CN208034330U - 一种立式光谱制样机 - Google Patents

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CN208034330U CN201820049894.7U CN201820049894U CN208034330U CN 208034330 U CN208034330 U CN 208034330U CN 201820049894 U CN201820049894 U CN 201820049894U CN 208034330 U CN208034330 U CN 208034330U
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姜玉领
郭进京
魏伟
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Abstract

本申请公开了一种立式光谱制样机,包括:机架;磁力吸盘,水平设置于所述机架上,用于吸附固定片状样品;磨制系统,竖直设置于所述机架上且位于所述磁力吸盘的上方,用于磨制所述片状样品;冷却系统,设置于所述机架上,所述冷却系统的水喷头用于向所述片状样品上喷冷却水。该立式光谱制样机在进行片状样品的磨制的同时,通过冷却系统对片状样品进行快速冷却,从而避免了片状样品的氧化,保证了片状样品表面的平整、光洁、纹路清晰,保证了样品分析结果的准确性。

Description

一种立式光谱制样机
技术领域
本实用新型涉及光谱制样领域,特别涉及一种立式光谱制样机。
背景技术
光谱制样机用于样品的磨制和光谱分析,现有的光谱制样设备主要为砂轮机和砂带机和铣床三种,部分采用平面磨床。砂轮机和砂带机用于酒杯状样品的磨制,铣床主要用于柱状样品的磨制。这些设备均不能有效磨制片状样品、平板样品等。虽然使用磨床能够磨制片状样品,但使用大型磨床磨制样品成本较高,而小型磨床均只有磨制功能,样品磨制好后,自然降温,往往导致样品表面氧化,致使样品分析结果不准确。
综上所述,如何解决现有的光谱制样机无法有效磨制片状样品的问题,成为了本领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种立式光谱制样机,以实现片状样品的有效磨制。
为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:
一种立式光谱制样机,包括:
机架;
磁力吸盘,水平设置于所述机架上,用于吸附固定片状样品;
磨制系统,竖直设置于所述机架上且位于所述磁力吸盘的上方,用于磨制所述片状样品;
冷却系统,设置于所述机架上,所述冷却系统的水喷头用于向所述片状样品上喷冷却水。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述磨制系统包括:
升降装置;
转动驱动装置,设置于所述升降装置的下部升降端;
所述砂轮,与所述转动驱动装置驱动连接,所述砂轮的磨面朝下。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述磨制系统还包括罩于所述砂轮上方的防护罩。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述升降装置为丝杠升降机构。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述冷却系统包括:
水箱,所述水箱设置于所述机架上,且位于所述磁力吸盘的下方;
冷却水管,与所述水箱连通;
水泵,与所述水箱和冷却水管连通;
所述水喷头,与所述冷却水管连通,且所述水喷头连接于所述防护罩上。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述水喷头通过高度调节机构连接于所述防护罩上。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述机架上还设置有位于隔离所述磁力吸盘和所述水箱的隔离板,所述磁力吸盘固定于所述隔离板上,所述隔离板上设置有漏水口,所述漏水口通过回水管与所述水箱连通。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,还包括活动设置于所述防护罩上的砂轮修整器。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述砂轮修整器包括:
修整器把手,翻转设置于所述防护罩的侧面,所述修整器把手上设置有用于悬挂于所述防护罩的挂钩上的挂钩槽;
修整头,通过调节螺母连接于所述修整器把手的自由端,用于对所述砂轮进行修整。
优选地,在上述的立式光谱制样机中,所述砂轮修整器包括:
竖直调节滑轨,设置于所述防护罩上;
水平调节滑轨,所述水平调节滑轨的一端与所述竖直调节滑轨配合滑动连接;
修整器支架,水平移动地连接于所述水平调节滑轨上;
