CN207799658U - 窄边框ito层以及触摸屏终端设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型适用于电子设备技术领域，提供了一种窄边框ITO层以及触摸屏终端设备，其中，窄边框ITO层包括位于可视区的ITO横向电极层和位于左右边框区的用于将ITO横向电极层与FPC电连接的引出铜线层，引出铜线层位于ITO横向电极层的上侧，且引出铜线层与ITO横向电极层一次成型形成。本实用新型提供的一种窄边框ITO层，相对于现有技术，其通过一次成型而成ITO横向电极层和引出铜线层，进而省去了现有技术中连接ITO横向电极与引出线的搭接位，减少了左右边框区的宽度，并且由于ITO横向电极层与引出铜线层一次成型而成，无需额外连接ITO横向电极层与引出铜线层，结构牢固可靠，且可避免出现短路或者开路现象，可靠性强。
Description
技术领域
本实用新型属于电子设备技术领域，具体涉及到一种窄边框ITO层以及触摸屏终端设备。
背景技术
随着经济的发展、社会的进步，触摸屏作为触摸屏终端设备的一个重要组成部分，其主要起到人机交互以及显示的作用，现今，触摸屏中使用最多的是电容屏，电容屏一般均包括有ITO(Indium Tin Oxides简称ITO，即氧化铟锡)导电图案层和引出线，其中，ITO导电图案层包括ITO横向电极和ITO纵向电极，ITO纵向电极直接与位于上下边框区的FPC(Flexible Printed Circuit简称FPC，即柔性电路板)连接，ITO横向电极通过引出线与FPC连接，当用户触摸屏幕时，手指头吸收走一个很小的电流，ITO横向电极和ITO纵向电极检测感应到触控位置的电容变化，并将检测信号传输至FPC以实现人机交互的功能。
出于美观的需要，现今的触摸屏也逐渐趋向于窄边框化，现有的触摸屏中，引出线与ITO横向电极连接时，需要在左右边框区预留有搭接位，即引出线与ITO横向电极在该搭接位处连接，而搭接位的存在增加了左右边框区的宽度，不利于触摸屏的窄边框化。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术中触摸屏存在搭接位进而增加了左右边框区的宽度的不足，提供了一种窄边框ITO层。
本实用新型是这样实现的：窄边框ITO层，包括位于可视区的ITO横向电极层和位于左右边框区的用于将所述ITO横向电极层与FPC电连接的引出铜线层，所述引出铜线层位于所述ITO横向电极层的上侧，且所述引出铜线层与所述ITO横向电极层一次成型形成。
作为本实用新型的一个优选方案，所述ITO横向电极层下侧还设有与所述FPC电连接的ITO纵向电极层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述引出铜线层的上侧还设有用于起保护作用的CuNiTi层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述ITO纵向电极层的下侧还设有用于起支撑作用的支撑层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述支撑层从上往下依次包括PET基材层和亮面硬化层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述支撑层与所述ITO纵向电极层之间设有用于增加所述ITO纵向电极层与所述支撑层间的附着力的辅助层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述辅助层从上往下依次包括阻挡层和光学匹配层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述阻挡层为二氧化硅层。
作为本实用新型的一个优选方案，所述光学匹配层为氮化硅层。
本实用新型还提供了一种触摸屏终端设备，其包括如上述所述的窄边框ITO层。
本实用新型提供的一种窄边框ITO层，相对于现有技术，其通过一次成型而成ITO横向电极层和引出铜线层，进而省去了现有技术中连接ITO横向电极与引出线的搭接位，减少了左右边框区的宽度，并且由于ITO横向电极层与引出铜线层一次成型而成，无需额外连接ITO横向电极层与引出铜线层，结构牢固可靠，且可避免出现短路或者开路现象，可靠性强。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。
图1是本实用新型实施例提供的窄边框ITO层的结构示意图；
图2是图1中A处放大示意图；
图3是本实用新型实施例提供的窄边框ITO层的结构示意图。
附图标号说明：
1、ITO横向电极层；
2、引出铜线层；
3、FPC
4、ITO纵向电极层；
5、CuNiTi层；
6、支撑层；61、PET基材层；62、亮面硬化层；
7、辅助层；71、阻挡层；72、光学匹配层。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
实施例
如图1-图3所示，窄边框ITO层，包括位于可视区的ITO横向电极层1和位于左右边框区的用于将ITO横向电极层1与FPC3电连接的引出铜线层2，引出铜线层2位于ITO横向电极层1的上侧，且引出铜线层2与ITO横向电极层1一次成型形成。
可以理解的是，在本实施例中，左右边框、上下边框以图1所示方向做参考，而该窄边框ITO层中的上下层状描述以图3所示方向做参考。
上述中，具体的，该窄边框ITO层，其中的ITO横向电极层1中设有ITO横向电极阵列，其中，ITO是指氧化铟锡材料，ITO横向电极层1即为设有ITO横向电极阵列的ITO膜层；引出铜线层2即为引出铜线组成的层状结构，其中，引出铜线层2与ITO横向电极层1一次成型而成后，引出铜线将ITO横向电极阵列与FPC3电连接，即引出铜线在压合处31与FPC3电连接。
