CN207742003U - 一种ihc/icc样本处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及实验样本处理领域，提供了一种IHC/ICC样本处理装置，包括框架以及可承载样本的若干载玻片，还包括可吸附各载玻片的若干承载台以及用于驱使各承载台在框架内同步转动的驱动机构；各承载台均具有承载面，承载面通过转轴与框架可转动连接；各承载台由上到下依次分布。本实用新型的一种IHC/ICC样本处理装置，通过多个承载台可以吸附尽可能多的载玻片进行批量处理，降低了操作人员的工作量，承载台可转动，能够方便浸泡、洗脱和烘干等操作；水平设置的转轴，使每个载物面与底座的底面平行时，载物面处于端平状态，保证染液长时间浸泡样本，充分染色；设置连接件和调节块，可以利用调节块带动连接件，进而驱使转轴转动，方便带动各载物面同步转动。
Description
技术领域
本实用新型涉及实验样本处理领域，具体为一种IHC/ICC样本处理装置。
背景技术
对于IHC/ICC实验，在制作样本时，我们需要把细胞或组织切片均匀地附着在载玻片上，制成玻片标本然后进行后续的固定、染色、清洗等。整个工作流程中，位于载玻片上的样本需要不断地在含各种化学物质中浸泡和洗脱，需要反复移动、拖拉载玻片，这样使得样本很容易受到污染。而且，样本多了，操作人员对一片片样本单独进行处理耗时费力。
因此，急需一种能够方便对样本进行浸泡、洗脱和烘干，且能够批量处理样本的样本处理装置。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种IHC/ICC样本处理装置，能够方便对样本进行浸泡、洗脱和烘干等操作，且能够批量处理样本，提高了操作员的工作效率。
为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：一种IHC/ICC 样本处理装置，包括框架以及可承载样本的若干载玻片，还包括可吸附各所述载玻片的若干承载台以及用于驱使各所述承载台在所述框架内同步转动的驱动机构；各所述承载台均具有承载面，所述承载面通过转轴与所述框架可转动连接；各所述承载台由上到下依次分布。
进一步，于每一所述承载台相对两侧均设置有沿远离所述承载台方向水平延伸的转轴，每一所述承载台的两根所述转轴均与所述框架可转动连接，且两根所述转轴位于同一直线上。
进一步，所述驱动机构包括可竖直移动的连接件，所述连接件与位于同一侧的各所述转轴的圆周面连接。
进一步，所述连接件连接有调节块，所述框架靠近所述连接件的一侧设有与所述调节块滑动连接的滑槽，所述滑槽沿竖直方向延伸。
进一步，各所述承载台均包括有钝化处理的铁板，每一钝化处理的所述铁板的上表面为承载面，各所述载玻片均安装有磁铁。
进一步，所述框架底部具有用于收集废液的凹槽，所述框架底部的宽度大于所述承载面的宽度。
进一步，所述凹槽具有通孔。
进一步，所述通孔连接有导管，所述导管连接有废液桶。
进一步，各所述承载面的宽度之和小于所述框架的高度。
进一步，每一所述承载台具有0～90°的旋转角度。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种IHC/ICC样本处理装置，通过多个承载台可以吸附尽可能多的载玻片进行批量处理，降低了操作人员的工作量，且承载台可转动，能够方便浸泡、洗脱和烘干等操作；水平设置的转轴，使得每一个载物面与底座的底面平行时，载物面处于端平状态，可保证染液长时间浸泡样本，充分染色；设置连接件，再设置调节块，可以利用调节块带动连接件，进而驱使转轴转动，方便带动各个载物面同步转动；设置滑槽，可以方便调节块的运动；承载面的材质为铁，经过钝化处理，在各载玻片上安装磁铁，既可以将载玻片吸附在承载面上，又容易取下，方便快捷；框架底部设凹槽能够方便收集流向的废液，且框架底部宽度大于承载面的宽度，可防止废液流出框架污染桌面；框架底部设置通孔，便于废液从通孔流出；设置导管能够方便将废液导到废液桶收集；各个承载面的宽度之和小于框架的高度，可以保证每一个承载面处于与框架底面垂直的状态时互不干涉，进而实现承载台0～90°的旋转。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的一种IHC/ICC样本处理装置的结构示意图；
图2为本实用新型实施例提供的一种IHC/ICC样本处理装置的载玻片和磁铁的安装示意图；
附图标记中：1-框架；2-载玻片；20-磁铁；3-驱动机构；30-调节块； 31-滑槽；4-承载台；40-承载面；5-转轴；6-凹槽；7-导管；8-通孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1和图2，本实用新型实施例提供一种IHC/ICC样本处理装置，包括框架1、若干载玻片2、若干载物台以及驱动机构3，框架1为矩形框架 1，该框架1至少具有左、右、俯、仰四个面，左右面均为侧面，俯仰面分别顶面和底面，因此它可以放置在桌面上。我们需要处理的样本均可以放置在载玻片2上，每一个承载台4都有承载面40，这些载玻片2都可以吸附在承载面40上，每一个承载面40都可以放置多个载玻片2，多个承载面40就可以承载更多的载玻片2同时进行处理。每个承载台4通过转轴5与框架1可转动连接，驱动机构3可以驱使各个承载台4在框架1内同步转动。优选的，各个载物台的旋转角度在0～90°之间，它分为几个状态，当处于染液的加样操作状态时，旋转角度是0°，也就是载物台与底座的底面平行，这种状态的载物面处于端平状态，可保证染液长时间浸泡样本，充分染色；当处于洗脱或烘干操作状态时，旋转角度可以是45°，这样可可获得最大的清洗以及后续的烘干操作效果，缩短实验时间。采用本装置，不仅能够对样本进行批量处理，缩短了实验时间，减轻了操作员的工作量，而且还不用针对每一块载玻片2反复移动、拖拉，避免了样本受到污染。
