CN207811897U - 一种电镀清洗圆盘形镀件摆架 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电镀清洗摆架，更具体地说，它涉及一种电镀清洗圆盘形镀件摆架。其技术方案要点是：包括支撑架和若干个摆放单元，摆放单元左右首尾连接形成横向摆放组，摆放单元前后相接形成纵向摆放列，摆放单元的下端部设置有用于承托圆盘形镀件的托环，摆放单元的上端两侧设置有用于连接支撑架或者相邻摆放单元的连接杆，前后两个摆放单元形成用于放置圆盘镀件的摆放空间。摆放单元前后相接形成纵向摆放列，且前后两个摆放单元形成用于放置圆盘镀件的摆放空间，圆盘形的镀件不易掉落，方便镀件的清洗，而且可以放置的圆盘形镀件也更多，有利于提高清洗效率；摆放单元左右首尾相连形成横向摆放组，有利于增强横向摆放组的结构强度。

Description

一种电镀清洗圆盘形镀件摆架

技术领域

本实用新型涉及电镀清洗摆架，更具体地说，它涉及一种电镀清洗圆盘形镀件摆架。

背景技术

为了延长一些金属和合金的使用寿命，往往都要对其进行电镀，电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化（如锈蚀）的作用，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观。

电镀前要清洗镀件的表面，以保证更均匀的在镀件表面形成电镀层；电镀完毕后，镀件表面附有大量的电镀液，而电镀液本身有一定的腐蚀性，如果不清洗干净，会对镀层及环形镀件基体产生腐蚀，影响镀件的外观及防护性能。所以电镀出槽后，需要清洗干净。为了更彻底的清洗掉电镀前镀件表面的污垢以及电镀后镀件上的电镀液，都需要将镀件放入洗槽内清洗一定时间，对于圆盘形的镀件，如手表底盖，表面没有悬挂的孔，传统的挂具无法使用。如果将镀件直接放入洗槽中，则会产生多个镀件叠放的情况，清洗不够干净，甚至会使镀件表面的镀膜层被损坏，而且取放很不方便，需要每个单独夹取，同样也容易造成镀件镀膜层的损坏；为了防止镀件表面镀膜层损坏，只能将镀件一个个均匀放在洗槽底部，不但效率低，并且操作麻烦。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，尤其适用于圆盘形的镀件，方便圆盘形镀件电镀前后的清洗。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，包括支撑架和若干个摆放单元，摆放单元左右首尾连接形成横向摆放组，摆放单元前后相接形成纵向摆放列，摆放单元的下端部设置有用于承托圆盘形镀件的托环，摆放单元的上端两侧设置有用于连接支撑架或者相邻摆放单元的连接杆，前后两个摆放单元形成用于放置圆盘镀件的摆放空间。

通过采用上述技术方案，摆放单元前后相接形成纵向摆放列，且前后两个摆放单元形成用于放置圆盘镀件的摆放空间，适用于圆盘形的镀件，不容易掉落，方便圆盘形镀件电镀前后的清洗，而且可以放置的圆盘形镀件也更多，有利于提高清洗效率；摆放单元左右首尾相连形成横向摆放组，进一步增加了用于放置圆盘形镀件的摆放空间，清洗效果更好，而且有利于增强横向摆放组的结构强度，清洗过程更加顺利。托环更适合承接圆盘形镀件，不容易掉落；通过连接杆连接相邻摆放单元或者连接支撑架，结构简单。

本实用新型进一步设置为：托环的端面的中部横向向下凹陷形成用于摆放圆盘镀件的定位槽。

通过采用上述技术方案，定位槽的设置对圆盘形镀件定位效果更好，更不容易掉落，能够更好的完成清洗。

本实用新型进一步设置为：左右相邻的两个摆放单元之间设置有限位杆，限位杆纵向贯穿于摆放列。

通过采用上述技术方案，限位杆加强了摆架的结构强度，摆架上可以摆放更多圆盘形镀件，有利于提高清洗效率。

本实用新型进一步设置为：托环与连接杆之间设置有两根拉杆，托环为半封闭圆环，托环的两个端部分别与拉杆连接，两根拉杆的另一端分别与连接杆连接。

通过采用上述技术方案，半封闭圆形的托环结构简单，节省材料，两根拉杆将托环和连接杆连接起来，结构也比较简单，也有利于节约材料，降低成本，同时有利于减弱清洗过程中水流冲击。

