上。

弧形支撑片363套入并支撑于单位主加热器211b上，直线形支撑片365 搭载并支撑于单位主加热器211a上，因此基板支撑体300(下部基板支撑体 350)牢固地搭载并支撑于单位主加热器211上。并且，在下部基板支撑体350 上通过结合部340、380牢固地层叠上部基板支撑体310。

另外，弧形支撑片363形成为半圆形，并套入并支撑于单位主加热器211b，直线形支撑片365形成为杆形，搭载并支撑于单位主加热器211a上，因此，只要向上侧抬起基板支撑体300(下部基板支撑体350)，即可从单位主加热器211分离基板支撑体300。因此，容易从单位主加热器211分离基板支撑体 300。

如图4a、图4b所示，大小相同的两个基板支撑体300能够搭载并支撑于单位主加热器211上，但是并非限定于此，大小不同的多个基板支撑体300 也能够搭载并支撑于单位主加热器211上。另外，除位于前面侧、后面侧的一对单位主加热器211a、211b以外，基板支撑体300还可以进一步被位于其间的单位主加热器211支撑。

如此，本实用新型在上部/下部的主加热单元210之间的狭缝S空间提供能够装载多个基板5的基板支撑体300。因此，在有限的腔室120的空间内，能够提高基板5的装载量。

如上所述，举出并图示优选实施例对本实用新型进行了说明，但是并非限定于所述实施例，在不超出本实用新型的精神的范围内，本实用新型所属技术领域的普通技术人员可以进行多种变形与变更。这样的变形例以及变更例应视为属于本实用新型以及权利要求保护范围之内。

Claims (14)

1.一种基板支撑体，用于对投入到基板处理装置的腔室并被处理的基板进行支撑，其特征在于，

所述基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，

上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

2.根据权利要求1所述的基板支撑体，其特征在于，

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体包括：

彼此对置的一对主杆；以及

多个连接杆，连接所述一对主杆。

3.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

上部基板支撑体的主杆两端的下部形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

4.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆两端的上部形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

5.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于，

主杆上设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

6.根据权利要求2所述的基板支撑体，其特征在于

下部基板支撑体的主杆的一端部侧设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，

位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。

7.一种基板处理装置，用于对投入到腔室中的多个基板进行处理，其特征在于，包括：

本体，提供作为基板处理空间的腔室；

多个主加热单元，配置成在腔室内沿着垂直方向具有规定间隔；

基板支撑体，配置在上部的主加热单元和下部的主加热单元之间，

基板支撑体包括下部基板支撑体以及层叠在下部基板支撑体上部的上部基板支撑体，

上部基板支撑体和下部基板支撑体上分别搭载并支撑有基板。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

腔室内配置有多个基板支撑体，各基板支撑体被位于主加热单元最外侧的一对单位主加热器支撑。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

单位主加热器呈棒状，从腔室的一侧连通至腔室的另一侧。

10.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于

各上部基板支撑体以及下部基板支撑体包括：

彼此对置的一对主杆；以及

多个连接杆，连接所述一对主杆。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

上部基板支撑体的主杆两端的下部形成有与下部基板支撑体的上部结合的结合部。

12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆两端的上部形成有与上部基板支撑体的下部结合的结合部。

13.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

主杆上设置有对基板进行搭载并支撑的多个第一支撑销，连接杆上设置有对基板进行支撑的多个第二支撑销。

14.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

下部基板支撑体的主杆的一端部侧设置有弧形支撑片，所述弧形支撑片形成为半圆形状，以套入并支撑于对象物体上，

位于下部基板支撑体的主杆的另一端部侧的连接杆上设置有直线形支撑片，所述直线形支撑片搭载并支撑于对象物体上。