以下为具体实施例：
优化上述方案，请参阅图1和图2，于每一个承载台4相对两侧均设置有沿远离承载台4方向水平延伸的转轴5，每一个承载的两根转轴5均与框架1 可转动连接，而且两根转轴5位于同一直线上，两根转轴5位于同一直线上，可使每一个载物面与底座的底面平行时，载物面处于端平状态，可保证染液长时间浸泡样本。当然，还可以只采用一根转轴5穿过承载台4，也能实现转动的目的。具体设计方式为：可在框架1的两侧由上到下分别设置若干第一成孔和若干第二成孔，各个第一成孔与各个第二成孔一一对应，每一个第一成孔与对应的第二成孔位于同一直线，且水平设置，两根转轴5就能够分别插入任意一个第一成孔和对应的第二成孔。如此，驱动机构3就只需给承载台4转动的力，它就能通过转轴5和成孔的配合转动起来。
进一步优化上述方案，请参阅图1和图2，驱动机构3包括可竖直移动的连接件，该连接件与位于同一侧的各个转轴5的圆周面连接。连接件可以是连接线，也可以是连接轴，每根转轴5都互相平行，且连接件竖直设置。采用这种方式，可实现每根转轴5的同步转动。也还可以采用齿轮啮合的方式，位于同一侧的各个转轴5均套有齿轮，相连的两个齿轮啮合，这样只需要转动其中一根转轴5即可实现所有的转轴5同步转动。
进一步优化上述方案，连接件连接有调节块30，并在框架1上设置滑槽 31，可以供调节块30在里面滑动，限制了滑槽31的方向是沿着竖直方向设置，人工滑动调节块30即可同步驱动所有的转轴5转动。若采用齿轮啮合的方式，可以利用电机驱动其中一根转轴5转动。
进一步优化上述方案，请参阅图1和图2，各个承载台4都包括钝化处理的铁板，每一个钝化处理的所述铁板的上表面即为承载面40。在各个载玻片2上都安装磁铁20，磁铁20可以吸在铁面上，从而将各个载玻片2固定在承载面40上，采用磁铁20吸附可以方便在处理完样本后，取下载玻片2。还可以采用胶水粘合的方式来将磁铁20吸附在承载面40上。
进一步优化上述方案，框架1底部设有用于收集废液的凹槽6，框架1底部的宽度大于承载面40的宽度，在进行洗脱时，废液如果不处理，会流到桌面上污染桌面，因此设计了凹槽6来收集废液，而且框架1底部的宽度大于承载面40的宽度，那么不管承载面40处于什么样的倾斜角度，它的废液落下来都不会超出框架1底部的范围。
进一步优化上述方案，请参阅图1和图2，凹槽6具有通孔8，废液可从通孔8处流出。上述的凹槽6的底面为坡面，该坡面的最低点靠近通孔8，也可以是曲面，它们都能够方便废液汇集到通孔8处，然后从通孔8处流出框架1。
进一步优化上述方案，请参阅图1和图2，通孔8连接有导管7，通过该导管7将废液导到废液桶中收纳起来，卫生干净。
进一步优化上述方案，请参阅图1和图2，各个承载面40的宽度之和小于框架1的高度，这么设计的目的是，当所有的承载面40均与框架1的底面垂直时，也就是承载台4转动到90°时，由于每个承载台4都是均匀分布的，所以只需要各个承载面40的宽度之和小于框架1的高度，各个承载台4之间就不会出现干涉，所有的承载台4都能够旋转到90°，若每个承载面40的宽度之和正好等于框架1的高度，那么所有的承载面40就会互相靠近形成一个平面，最大限度的加快废液从载玻片2上的脱离速度。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种IHC/ICC样本处理装置，包括框架以及可承载样本的若干载玻片，其特征在于：还包括可吸附各所述载玻片的若干承载台以及用于驱使各所述承载台在所述框架内同步转动的驱动机构；各所述承载台均具有承载面，所述承载面通过转轴与所述框架可转动连接；各所述承载台由上到下依次分布。
2.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：于每一所述承载台相对两侧均设置有沿远离所述承载台方向水平延伸的转轴，每一所述承载台的两根所述转轴均与所述框架可转动连接，且两根所述转轴位于同一直线上。
3.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：所述驱动机构包括可竖直移动的连接件，所述连接件与位于同一侧的各所述转轴的圆周面连接。
4.根据权利要求3所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：所述连接件连接有调节块，所述框架靠近所述连接件的一侧设有与所述调节块滑动连接的滑槽，所述滑槽沿竖直方向延伸。
5.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：各所述承载台均包括有钝化处理的铁板，每一钝化处理的所述铁板的上表面为承载面，各所述载玻片均安装有磁铁。
6.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：所述框架底部具有用于收集废液的凹槽，所述框架底部的宽度大于所述承载面的宽度。
7.根据权利要求6所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：所述凹槽具有通孔。
8.根据权利要求7所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：所述通孔连接有导管，所述导管连接有废液桶。
9.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：各所述承载面的宽度之和小于所述框架的高度。
10.根据权利要求1所述的一种IHC/ICC样本处理装置，其特征在于：每一所述承载台具有0～90°的旋转角度。
Priority Applications (1)
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