本实用新型进一步设置为：连接杆、拉杆和托环一体成型。

通过采用上述技术方案，摆架的结构强度更好，更利于摆放更多圆盘形镀件；结构也相对简单，便于生产。

本实用新型进一步设置为：前后两个摆放单元的托环固定连接。

通过采用上述技术方案，摆架的结构强度更好，而且圆盘形镀件更不容易掉落，能够更好的完成清洗。

本实用新型进一步设置为：所述托环的定位槽的横向距离设为圆盘形镀件半径的1/3-1，所述托环远离拉杆的一端到拉杆顶端的距离大于圆盘形镀件的半径。

通过采用上述技术方案，圆盘形镀件不会过多的陷入托环，取放圆盘形镀件更加方便；托环远离拉杆的一端到拉杆顶端的距离大于圆盘形镀件的半径，圆盘形镀件依靠在拉杆上，放置的更加稳固，不容易掉落，能够更好的完成清洗。

本实用新型进一步设置为：相邻两根限位杆之间的距离为圆盘形镀件直径的1.1-1.5倍

通过采用上述技术方案，摆架对圆盘形镀件的定位和限位效果更好，而且也容易取放圆盘形的镀件，操作更加简便，清洗效果也更好。

本实用新型进一步设置为：支撑架下方设有加强架，加强架包括设置在支撑架下方的加强杆，加强杆与支撑架通过稳固杆连接。

通过采用上述技术方案，加强架进一步加强了支撑架的结构强度，使支撑架能够支撑更多的圆盘形镀件；加强杆设置在支撑架下方并通过稳固杆连接，既加强了结构强度，又不会影响摆放单元的设置及圆盘形镀件的摆放。

本实用新型进一步设置为：摆放组端部设有限位杆，支撑架与设于摆放组端部的限位杆组成四方形，四方形的四个顶角处均设有支撑脚，支撑脚包括支脚本体，支脚本体下端设置有环形的垫脚，支脚本体上端设置有插接端；支脚本体底部两端点之间的距离大于环形垫脚内圈的直径；插接端平行于地面的横截面小于环形垫脚内圈的横截面积。

通过采用上述技术方案，限位杆和支撑脚增强了支撑架的结构强度，环形的垫脚进一步加强了支撑脚的稳固性，对支撑架的支撑作用更好，插接端平行于地面的横截面小于环形垫脚内圈的横截面积，因此下层摆架的插接端和可以插入上层摆架的环形垫脚内，实现了摆架的堆叠，更方便环形镀件的批量电镀清洗，有利于提高生产效率。支脚本体底部两端点之间的距离大于环形垫脚内圈的直径，限制了上下层摆架的堆叠高度，不会影响摆放单元的设置。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

摆放单元前后相接形成纵向摆放列，且前后两个摆放单元形成用于放置圆盘镀件的摆放空间，适用于圆盘形的镀件，不容易掉落，方便圆盘形镀件电镀前后的清洗，而且可以放置的圆盘形镀件也更多，有利于提高清洗效率；摆放单元左右首尾相连形成横向摆放组，进一步增加了用于放置圆盘形镀件的摆放空间，清洗效果更好，而且有利于增强横向摆放组的结构强度，清洗过程更加顺利。

