CN207800577U - 一种自清洁式硅片翻转机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，气缸能推动与滑动板固连的支座前移，当滑动板触发第一接近开关时，经进气管向分流箱内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔吹出，两件自清洗机构相互清洗垫板上的灰尘，随后，夹爪气缸带动两自清洗机构合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸复位，当滑动板触发第二接近开关后，伺服电机通过第一齿轮带动转轴转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板，防止由于垫板不干净产生的二次污染。

Description

一种自清洁式硅片翻转机构

技术领域

本实用新型涉及一种机械装置，尤其涉及一种自清洁式硅片翻转机构。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，实际生产过程中，在对硅片进行清洗时，往往需要将硅片翻转180°，现有方法采用人工手动翻转，不仅效率低，而且有可能产生二次污染。鉴于以上缺陷，实有必要设计一种自清洁式硅片翻转机构。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于：提供一种自清洁式硅片翻转机构，来解决手动翻转硅片不仅效率低而且有可能产生二次污染的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，所述的固定座位于底座上端左侧，所述的固定座与底座通过螺栓相连，所述的气缸位于固定座左侧，所述的气缸与固定座通过螺栓相连，所述的滑动板位于底座上端左侧且位于气缸右侧，所述的滑动板与气缸螺纹相连，所述的支座位于滑动板顶部，所述的支座与滑动板通过螺栓相连，所述的伺服电机位于支座上端左侧，所述的伺服电机与支座通过螺栓相连，所述的第一齿轮位于伺服电机右侧，所述的第一齿轮与伺服电机键相连，所述的转轴贯穿支座，所述的转轴与支座转动相连，所述的第二齿轮位于第一齿轮下端且被转轴贯穿，所述的第二齿轮与第一齿轮啮合相连且与转轴键相连，所述的过渡板位于转轴右侧，所述的过渡板与转轴螺纹相连，所述的夹爪气缸位于过渡板外侧，所述的夹爪气缸与过渡板螺纹相连，所述的自清洗机构数量为2件，分别与夹爪气缸的夹爪固连。

本实用新型进一步的改进如下：

进一步的，所述的底座还设有导轨，所述的导轨位于底座上端，所述的导轨与底座通过螺栓相连。

进一步的，所述的底座还设有定位块，所述的定位块位于底座上端右侧，所述的定位块与底座通过螺栓相连。

进一步的，所述的定位块还设有第一接近开关，所述的第一接近开关贯穿定位块，所述的第一接近开关与定位块螺纹相连。

进一步的，所述的固定座还设有第二接近开关，所述的第二接近开关贯穿固定座，所述的第二接近开关与固定座螺纹相连。

进一步的，所述的滑动板还设有滑块，所述的滑块位于滑动板底部且被导轨贯穿，所述的滑块与滑动板通过螺栓相连，所述的滑块可以沿导轨左右滑动。

进一步的，所述的自清洗机构还包括连接板、设有若干分流孔的分流箱、垫板，所述的连接板与夹爪气缸的夹爪固连，所述的分流箱位于连接板下端，所述的分流箱与连接板通过螺栓相连，所述的垫板位于分流箱下端，所述的垫板与分流箱粘接相连，所述的分流孔位于分流箱下端。

进一步的，所述的分流箱还设有进气管，所述的进气管位于分流箱上端，所述的进气管与分流箱螺纹相连。

与现有技术相比，该自清洁式硅片翻转机构，气缸能推动与滑动板固连的支座前移，第一接近开关用于设定翻转开始工位，即当滑动板触发第一接近开关时，经进气管向分流箱内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔吹出，由于自清洗机构安装在夹爪气缸的夹爪上的，而夹爪对称布置，因此，自清洗机构也是对称布置，当压缩空气经分流孔吹出后，两件自清洗机构相互清洗垫板上的灰尘，随后，夹爪气缸带动两自清洗机构合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸复位，当滑动板触发第二接近开关后，伺服电机通过第一齿轮带动与第二齿轮固连的转轴转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板，防止由于垫板不干净产生的二次污染。

附图说明

图1示出本实用新型主视图

图2示出本实用新型自清洗机构结构示意图

图中：底座1、固定座2、气缸3、滑动板4、支座5、伺服电机6、第一齿轮7、转轴8、第二齿轮9、过渡板10、夹爪气缸11、自清洗机构12、导轨101、定位块102、第一接近开关103、第二接近开关201、滑块401、连接板1201、分流箱1202、垫板1203、分流孔1204、进气管1205。