需要说明的是，在本实施例中，引出铜线层2位于ITO横向电极层1的上侧，在生产时，可通过利用一铜膜来制成，例如，在铜膜上开设与可视区大小一致的开口，进而通过压干膜、曝光、显影以及蚀刻剩下的铜膜部分，可以一次成型该引出铜线层2与ITO横向电极层1，即通过压干膜、曝光、显影可在铜膜开口处形成ITO横向电极层，而蚀刻剩下的铜膜，可以将剩下的铜膜蚀刻成与ITO横向电极层1电连接的引出铜线层2(即引出铜线与ITO横向电极阵列电连接)，可以理解的是，成型后ITO横向电极层1与引出铜线层2存在一定的高度差，即引出铜线层2位于ITO横向电极层1的上侧。
优选的，如图3所示，在本实施例中，ITO横向电极层1下侧还设有与FPC3电连接的ITO纵向电极层4(其上设有ITO纵向电极阵列)，进而ITO横向电极层1与ITO纵向电极层4共同组成用于感应手机触控位置的位于触摸屏可视区的ITO导电图案，而ITO纵向电极层4额外生产而成，而后设于ITO横向电极层1的下侧，由于ITO纵向电极层4直接与位于上下边框的FPC3连接(即ITO纵向电极阵列与FPC3电连接)，进而ITO纵向电极层4的具体固定方式可以是通过将ITO纵向电极层4粘结在与FPC3连接的压合位31处。
优选的，如图3所示，在本实施例中，引出铜线层2的上侧还设有用于起保护作用的CuNiTi层5，CuNiTi层5是采用CuNiTi材料制成，可起到保护引线铜线层2、ITO横向电极层1等的作用，具体的，CuNiTi材料一种环保的铜镍钛合金材料，对环境无污染，广泛被用于形状记忆合金等。
优选的，如图3所示，在本实施例中，ITO纵向电极层4的下侧还设有用于起支撑作用的支撑层6，具体的，支撑层6从上往下依次包括PET基材层61和亮面硬化层62，其中，PET基材层61和亮面硬化层62共同起到支撑作用，PET基材层61采用PET材料支撑，PET材料即聚对苯二甲酸乙二醇酯材料，是一种乳白色或浅黄色、高度结晶的聚合物，表面平滑有光泽，具有较好的力学性能，亮面硬化层62具体可采用UV胶或者类似材料制成。
优选的，如图3所示，在本实施例中，PET基材层61与ITO纵向电极层4之间设有用于增加ITO纵向电极层4与PET基材层61间的附着力的辅助层7，具体的，辅助层7从上往下依次包括阻挡层71和光学匹配层72，阻挡层71和光学匹配层72共同起到增加ITO纵向电极层4与PET基材层61间的附着力以及起美观作用，具体的，阻挡层71可为二氧化硅层，即阻挡层71可采用二氧化硅材料制成，光学匹配层72可为氮化硅层，即光学匹配层72可采用氮化硅材料制成。
本实施例还提供了一种触摸屏终端设备，其包括如上述所述的窄边框ITO层，进而其具备如上述所述的窄边框ITO层的所有功能以及效果，具体可参考前述，在此不做赘述。
综上所述，本实用新型提供的一种窄边框ITO层，相对于现有技术，其通过一次成型而成ITO横向电极层1和引出铜线层2，进而省去了现有技术中连接ITO横向电极与引出线的搭接位，减少了左右边框区的宽度，并且由于ITO横向电极层1与引出铜线层2一次成型而成，无需额外连接ITO横向电极层1与引出铜线层2，结构牢固可靠，且可避免出现短路或者开路现象，可靠性强。
有以下几点需要说明：
(1)除非另作定义，本实用新型的实施例及附图中，同一标号代表同一含义。
(2)本实用新型实施例附图中，只涉及到与本实用新型实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(3)为了清晰起见，在用于描述本实用新型的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(4)在不冲突的情况下，本实用新型的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.窄边框ITO层，其特征在于，包括位于可视区的ITO横向电极层和位于左右边框区的用于将所述ITO横向电极层与FPC电连接的引出铜线层，所述引出铜线层位于所述ITO横向电极层的上侧，且所述引出铜线层与所述ITO横向电极层一次成型形成。
2.如权利要求1所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述ITO横向电极层下侧还设有与所述FPC电连接的ITO纵向电极层。
3.如权利要求2所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述引出铜线层的上侧还设有用于起保护作用的CuNiTi层。
4.如权利要求3所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述ITO纵向电极层的下侧还设有用于起支撑作用的支撑层。
5.如权利要求4所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述支撑层从上往下依次包括PET基材层和亮面硬化层。
6.如权利要求5所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述支撑层与所述ITO纵向电极层之间设有用于增加所述ITO纵向电极层与所述支撑层间的附着力的辅助层。
7.如权利要求6所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述辅助层从上往下依次包括阻挡层和光学匹配层。
8.如权利要求7所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述阻挡层为二氧化硅层。
9.如权利要求7所述的窄边框ITO层，其特征在于，所述光学匹配层为氮化硅层。
10.触摸屏终端设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的窄边框ITO层。
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