托环形状的设置更适合承接圆盘形镀件，定位槽进一步限定圆盘形镀件的不容易掉落；通过连接杆连接相邻摆放单元或者连接支撑架，结构简单。

加强架、支撑脚的设置加强了摆架的结构强度，有利于实现摆架上放置更多的环形镀件。

附图说明

图1为实施例1的整体结构示意图；

图2为实施例2的整体结构示意图；

图3为实施例2中另一视角的结构示意图；

图4为实施例2中摆放单元的细节结构示意图。

图中：1、摆放单元；11、连接杆；12、拉杆；13、托环；131、定位槽；2、支撑脚；21、垫脚；22、支脚本体；23、插接端；3、支撑架；4、阻挡杆；5、加强架；51、加强杆；6、稳固杆；7、限位杆。

具体实施方式

下面结合附图1-3和实施例，对本实用新型进行详细描述。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”、“左右”、“前后”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

定义图1中下方为摆架的后方，图1中的左方为摆架的左方。对应的，图3中的A处为摆架的后方，图3中的B处为摆架的左方。

实施例1

一种电镀清洗圆盘形镀件清洗架，如图1所示，包括支撑架3和若干个摆放单元1，摆放单元1左右首尾连接形成横向摆放组，摆放单元1前后相接形成纵向摆放列，摆放单元1的下端部设置有用于承托圆盘形镀件的托环13，摆放单元1的上端两侧设置有用于连接支撑架3或者相邻摆放单元1的连接杆11，前后两个摆放单元1形成用于放置圆盘镀件的摆放空间。

摆放单元1前后相接形成纵向摆放列，且前后两个摆放单元1形成用于放置圆盘镀件的摆放空间，适用于圆盘形的镀件，不容易掉落，方便圆盘形镀件电镀前后的清洗，而且可以放置的圆盘形镀件也更多，有利于提高清洗效率；摆放单元1左右首尾相连形成横向摆放组，进一步增加了用于放置圆盘形镀件的摆放空间，清洗效果更好，而且有利于增强横向摆放组的结构强度，清洗过程更加顺利。

托环13与连接杆11之间设置有两根拉杆12，托环13为半封闭圆环，托环13的两个端部分别与拉杆12连接，两根拉杆12的另一端分别与连接杆11连接。托环13设置为半封闭圆形形状更适合承接圆盘形镀件，结构也比较简单，节省材料，两根拉杆12将托环13和连接杆11连接起来，结构也比较简单，也有利于节约材料，降低成本，同时有利于减弱清洗过程中水流冲击。连接杆11、拉杆12和托环13一体成型，有利于增强摆放单元1的结构强度。

左右相邻的两个摆放单元1之间设置有限位杆7，限位杆7纵向贯穿于摆放列。摆放组的两端也设有限位杆7，增强了摆架的结构强度。相邻两根限位杆7之间的距离为圆盘形镀件直径的1.1-1.5倍。摆架对圆盘形镀件的定位和限位效果更好，而且也容易取放圆盘形的镀件，操作更加简便，清洗效果也更好。

实施例2

一种电镀清洗圆盘形镀件清洗架，如图2所示，实施例2与实施例1的不同之处在于前后两个摆放单元1的托环13固定连接。清洗过程中进一步限制圆盘形镀件的掉落。

结合图3和图4所示，托环13的端面的中部横向向下凹陷形成用于摆放圆盘镀件的定位槽131，托环13的定位槽131的横向距离设为圆盘形镀件半径的1/3-1，托环13远离拉杆12的一端到拉杆12顶端的距离大于圆盘形镀件的半径。摆架的结构强度更好，而且圆盘形镀件更不容易掉落。圆盘形镀件不会过多的陷入托环13，取放圆盘形镀件更加方便；托环13远离拉杆12的一端到拉杆12顶端的距离大于圆盘形镀件的半径，圆盘形镀件依靠在拉杆12上，放置的更加稳固，不容易掉落，能够更好的完成清洗。