具体实施方式

如图1、图2所示，一种自清洁式硅片翻转机构，包括底座1、固定座2、气缸3、滑动板4、支座5、伺服电机6、第一齿轮7、转轴8、第二齿轮9、过渡板10、夹爪气缸11、自清洗机构12，所述的固定座2位于底座1上端左侧，所述的固定座2与底座1通过螺栓相连，所述的气缸3位于固定座2左侧，所述的气缸3与固定座2通过螺栓相连，所述的滑动板4位于底座1上端左侧且位于气缸3右侧，所述的滑动板4与气缸3螺纹相连，所述的支座5位于滑动板4顶部，所述的支座5与滑动板4通过螺栓相连，所述的伺服电机6位于支座5上端左侧，所述的伺服电机6与支座5通过螺栓相连，所述的第一齿轮7位于伺服电机6右侧，所述的第一齿轮7与伺服电机6键相连，所述的转轴8贯穿支座5，所述的转轴8与支座5转动相连，所述的第二齿轮9位于第一齿轮7下端且被转轴8贯穿，所述的第二齿轮9与第一齿轮7啮合相连且与转轴8键相连，所述的过渡板10位于转轴8右侧，所述的过渡板10与转轴8螺纹相连，所述的夹爪气缸11位于过渡板10外侧，所述的夹爪气缸11与过渡板10螺纹相连，所述的自清洗机构12数量为2件，分别与夹爪气缸1的夹爪固连，所述的底座1还设有导轨101，所述的导轨101位于底座1上端，所述的导轨101与底座1通过螺栓相连，所述的底座1还设有定位块102，所述的定位块102位于底座1上端右侧，所述的定位块102与底座1通过螺栓相连，所述的定位块102还设有第一接近开关103，所述的第一接近开关103贯穿定位块102，所述的第一接近开关103与定位块102螺纹相连，所述的固定座还2设有第二接近开201，所述的第二接近开关201贯穿固定座2，所述的第二接近开关201与固定座2螺纹相连，所述的滑动板4还设有滑块401，所述的滑块401位于滑动板4底部且被导轨101贯穿，所述的滑块401与滑动板4通过螺栓相连，所述的滑块401可以沿导轨101左右滑动，所述的自清洗机构12还包括连接板1201、设有若干分流孔的分流箱1202、垫板1203，所述的连接板1201与夹爪气缸11的夹爪固连，所述的分流箱1202位于连接板1201下端，所述的分流箱1202与连接板1201通过螺栓相连，所述的垫板1203位于分流箱1202下端，所述的垫板1203与分流箱1202粘接相连，所述的分流孔1204位于分流箱1202下端，所述的分流箱1202还设有进气管1205，所述的进气管1205位于分流箱1202上端，所述的进气管1205与分流箱1202螺纹相连，该自清洁式硅片翻转机构，气缸3能推动与滑动板4固连的支座5前移，第一接近开关103用于设定翻转开始工位，即当滑动板4触发第一接近开关103时，经进气管1205向分流箱1202内泵入压缩空气，压缩空气经分流孔1204吹出，由于自清洗机构12安装在夹爪气缸11的夹爪上的，而夹爪对称布置，因此，自清洗机构12也是对称布置，当压缩空气经分流孔1204吹出后，两件自清洗机构12相互清洗垫板1203上的灰尘，随后，夹爪气缸11带动两自清洗机构12合拢，从而将硅片夹紧，随后，气缸3复位，当滑动板4触发第二接近开关201后，伺服电机6通过第一齿轮7带动与第二齿轮9固连的转轴8转动180°，从而带动夹持有硅片的夹爪气缸11翻转180°。该装置结构简单，能对硅片自动翻转，而且翻转时先自动清洗夹持硅片的垫板1203，防止由于垫板1203不干净产生的二次污染。

本实用新型不局限于上述具体的实施方式，本领域的普通技术人员从上述构思出发，不经过创造性的劳动，所做出的种种变换，均落在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种自清洁式硅片翻转机构，其特征在于包括底座、固定座、气缸、滑动板、支座、伺服电机、第一齿轮、转轴、第二齿轮、过渡板、夹爪气缸、自清洗机构，所述的固定座位于底座上端左侧，所述的固定座与底座通过螺栓相连，所述的气缸位于固定座左侧，所述的气缸与固定座通过螺栓相连，所述的滑动板位于底座上端左侧且位于气缸右侧，所述的滑动板与气缸螺纹相连，所述的支座位于滑动板顶部，所述的支座与滑动板通过螺栓相连，所述的伺服电机位于支座上端左侧，所述的伺服电机与支座通过螺栓相连，所述的第一齿轮位于伺服电机右侧，所述的第一齿轮与伺服电机键相连，所述的转轴贯穿支座，所述的转轴与支座转动相连，所述的第二齿轮位于第一齿轮下端且被转轴贯穿，所述的第二齿轮与第一齿轮啮合相连且与转轴键相连，所述的过渡板位于转轴右侧，所述的过渡板与转轴螺纹相连，所述的夹爪气缸位于过渡板外侧，所述的夹爪气缸与过渡板螺纹相连，所述的自清洗机构数量为2件，分别与夹爪气缸的夹爪固连。

2.如权利要求1所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的底座还设有导轨，所述的导轨位于底座上端，所述的导轨与底座通过螺栓相连。

3.如权利要求1所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的底座还设有定位块，所述的定位块位于底座上端右侧，所述的定位块与底座通过螺栓相连。

4.如权利要求3所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的定位块还设有第一接近开关，所述的第一接近开关贯穿定位块，所述的第一接近开关与定位块螺纹相连。

5.如权利要求1所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的固定座还设有第二接近开关，所述的第二接近开关贯穿固定座，所述的第二接近开关与固定座螺纹相连。

6.如权利要求1所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的滑动板还设有滑块，所述的滑块位于滑动板底部且被导轨贯穿，所述的滑块与滑动板通过螺栓相连，所述的滑块可以沿导轨左右滑动。

7.如权利要求1所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的自清洗机构还包括连接板、设有若干分流孔的分流箱、垫板，所述的连接板与夹爪气缸的夹爪固连，所述的分流箱位于连接板下端，所述的分流箱与连接板通过螺栓相连，所述的垫板位于分流箱下端，所述的垫板与分流箱粘接相连，所述的分流孔位于分流箱下端。

8.如权利要求7所述的自清洁式硅片翻转机构，其特征在于所述的分流箱还设有进气管，所述的进气管位于分流箱上端，所述的进气管与分流箱螺纹相连。