修整头,固定于所述修整器支架上,用于对所述砂轮进行修整。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型提供的立式光谱制样机包括机架、磁力吸盘、磨制系统和冷却系统,磁力吸盘通过磁力吸附固定片状样品,磨制系统用于磨制片状样品,冷却系统的水喷头用于向片状样品上喷冷却水。该立式光谱制样机在进行片状样品的磨制的同时,通过冷却系统对片状样品进行快速冷却,从而避免了片状样品的氧化,保证了片状样品表面的平整、光洁、纹路清晰,保证了样品分析结果的准确性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的一种立式光谱制样机的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的一种立式光谱制样机的水喷头的结构示意图;
图3为本实用新型实施例提供的一种立式光谱制样机的砂轮修整器的结构示意图;
图4为本实用新型实施例提供的另一种立式光谱制样机的砂轮修整器的结构示意图。
其中,1为磨制系统、11为升降装置、12为转动驱动装置、13为砂轮、14为防护罩、2为磁力吸盘、3为冷却系统、31为冷却水管、32为水泵、33为水箱、34为水喷头、35为水管夹、4为回水管、5为机架、51为隔离板、6为砂轮修整器、61为砂轮把手、611为挂钩槽、62为调节螺母、63为修整头、64为挂钩、65为竖直调节滑轨、66为水平调节滑轨、67为修整器支架、7为砂轮把手。
具体实施方式
本实用新型的核心是提供了一种立式光谱制样机,实现了片状样品的有效磨制。
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参考图1和图2,本实用新型实施例提供了一种立式光谱制样机,包括机架5、磁力吸盘2、磨制系统1和冷却系统3,其中,磁力吸盘2水平设置于机架5上,通过磁力吸附固定片状样品,磁力吸盘2可以设置开关,通过人工控制开关,控制磁力吸盘2的磁性,当开关打开时,磁力吸盘2产生磁力,将片状样品吸附固定,当开关关闭时,磁力吸盘2的磁力消失,片状样品可以从磁力吸盘2上拿下来;磨制系统1竖直设置于机架5上且位于磁力吸盘2的上方,用于磨制片状样品;冷却系统3设置于机架5上,冷却系统3的水喷头34用于向片状样品上喷冷却水。
该立式光谱制样机的工作原理和工作过程为:先将待磨制的片状样品放在磁力吸盘2上,开启开关,磁力吸盘2通过磁力吸附固定片状样品,之后,通过磨制系统1对片状样品进行磨制,在磨制的过程中,冷却系统3的水喷头34向片状样品上喷冷却水,通过冷却系统3对片状样品进行快速冷却,从而避免了片状样品的氧化,保证了片状样品表面的平整、光洁、纹路清晰,保证了样品分析结果的准确性。
进一步地,本实施例提供了一种具体的磨制系统1,其包括升降装置11、转动驱动装置12和砂轮13,其中,转动驱动装置12设置于升降装置11的下部升降端,升降装置11能够驱动转动驱动装置12上下移动;砂轮13与转动驱动装置12驱动连接,砂轮13的磨面朝下,转动驱动装置12驱动砂轮13转动,通过升降装置11驱动砂轮13的上下移动。进行磨制时,通过升降装置11将砂轮13降下,直至砂轮13与片状样品接触,完成磨制后,通过升降装置11将砂轮13升起。
作为优化,转动驱动装置12为电机,当然,还可以为液压马达等。
进一步地,在本实施例中,磨制系统1还包括罩于砂轮13上方的防护罩14,防护罩14固定于转动驱动装置12上,通过防护罩14防止磨制过程中的产生的灰尘向四周飞溅,同时防止工作人员触碰到砂轮13的侧面。防护罩14的顶部设置有砂轮把手7,用于工作人员在水平方向上移动砂轮13。
在本实施例中,升降装置11为丝杠升降机构,丝杠升降机构主要包括丝套和丝杠,通过丝杠相对丝套的转动,实现竖直方向的升降,丝杠和丝套之间可以通过人工驱动旋转,也可以通过驱动部件自动驱动旋转。
如图1所示,本实施例提供了一种具体的冷却系统3,其包括水箱33、冷却水管31、水泵32和水喷头34,其中,水箱33设置于机架5上,水箱33位于磁力吸盘2的下方;冷却水管31与水箱33连通;水泵32与水箱33和冷却水管31连通,水泵32优选为潜水泵,潜水泵置于水箱33中,潜水泵不能接触水箱33的底部,距水箱33的底部5-10cm;水喷头34与冷却水管31连通,且水喷头34连接于防护罩14上,冷却水管31优选为软管,水喷头34随砂轮13一起移动,水喷头34的喷射方向指向砂轮13的下方,用于冷却片状样品。通过水泵32将水箱33中的水泵入冷却水管31中,并通过水喷头34喷出。
进一步地,在本实施例中,水喷头34通过高度调节机构连接于防护罩14上,用于调节水喷头34的高度。具体地,高度调节机构包括水管夹35和调节螺母,冷却水管31夹固于水管夹35中,通过调节螺母调节水管夹35的松紧,调节螺母松开,调节冷却水管31在水管夹35中的位置,调整好后,拧紧调节螺母,水喷头34优选为可弯折的多节水喷头。
更进一步地,在本实施例中,机架5上还设置有隔离磁力吸盘2和水箱33之间的隔离板51,磁力吸盘2固定于隔离板51上,隔离板51上设置有漏水口,漏水口通过回水管4与水箱33连通,用于将冷却片状样品后的水回流至水箱33中,实现循环。