如图3所示，支撑架3下方设有加强架5，加强架5包括设置在支撑架3下方的加强杆51，加强杆51与支撑架3通过稳固杆6连接，加强了摆架的结构强度。结合图3所示，靠近摆架前方的摆放单元1的托环13远离连接杆11的一端固定在支撑架3上，摆架前方的支撑架3和加强杆51之间还设有四根阻挡杆4，四根阻挡杆4分设在稳固杆6的两侧，摆架前方的稳固杆6和托环13形成摆放空间，四根阻挡杆4也分别和托环13形成摆放空间，充分利用了摆架的空间，能够摆放更多圆盘形的镀件，有利于提高效率；靠近摆架后方的摆放单元1的托环13固定在加强架5上，进一步加强了托环13的结构强度。

支撑架3与设于摆放组端部的限位杆7组成四方形，四方形的四个顶角处均设有支撑脚2，支撑脚2包括支脚本体22，支脚本体22下端设置有环形的垫脚21，进一步加强了支撑脚2的稳固性，对摆架的支撑作用更好，支脚本体22上端设置有插接端23；支脚本体22底部两端点之间的距离大于环形垫脚21内圈的直径；插接端23平行于地面的横截面小于环形垫脚21内圈的横截面积。因此下层摆架的插接端23和可以插入上层摆架的环形垫脚21内，实现了摆架的堆叠，更方便圆盘形镀件的批量电镀清洗，有利于提高生产效率。支脚本体22设置为垂直于地面的倒U形，且倒U形支脚本体22平行于地面的长度从顶部到底部逐渐变大，结构强度更强，而且节省材料，更耐水流的冲击；支撑架3连接于支脚本体22中部或下部。整个摆架的重心更低，稳固性更好。

在其他实施例中，还可以将拉杆12向托环13延伸的方向倾斜，便于调整圆盘形镀件放置在摆架上的角度，清洗效果更好。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：包括支撑架(3)和若干个摆放单元(1)，摆放单元(1)左右首尾连接形成横向摆放组，摆放单元(1)前后相接形成纵向摆放列，摆放单元(1)的下端部设置有用于承托圆盘形镀件的托环(13)，摆放单元(1)的上端两侧设置有用于连接支撑架(3)或者相邻摆放单元(1)的连接杆(11)，前后两个摆放单元(1)形成用于放置圆盘镀件的摆放空间。

2.根据权利要求1所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：托环(13)的端面的中部横向向下凹陷形成用于摆放圆盘镀件的定位槽(131)。

3.根据权利要求1所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：左右相邻的两个摆放单元(1)之间设置有限位杆(7)，限位杆(7)纵向贯穿于摆放列。

4.根据权利要求2所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：托环(13)与连接杆(11)之间设置有两根拉杆(12)，托环(13)为半封闭圆环，托环(13)的两个端部分别与拉杆(12)连接，两根拉杆(12)的另一端分别与连接杆(11)连接。

5.根据权利要求4所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：连接杆(11)、拉杆(12)和托环(13)一体成型。

6.根据权利要求1所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：前后两个摆放单元(1)的托环(13)固定连接。

7.根据权利要求4所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：所述托环(13)的定位槽(131)的横向距离设为圆盘形镀件半径的1/3-1，所述托环(13)远离拉杆(12)的一端到拉杆(12)顶端的距离大于圆盘形镀件的半径。

8.根据权利要求3所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：相邻两根限位杆(7)之间的距离为圆盘形镀件直径的1.1-1.5倍。

9.根据权利要求1所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：支撑架(3)下方设有加强架(5)，加强架(5)包括设置在支撑架(3)下方的加强杆(51)，加强杆(51)与支撑架(3)之间设置有稳固杆(6)。

10.根据权利要求9所述的一种电镀清洗圆盘形镀件摆架，其特征在于：摆放组端部设有限位杆(7)，支撑架(3)与设于摆放组端部的限位杆(7)组成四方形，四方形的四个顶角处均设有支撑脚(2)，支撑脚(2)包括支脚本体(22)，支脚本体(22)下端设置有环形的垫脚(21)，支脚本体(22)上端设置有插接端(23)；支脚本体(22)底部两端点之间的距离大于环形垫脚(21)内圈的直径；插接端(23)平行于地面的横截面小于环形垫脚(21)内圈的横截面积。