在本实施例中,立式光谱制样机还包括活动设置于防护罩14上的砂轮修整器6,当砂轮13需要进行修整时,将砂轮修整器6移动到砂轮13的下方并与砂轮13接触,通过砂轮13与砂轮修整器6之间的旋转接触,实现砂轮13的修整;当砂轮13不需要修整或完成修整后,将砂轮修整器6从砂轮13下方移开。
如图3所示,本实施例提供了一种具体的砂轮修整器6,其包括修整器把手61和修整头63,其中,修整器把手61为L型,修整器把手61翻转设置于防护罩14的侧面,具体地,修整器把手61的一端转动连接于防护罩14的侧面上,修整器把手61绕转动连接点翻转;修整器把手61上设置有挂钩槽611,防护罩14的侧面设置有挂钩64,修整器把手61通过挂钩槽611悬挂固定在防护罩14的挂钩64上;修整头63通过调节螺母62连接于修整器把手61的自由端,修整头63为金刚石,通过调节螺母62调节修整头63在修整器把手61上的高度,修整头63用于对砂轮13进行修整。
该砂轮修整器6的工作原理是:当砂轮13需要修整时,将修整器把手61翻转下来,修整头63翻转到砂轮13的下方,并与砂轮13接触,通过砂轮13的旋转,完成修整头63对砂轮13的修整。当不需要或完成修整时,将修整器把手61翻转上来,并通过修整器把手61上的挂钩槽611悬挂固定在防护罩14的挂钩64上。
如图4所示,本实施例提供了另一种具体的砂轮修整器6,其包括竖直调节滑轨65、水平调节滑轨66、修整器支架67和修整头63;其中,竖直调节滑轨65设置于防护罩14上;水平调节滑轨66的一端与竖直调节滑轨65配合滑动连接,水平调节滑轨66能够沿竖直调节滑轨65沿竖直方向移动;修整器支架67水平移动地连接于水平调节滑轨66上,修整器支架67能够在水平调节滑轨66上水平移动,修整器支架67为L型支架;修整头63固定于修整器支架67上。修整头63为金刚石,修整头63通过竖直调节滑轨65、水平调节滑轨66和修整器支架67调节其高度和水平位置。当砂轮13需要修整时,移动水平调节滑轨66和修整器支架67,将修整头63移动到砂轮13的下方并接触,通过砂轮13的旋转实现砂轮13的修整。当砂轮13不需要修整或完成修整后,将修整头63从砂轮13下方移开。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种立式光谱制样机,其特征在于,包括:
机架;
磁力吸盘,水平设置于所述机架上,用于吸附固定片状样品;
磨制系统,竖直设置于所述机架上且位于所述磁力吸盘的上方,用于磨制所述片状样品;
冷却系统,设置于所述机架上,所述冷却系统的水喷头用于向所述片状样品上喷冷却水。
2.根据权利要求1所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述磨制系统包括:
升降装置;
转动驱动装置,设置于所述升降装置的下部升降端;
砂轮,与所述转动驱动装置驱动连接,所述砂轮的磨面朝下。
3.根据权利要求2所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述磨制系统还包括罩于所述砂轮上方的防护罩。
4.根据权利要求2所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述升降装置为丝杠升降机构。
5.根据权利要求3所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述冷却系统包括:
水箱,所述水箱设置于所述机架上,且位于所述磁力吸盘的下方;
冷却水管,与所述水箱连通;
水泵,与所述水箱和冷却水管连通;
所述水喷头,与所述冷却水管连通,且所述水喷头连接于所述防护罩上。
6.根据权利要求5所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述水喷头通过高度调节机构连接于所述防护罩上。
7.根据权利要求5所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述机架上还设置有位于隔离所述磁力吸盘和所述水箱的隔离板,所述磁力吸盘固定于所述隔离板上,所述隔离板上设置有漏水口,所述漏水口通过回水管与所述水箱连通。
8.根据权利要求3所述的立式光谱制样机,其特征在于,还包括活动设置于所述防护罩上的砂轮修整器。
9.根据权利要求8所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述砂轮修整器包括:
修整器把手,翻转设置于所述防护罩的侧面,所述修整器把手上设置有用于悬挂于所述防护罩的挂钩上的挂钩槽;
修整头,通过调节螺母连接于所述修整器把手的自由端,用于对所述砂轮进行修整。
10.根据权利要求8所述的立式光谱制样机,其特征在于,所述砂轮修整器包括:
竖直调节滑轨,设置于所述防护罩上;
水平调节滑轨,所述水平调节滑轨的一端与所述竖直调节滑轨配合滑动连接;
修整器支架,水平移动地连接于所述水平调节滑轨上;
修整头,固定于所述修整器支架上,用于对所述砂轮进行修整。
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